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公开(公告)号：KR100458285B1
公开(公告)日：2004-11-26
申请号：KR1020020078353
申请日：2002-12-10
IPC: G02B6/40
Abstract: PURPOSE: A method for fabricating a V-groove structure using a photoresist is provided to replace a prior silicon V-groove with a slant micro V-groove structure using the photoresist on a wafer. CONSTITUTION: According to the method for fabricating a V-groove(12) structure using a photoresist(16), a photo mask is placed on a substrate(13) coated with a photoresist and then it is exposed to light(14) slantly. It is exposed twice by changing an incident angle of the light and thus a slant side has a different angle. The substrate coated with a photoresist is exposed using a gray level mask(17) by controlling the penetration of the exposure light differently, and thus the V-groove structure is fabricated by making the exposure light be incident vertically and by controlling an intensity of the light.
Abstract translation: 目的：提供使用光致抗蚀剂制造V形槽结构的方法，以使用晶圆上的光致抗蚀剂代替具有倾斜微V形槽结构的现有硅V形槽。 组成：根据使用光致抗蚀剂（16）制造V型槽（12）结构的方法，将光掩模置于涂有光致抗蚀剂的基片（13）上，然后将其倾斜曝光（14）。 它通过改变光的入射角而暴露两次，因此斜面具有不同的角度。 使用灰度级掩模（17）通过不同地控制曝光光线的穿透来曝光涂覆有光致抗蚀剂的基板，并且因此通过使曝光光垂直入射并且通过控制曝光光线的强度来制造V形凹槽结构 光。
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公开(公告)号：KR100402990B1
公开(公告)日：2003-10-23
申请号：KR1020010066260
申请日：2001-10-26
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: G02B26/00
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing an optical switch by using an ultraviolet rays LIGA technique is provided to prevent the generation of crack due to the relatively small residual stress by utilizing a polymer as a photo resist material during the manufacture of the optical switch, thereby improving the adhesion to the ground layer. CONSTITUTION: A method for manufacturing an optical switch by using an ultraviolet rays LIGA technique includes the steps of: forming an oxidation layer(20) on a semiconductor substrate(10) to a predetermined thickness, forming a polymer thick layer(30) on the oxidation layer(20) formed on the semiconductor substrate(10) by using the polymer as the photo resist material, removing a solvent resided at the formed polymer thick layer(30) by a soft baking, initializing so as to combine of a material consisting of the polymer thick layer(30) by implementing a photolithography on a negative type mask after the soft baking, accelerating the combination of the material of the initialized polymer thick layer by a post baking after the process of the photolithography, developing so as to pattern a specific region of the polymer thick layer(30) to a predetermined thickness after the post baking, depositing an electroplating material on the patterned region of the polymer thick layer(30) and etching the resided photo resist material by using a conventional removing material after the deposition of the electroplating material.
Abstract translation: 目的：提供一种通过使用紫外线LIGA技术制造光学开关的方法，以防止在制造光学开关期间利用聚合物作为光致抗蚀剂材料而由于相对较小的残余应力而产生裂纹，由此改善 对地面层的附着力。 本发明提供了一种利用紫外线LIGA技术制造光开关的方法，该方法包括以下步骤：在半导体衬底（10）上形成预定厚度的氧化层（20），在该半导体衬底（10）上形成聚合物厚层（30） 通过使用聚合物作为光致抗蚀剂材料在半导体基板（10）上形成氧化层（20），通过软烘烤除去驻留在形成的聚合物厚层（30）处的溶剂，初始化以组合由 通过在软烘烤之后在负型掩模上实施光刻，在光刻工艺之后通过后烘焙加速已初始化的聚合物厚层的材料的组合，进行显影以形成图案，从而形成聚合物厚层（30） 在后烘烤之后将聚合物厚层（30）的特定区域固定到预定厚度，在聚合物厚层（30）的图案化区域上沉积电镀材料， 在沉积电镀材料之后通过使用常规去除材料来沉积驻留的光致抗蚀剂材料。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100401553B1
公开(公告)日：2003-10-17
申请号：KR1020010035360
申请日：2001-06-21
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L21/027
Abstract: PURPOSE: An exposure apparatus for equatorial conformation using mirror reflection is provided to form a three-dimensional micro structure by using MEMS(Micro Electro Mechanical System) method. CONSTITUTION: A lamp cooling apparatus(20) has a reflective shade(22) and a parallel light lamp(24). An optical tube(30) is connected with the lamp cooling apparatus(20). A plurality of reflective mirrors(32a,32b,32c,32d,32e,32f), a fly eye lens(34), a plate lens(36), and a collimating lens(38) are installed in the inside of the optical tube(30). A shutter(39) is installed at an end portion of the optical tube(30) in order to control a degree of exposure of parallel light. A couple of mirror angle correctors(33a,33b) are installed at the reflective mirrors(32a,32b,32c,32d,32e,32f) in order to correct an angle of a mirror.
Abstract translation: 目的：提供使用镜面反射的赤道构造的曝光设备，以通过使用MEMS（微电子机械系统）方法形成三维微结构。 构成：灯冷却装置（20）具有反光罩（22）和平行灯（24）。 光管（30）与灯冷却装置（20）连接。 多个反射镜（32a，32b，32c，32d，32e，32f），复眼透镜（34），平板透镜（36）和准直透镜（38）安装在光管 （30）。 快门（39）安装在光管（30）的端部，以控制平行光的曝光程度。 在反射镜（32a，32b，32c，32d，32e，32f）处安装一对镜角度校正器（33a，33b）以校正反射镜的角度。
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公开(公告)号：KR1020030059420A
公开(公告)日：2003-07-10
申请号：KR1020010088281
申请日：2001-12-29
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: G02F1/1335
Abstract: PURPOSE: A three-dimensional MEMS(Micro Electro Mechanical System) light collection plate and a method for manufacturing the same, and a display device using the pumping optics are provided to reduce light loss on an optical path of light, thereby improving the efficiency and transmissivity of the light. CONSTITUTION: A plurality of feed horns(65) is formed length and breadth. A upper aperture ratio of each feed horns is different from a lower aperture ratio. Light emitted from a back light unit(10) reaches a glass substrate(50) through the plurality of feed horns of a light collection plate(20). The light bumped against a wall of the light collection plate is reflected and reached to the glass substrate via a liquid crystal plate(40), so that the light is interrupted due to areas of thin film transistors(30).
Abstract translation: 目的：提供三维MEMS（微机电系统）光收集板及其制造方法和使用泵浦光学元件的显示装置，以减少光路上的光损失，从而提高效率和 光的透射率。 构成：多个饲料角（65）形成长度和宽度。 每个馈电喇叭的上开口率与较低的开口率不同。 从背光单元（10）发射的光通过聚光板（20）的多个馈送喇叭抵达玻璃基板（50）。 撞在集光板的壁上的光经由液晶板（40）反射并到达玻璃基板，使得由于薄膜晶体管（30）的面积而中断光。
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公开(公告)号：KR1020020097426A
公开(公告)日：2002-12-31
申请号：KR1020010035360
申请日：2001-06-21
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L21/027
Abstract: PURPOSE: An exposure apparatus for equatorial conformation using mirror reflection is provided to form a three-dimensional micro structure by using MEMS(Micro Electro Mechanical System) method. CONSTITUTION: A lamp cooling apparatus(20) has a reflective shade(22) and a parallel light lamp(24). An optical tube(30) is connected with the lamp cooling apparatus(20). A plurality of reflective mirrors(32a,32b,32c,32d,32e,32f), a fly eye lens(34), a plate lens(36), and a collimating lens(38) are installed in the inside of the optical tube(30). A shutter(39) is installed at an end portion of the optical tube(30) in order to control a degree of exposure of parallel light. A couple of mirror angle correctors(33a,33b) are installed at the reflective mirrors(32a,32b,32c,32d,32e,32f) in order to correct an angle of a mirror.
Abstract translation: 目的：提供使用镜面反射的赤道构象的曝光装置，通过使用MEMS（微机电系统）方法形成三维微结构。 构成：灯冷却装置（20）具有反射罩（22）和平行灯（24）。 光管（30）与灯冷却装置（20）连接。 多个反射镜（32a，32b，32c，32d，32e，32f），蝇眼透镜（34），平板透镜（36）和准直透镜（38）安装在光学管 （30）。 为了控制平行光的曝光程度，在光学管（30）的端部安装有挡板（39）。 为了校正反射镜的角度，在反射镜（32a，32b，32c，32d，32e，32f）处安装有一对镜面角度校正器（33a，33b）。
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公开(公告)号：KR100329241B1
公开(公告)日：2002-03-18
申请号：KR1020000023920
申请日：2000-05-04
Applicant: 한국과학기술연구원
Abstract: 본 발명은 적외선 감지층으로 이용되는 다층 구조의 산화바나듐막(V
2 O
5 ) 제조 방법에 관한 것으로, 다층박막법을 이용하여 V
2 O
5 /V/V
2 O
5 의 샌드위치 구조를 증착한 후 저온 열처리를 통한 확산 공정에 의해 박막의 재현성 및 특성 조절이 용이하도록 하는 다층박막법을 이용한 반도체 소자의 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 기존의 제조 방식인 스퍼터링법을 이용한 단층의 산화바나듐 박막 제조방법이 스퍼터링 장비가 갖는 재현성의 한계 때문에 박막 특성의 재현성 확보가 어려웠으나, 스퍼터링 장비의 재현성 한계 내에서 제조 가능한 안정상 인 산화바나듐막과 바나듐금속막의 복합구조를 제조한 후 저온에서 열처리하여 확산시킨다.
따라서, 본 발명은 재현성 있고 우수한 적외선 흡수능을 갖는 혼합 바나듐산화 박막 제조가 가능하며, 적외선 감지소자의 성능을 향상시킬 수 있다.-
公开(公告)号：KR1020010100604A
公开(公告)日：2001-11-14
申请号：KR1020000023921
申请日：2000-05-04
Applicant: 한국과학기술연구원
IPC: H01L27/146
Abstract: 본 발명은 초소형 3차원 수신안테나 어레이 구조의 일체형 적외선 이미지소자에 관한 것으로, MEMS의 여러 기술을 이용하여 3차원의 수신안테나 어레이 구조체를 형성한 후 이를 적외선 감지소자 어레이와 접합시켜 일체화된 형태의 적외선 이미지 감지소자를 제조함으로서 적외선 감지소자의 성능을 향상시킬 수 있는 일체형 적외선 이미지소자 및 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 반도체기판 상부에 절연막, 감광막 및 금속막이 순차적으로 적층된 상태에서 금속막에서부터 절연막까지 소정 부분이 식각되어 형성된 콘택 부위에는 원형의 상면으로부터 아래로 내려 갈수록 원형의 직경이 작아져서 하면의 수직 벽면에 원기둥 형태의 웨이브가이드가 형성되어 있으며, 웨이브 가이드 내부에는 반도체기판의 콘택부위로부터 돌출되는 적외선 감지소자가 구비되어 있다.
따라서, 기존의 마이크로웨이브 영역에서 사용되어 오던 안테나들을 대체할 수 있으며, 고성능의 적외선 이미지소자 분야 및 마이크로 웨이브영역에서 사용되는 모든 초고주파 소자에도 적용할 수 있다.
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