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公开(公告)号：CN101945711A
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN200980105271.0
申请日：2009-02-16
Applicant: P2I有限公司
Inventor： 马尔科姆·伍德科克
CPC classification number: C23C16/4481 , B05D1/60 , B05D1/62
Abstract: 一种用于将物质(12)输送至处理(室14)的输送系统(10)，其包括用于容纳由液体物质的源(18)供给的物质的物质容器(16)。加热装置(44)被设置用于加热液体物质。加热装置由导体(46)连接至加热控制单元(48)，该加热控制单元(48)是由控制装置(30)可操作的，以控制液体物质从容器(16)的蒸发。流动引导装置(22、24)引导所蒸发的物质流向处理室。
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公开(公告)号：CN1796005B
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN200510125328.7
申请日：2000-07-26
Applicant: 普拉斯蒂派克包装公司
Inventor： 威廉·A·斯莱特
CPC classification number: B05D1/62 , B05D7/227 , B29B2911/1402 , B29B2911/14026 , B29B2911/14033 , B29B2911/1404 , B29B2911/14053 , B29B2911/14066 , B29B2911/1408 , B29B2911/14093 , B29B2911/14106 , B29B2911/14113 , B29B2911/1412 , B29B2911/14133 , B29B2911/1416 , B29B2911/14186 , B29B2911/14213 , B29B2911/1424 , B29B2911/14266 , B29B2911/14326 , B29B2911/14328 , B29B2911/1433 , B29B2911/14331 , B29B2911/14332 , B29B2911/14333 , B29B2911/14335 , B29B2911/14336 , B29B2911/14337 , B29B2911/14426 , B29B2911/1444 , B29B2911/14466 , B29B2911/14593 , B29B2911/14646 , B29B2911/14993 , B29C49/0073 , B29C49/04 , B29C49/221 , B29C59/103 , B29C59/12 , B29C59/16 , B29C2035/0855 , B29C2049/027 , B29C2791/001 , B29K2077/00 , B29K2105/26 , B29K2995/0067 , B29K2995/0069 , B29L2031/7158 , B29L2031/716 , B32B27/08 , B65D23/02 , C23C16/045 , C23C16/26 , Y10T428/1352 , Y10T428/1379
Abstract: 一种吹塑容器(10)，具有抗渗性并包括具有开口(13)的上壁部；位于上壁部(12)下方的中间侧壁部(14)，以及位于中间侧壁部下方支持容器的底部(16)。该容器包括至少由40％回收塑料形成的具有内表面(22)和外表面的一模塑外层(24)，以及一碳涂层形成在外层(26)内表面并粘附其上且大体上与外层作同等扩张，其中所述碳涂层的厚度小于约10微米。
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公开(公告)号：CN101678611A
公开(公告)日：2010-03-24
申请号：CN200880020507.6
申请日：2008-06-16
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 松尾泰秀
CPC classification number: B41J2/161 , B05D1/62 , B05D3/065 , B05D3/142 , B29C59/14 , B29C65/02 , B29C65/1403 , B29C65/1406 , B29C65/1432 , B29C65/1483 , B29C65/1496 , B29C65/16 , B29C65/483 , B29C65/5021 , B29C65/5057 , B29C65/528 , B29C66/026 , B29C66/0322 , B29C66/034 , B29C66/1122 , B29C66/21 , B29C66/45 , B29C66/53461 , B29C66/54 , B29C66/71 , B29C66/73111 , B29C66/73112 , B29C66/73343 , B29C66/73365 , B29C66/8322 , B29C66/83221 , B29C66/91411 , B29C66/9161 , B29C66/919 , B29C66/9241 , B29C66/929 , B29C66/949 , B29C66/954 , B29C2035/0827 , B29C2035/0838 , B29C2035/0877 , B29K2023/12 , B29K2067/00 , B29K2077/00 , B29K2077/10 , B29K2081/04 , B29K2081/06 , B29L2031/767 , B41J2/14233 , B41J2/1433 , B41J2/1623 , B41J2002/14362 , C03C27/00 , C08J5/12 , C09J5/00 , C09J5/02 , Y10T428/24826 , B29K2069/00 , B29K2067/003 , B29K2033/12 , B29K2023/38
Abstract: 本发明的接合方法具有：在两个基材的表面上分别形成等离子体聚合膜的工序；向各等离子体聚合膜的表面的一部分的规定区域分别有选择地照射紫外光，使表面活化的工序；使各等离子体聚合膜的表面的活化的区域之间密接地贴合两个基材，由此在一方的等离子体聚合膜的紫外光照射区域和另一方的等离子体聚合膜的紫外光照射区域重合的部分将两个基材部分地接合，得到接合体的工序。
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公开(公告)号：CN101611100A
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：CN200780048614.5
申请日：2007-10-24
Applicant: P2I有限公司
Inventor： S·库尔森
IPC: C09D4/00 , B05D7/24 , C08F220/34 , C08F238/00
CPC classification number: C08F220/24 , B01L3/502707 , B01L2200/12 , B01L2300/165 , B05D1/62 , B05D5/083 , C09D4/00
Abstract: 一种微加工装置或其部件，如微米流体或纳米流体装置，所述装置或其部件具有通过离子化或活化技术(如等离子处理)在其表面上形成的均匀非湿润或非吸收改性聚合物涂层或表面，以产生小于15mNm－1的表面能。处理增强液体在使用期间通过装置自由流动的性质。
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公开(公告)号：CN100562372C
公开(公告)日：2009-11-25
申请号：CN200580015539.3
申请日：2005-05-13
Applicant: 陶氏康宁爱尔兰有限公司
CPC classification number: B05D1/62 , Y10T428/249921
Abstract: 在基材上形成含活性材料的涂层的方法，所述方法包括以下步骤：i)将在等离子体环境内经历化学键形成反应的一种或多种气态或雾化液体和/或固体涂层形成材料和在等离子体环境内基本上不会经历化学键形成反应的一种或多种活性材料引入大气压或低压非热平衡等离子体放电和/或由所述等离子体放电得到的受激气流中，和ii)让基材暴露在雾化的涂层形成材料和至少一种所述材料沉积到所述基材表面上活性材料的所得混合物中而形成涂层；其中，所述基材不是家用护理或脱毛护理或水溶性家用清洁单元剂量产品的擦拭物、布或海绵。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101514448A
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN200810107492.9
申请日：2008-12-21
Applicant: 肖特股份公司
IPC: C23C16/52 , C23C16/455 , C23C16/50
CPC classification number: C23C16/52 , B05D1/60 , B05D1/62 , B05D7/22 , B05D2203/35 , C23C16/045 , C23C16/448 , G01F1/684 , G01F13/00 , G05D7/0635
Abstract: 本发明涉及一种在工件(30)上制备涂层的方法，其中对至少一种用于制备涂层的组分的用量进行计量，其中在计量过程中该组分处于液相，并在随后的处理步骤中至少部分转变为不同的聚集态。
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公开(公告)号：CN101484249A
公开(公告)日：2009-07-15
申请号：CN200780019292.1
申请日：2007-03-26
Applicant: 罗伯特·博世有限公司
IPC: B05D7/24 , B05D7/22 , B05D3/14 , C23C16/04 , C23C16/452
CPC classification number: C23C16/045 , B05D1/62 , B05D3/144 , B05D7/227 , C23C16/452
Abstract: 本发明涉及一种用于对容器或物品进行表面处理的方法和装置，其中，所述待处理的表面在至少一个方法步骤中经历功能等离子体(4)和/或在另一方法步骤中经历涂覆用的等离子体(7)。所述功能等离子体(4)和涂覆用的等离子体(7)优选由相同的等离子体源(2)产生，该等离子体源布置在容器或物品(1)的内部或外部。
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公开(公告)号：CN101450995A
公开(公告)日：2009-06-10
申请号：CN200810182570.1
申请日：2008-12-05
Applicant: 成均馆大学校产学协力团
IPC: C08G77/50 , C23C16/44 , C23C16/56 , H01L21/312 , H01L21/768
CPC classification number: B05D1/62 , B05D3/0254
Abstract: 本发明公开了一种低介电常数等离子聚合薄膜，其使用直链有机/无机前驱体的低介电常数等离子聚合薄膜和通过等离子增强化学气相沉积和使用RTA装置退火来制造。该低介电常数等离子聚合薄膜由于具有非常高的热稳定性、低的介电常数和优良的机械性能，可有效用于具有该薄膜结构的多层金属薄膜的制备。
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公开(公告)号：CN100469943C
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN03811895.5
申请日：2003-05-26
Applicant: 肖特股份公司
Inventor： S·贝勒 , A·李特林格豪斯-亨克尔 , G·阿诺尔德 , M·比克尔 , J·克雷恩
CPC classification number: C23C16/54 , B05D1/62 , B08B7/00 , B29C49/421 , B29C2049/4221 , B29C2791/001 , B65D23/02 , B65G2201/0244 , C08J9/0004 , C08J2300/14 , C23C16/029 , C23C16/045 , C23C16/402 , H01J37/32733
Abstract: 本发明涉及一种用于中空体涂覆，特别是用于通过PICVD进行的塑料饮料瓶内部涂覆的装置和方法。本发明的一个目的是确保灵活的工序、高产量、改良的流体供应和高质量的涂层。本发明特别提出了一种回转式的装置，该装置包括一个具有用于在各种情况下容纳至少一个工件的两个反应器的处理设备，一个流体供应装置，和至少一个能够用于控制向处理设备的流体供应的流体控制设备。优选将真空泵安装在回转体上，以使它们一同旋转。
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公开(公告)号：CN100466187C
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：CN200580037637.7
申请日：2005-10-26
Applicant: 兰姆研究公司
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B08B7/0035 , B05D1/62 , H01J37/32559 , H01L21/31116
Abstract: 提供了在等离子体处理室的硅或碳化硅电极上形成保护性聚合物涂层的方法。相对于对等离子体和气体反应剂组分的暴露，聚合物涂层对下面的电极表面提供保护。所述方法可以在清洗室的处理期间，或在室中蚀刻半导体基材的处理期间进行。
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