Abstract:
CdTe 박막계 태양 전지는 투명 기판, 상기 투명 기판 상에 형성된 그래핀 박막, 상기 그래핀 박막 상에 형성된 카드뮴텔룰라이드(CdTe) 박막 및 상기 카드뮴텔룰라이드 박막 상에 형성된 윈도우 박막을 포함한다. 따라서, 상기 CdTe 박막이 형성될 경우 별도의 시드층 없이 상기 CdTe 박막이 상기 그래핀 박막 상에 직접 형성될 수 있다.
Abstract:
PURPOSE: A silicon heterojunction solar cell manufacturing method using an ion shower method is provided to minimize plasma damage by forming an emitter and a rear electric field using an ion shower doping device. CONSTITUTION: A crystalline silicon substrate is prepared(S310). An amorphous buffer layer is formed on the front of the crystalline silicon substrate(S320). An emitter is formed on the front of the crystalline silicon substrate by using an ion shower method(S330). A rear electric field is formed on the rear of the crystalline silicon substrate by using the ion shower method(S340). The crystalline silicon substrate with the emitter and the rear electric field is thermally processed(S350).
Abstract:
본 발명은 유도전류 장치를 이용한 실리콘 태양전지의 제조 방법에 관한 것으로, 제1 타입 결정질 실리콘 기판 상부에 에미터가 되는 제2 타입 실리콘층을 형성하는 단계와, 상기 제2 타입 실리콘층 상부에 패시베이션막 또는 반사방지막을 형성하는 단계와, 상기 패시베이션막 또는 반사방지막 상부에 전면 금속전극을 형성하고, 상기 제1 타입 결정질 실리콘 기판 하부에 후면 금속전극을 순차적으로 형성하는 단계와, 유도전류 장치를 이용하여 상기 전면 금속전극에 선택적으로 열처리(Firing)하는 단계 및 상기 제1 타입 결정질 실리콘 기판 하부에 후면금속전극 접촉 및 후면전계를 형성하는 단계를 제공하는 발명에 관한 것이다.
Abstract:
PURPOSE: A photovoltaic module having corrosion resistance is provided to minimize the reduction of a current and a voltage by preventing serial resistance from increasing at a spot where a ribbon and a cell are connected. CONSTITUTION: An interconnector ribbon(4) connects cells in a solar cell(3). An anode for a protection method is attached on the interconnector ribbon. The interconnector ribbon is made of a copper electrode which is coated with a SN-PB(Stannum-Plumbum) alloy. The anode for the protection method is a sacrificial anode. The sacrificial anode is a metal having bigger ionization tendency than the interconnector ribbon.
Abstract:
태양전지 제조에 이용되는 레이저 식각장치 및 이를 이용한 공극 형성 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 측면에 따르면, 태양전지 제조 시 후면 패시베이션층에 공극을 형성하기 위한 레이저 식각장치에 있어서, 상기 후면 패시베이션층이 형성된 태양전지의 실리콘 기판을 거치하는 스테이지부와, 실리콘 기판의 특성에 따라 조정된 레이저 빔을 발진하는 레이저 발진부와, 공극의 크기와 모양에 따라 레이저 빔의 스폿의 크기와 모양을 변형하는 빔 형성부와, 하나 이상의 공극이 배열된 공극 패턴에 따라 레이저 빔이 공극의 위치에 조사되도록 스캔하는 스캔부와, 스캔부에 의해 스캔된 레이저 빔을 집광하여 조사하는 투영부를 포함하는 레이저 식각장치에 의하면, 고효율의 박형화된 태양전지를 제조하는 과정에서 사진 식각 기술 대신에 레이저 식각 기술을 이용하여 보다 단순화된 공정을 통해서 후면 패시베이션층에 공극 패턴을 형성� � 수 있다. 태양전지, 레이저, 식각, 패시베이션
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PURPOSE: A silicon hetero junction solar cell and a manufacturing method thereof are provided to improve an electric property by forming a diffusion preventing layer between an amorphous silicon layer and a transparent conductive oxide layer. CONSTITUTION: A second type amorphous silicon film(530a) is formed on the front of a first type crystal silicon substrate. The second type amorphous silicon film includes a second type semiconductor material which forms a P-N junction structure with a first type semiconductor material. A first diffusion preventing layer is formed by rapid thermal anneal at 200 to 300 degrees centigrade after a TiO2 is spread on the second type amorphous silicon film. A first transparent conductive oxide layer(550a) is formed on the front of the first diffusion preventing layer. A front electrode(560a) is electrically connected to the second type amorphous silicon film. A rear electrode is electrically connected to the first type crystal silicon substrate.
Abstract:
태양전지용 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링 방법 및 이에 의하여 텍스쳐링된 태양전지용 실리콘 웨이퍼가 제공된다. 본 발명에 따른 태양전지용 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링 방법은 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐링을 위한 화학적 식각 공정에 있어서, 식각 용액에 가해지는 압력을 상압 미만의 저압으로 조절하는 단계를 포함한다. 본 발명에 의한 저압에서의 텍스쳐링 공정을 통해 효과적으로 수소 기체의 차단 효과를 제거함으로써 실리콘 웨이퍼 표면에 보다 규칙적이고 작은 피라미드를 형성한다. 종래 기술에 비하여 피라미드의 사이즈는 약 2∼3마이크로미터 감소하였고 RMS 조도도 약 200nm 감소하여 개선된 표면상태를 얻었으며 반사도 또한 전 파장범위에서 약 2∼3% 감소한다.
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태양전지 및 그 제조방법이 제공된다. 본 발명에 따른 태양전지 제조방법은 (a) 제 1형 불순물을 포함하며 상호 이격된 복수의 금속전극을 제 2형 불순물을 포함하는 기판 상에 형성하는 단계; (b) 상기 복수의 금속전극 사이의 기판 상에 제 1형 불순물을 포함하는 페이스트를 적층하는 단계; (c) 상기 금속전극 및 페이스트를 가열하여 제 1형 불순물을 함유하는 에미터층을 상기 기판에 형성하는 동시에 상기 금속전극을 소결시키는 단계; 및 (d) 상기 기판 및 금속전극상에 반사방지막을 적층하는 단계를 포함하며, 하나의 가열 공정을 통하여 기판의 에미터층 형성 및 전면 전극의 소결 공정을 동시에 진행할 수 있으므로, 매우 경제적이고, 전면 전극 내에 포함된 불순물을 이용하여 전면전극 하부의 에미터층을 형성하므로, 종래 기술과 같이 공정 조건에 따라 전면전극이 기 형성된 에미터층에 접촉하지 않거나, 베이스층에 접촉함으로써 발생하는 션트 등의 문제를 방지할 수 있다.
Abstract:
태양전지 및 그 제조방법이 제공된다. 본 발명에 따른 태양전지 제조방법은 제 1 전극용 금속 전사지 상에 실리콘 기판을 적층하는 단계; 상기 실리콘 기판상에 제 2 전극용 금속 전사지를 적층하는 단계; 제 1 및 제 2 전극용 금속 전사지를 소성함으로써, 제 1 및 제 2 전극용 금속 전사지를 상기 기판상에 접착시키는 단계를 포함하며, 박막형의 실리콘 기판에 대한 물리적 손상을 최소화시킬 수 있고, 또한 배치 타입의 태양전지의 제조가 가능하므로, 공정의 경제성 또한 향상된다.
Abstract:
PURPOSE: A method for preparing back point contact solar cell using ink-jet printing and a back point contact solar cell using the same are provided to minimize the physical damage to ultra-thin silicon substrate by using a non-contact way ink jet printing. CONSTITUTION: A silicon oxidation layer(14) has an opening(42) for a P region(43) and an N region. A metallic ink composition is printed on the P region and the N region through an ink jet printing. A first metal electrode(50) and a second metal electrode(52) are formed by sintering the metallic ink composition. Three group element is the boron and five group element is phosphorus. A recessive electrode is formed by printing metallic ink composition around a recess.