公开(公告)号：WO2011068064A1

公开(公告)日：2011-06-09

申请号：PCT/JP2010/070944

申请日：2010-11-24

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  小池 章夫 ,  三森 喬宏 ,  小川 朝敬

Inventor： 小池　章夫 ,  三森　喬宏 ,  小川　朝敬

IPC: C03C3/06 ,  C03B20/00 ,  C03C3/089 ,  C03C3/097 ,  G03F1/16 ,  H01L21/027

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/42 ,  C03B2201/50 ,  C03C2201/10 ,  C03C2201/20 ,  C03C2201/28 ,  C03C2201/42

Abstract: 　本発明は、ＴｉＯ 2 を５～１０質量％含有し、Ｂ 2 Ｏ 3 、Ｐ 2 Ｏ 5 およびＳのうち、少なくとも一つを合計含有量で５０質量ｐｐｂ～５質量％含有する、ＴｉＯ 2 を含有するシリカガラスに関する。

Abstract translation: 公开了含有TiO 2的二氧化硅玻璃，其含有5-10质量％的TiO 2，同时含有总共为50ppb〜5质量％的B 2 O 3，P 2 O 5或S中的至少一种。

公开(公告)号：WO2010134449A1

公开(公告)日：2010-11-25

申请号：PCT/JP2010/057978

申请日：2010-05-11

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  小池 章夫 ,  三森 喬宏 ,  岩橋 康臣 ,  小川 朝敬

Inventor： 小池　章夫 ,  三森　喬宏 ,  岩橋　康臣 ,  小川　朝敬

IPC: C03B32/00 ,  C03B20/00 ,  C03B25/00 ,  C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  G03F1/16 ,  H01L21/027

CPC classification number: C03B25/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  G03F1/24 ,  Y02P40/57 ,  Y10T428/24355

Abstract: 　本発明は、透明ガラス化後のＴｉＯ ２ －ＳｉＯ ２ ガラス体の徐冷点をＴ １ （℃）とするとき、透明ガラス化後のガラス体をＴ １ ＋４００℃以上の温度で２０時間以上加熱する工程と、該加熱する工程後のガラス体をＴ １ （℃）からＴ １ －４００（℃）まで平均降温速度１０℃／ｈｒ以下で冷却する工程と、を含む、ＴｉＯ ２ －ＳｉＯ ２ ガラス体の製造方法に関する。

Abstract translation: 本发明公开了一种TiO 2 -SiO 2玻璃体的制造方法，其特征在于，将透明玻璃化后的TiO 2 -SiO 2玻璃体在不低于T1 + 400℃的温度下加热20小时以上， 将加热工序后的玻璃体从T1（℃）冷却至T1〜400（℃）的平均冷却速度为10℃/小时以下的工序，T1（℃）为 透明玻璃化后TiO2-SiO2玻璃体的退火点。

公开(公告)号：WO2010082586A1

公开(公告)日：2010-07-22

申请号：PCT/JP2010/050286

申请日：2010-01-13

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  小池 章夫 ,  民辻 慎哉 ,  渡邉 邦夫 ,  小川 朝敬

Inventor： 小池　章夫 ,  民辻　慎哉 ,  渡邉　邦夫 ,  小川　朝敬

IPC: C03C3/06 ,  C03B20/00 ,  G02B1/00 ,  G03F1/16 ,  H01L21/027

CPC classification number: C03B19/1461 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  G03F1/24 ,  G03F1/60

Abstract: 　本発明は、ＴｉＯ ２ 濃度が３～１０質量％、Ｔｉ ３＋ 濃度が１００ｗｔｐｐｍ以下、０～１００℃での熱膨張係数ＣＴＥ ０～１００ が０±１５０ｐｐｂ／℃であり、４００～７００ｎｍの波長域で厚さ１ｍｍあたりの内部透過率Ｔ ４００～７００ が８０％以上であるＴｉＯ ２ を含有するシリカガラスからなる光学部材であって、光学使用面におけるＴｉ ３＋ 濃度の平均値に対するＴｉ ３＋ 濃度のばらつきの割合ΔＴｉ ３＋ ／Ｔｉ ３＋ が０．２以下である、光学部材に関する。

Abstract translation: 一种光学构件，其包含含有TiO 2的二氧化硅玻璃，所述玻璃的TiO 2浓度为3-10质量％，Ti 3+浓度为100重量％。 ppm或更低，0-100℃，CTE0-100，0±150ppb /ºC的热膨胀系数，400-700nm，T400-700的波长范围内的内部透射率为80％以上 mm的厚度。 在用于光学目的的表面中，Ti 3+浓度不均匀与平均Ti 3+浓度，Ti 3+ / Ti 3+的比例为0.2以下。

公开(公告)号：WO2009107869A1

公开(公告)日：2009-09-03

申请号：PCT/JP2009/054223

申请日：2009-02-27

Applicant: ASAHI GLASS CO., LTD. ,  KOIKE, Akio ,  IWAHASHI, Yasutomi ,  KIKUGAWA, Shinya

Inventor： KOIKE, Akio ,  IWAHASHI, Yasutomi ,  KIKUGAWA, Shinya

IPC: C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  C03B19/14

CPC classification number: C03B19/1461 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/12 ,  C03C2203/46 ,  C03C2203/52 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57

Abstract: The present invention provides a TiO 2 -SiO 2 glass whose coefficient of linear thermal expansion upon irradiation with high EUV energy light is substantially zero, which is suitable as an optical member of an exposure tool for EUVL. The present invention relates to a TiO 2 -containing silica glass having a halogen content of 100 ppm or more; a fictive temperature of 1,100 °C or lower; an average coefficient of linear thermal expansion in the range of from 20 to 100 °C of 30 ppb/°C or lower; a temperature width DT, in which a coefficient of linear thermal expansion is 0 ± 5 ppb/°C, of 5°C or greater; and a temperature, at which a coefficient of linear thermal expansion is 0 ppb/°C, falling within the range of from 30 to 150 °C.

Abstract translation: 本发明提供了一种TiO 2 -SiO 2玻璃，其在高EUV能量光照射时的线性热膨胀系数基本为零，这适合作为EUVL用曝光工具的光学部件。 本发明涉及卤素含量为100ppm以上的含TiO 2的二氧化硅玻璃， 假想温度为1100℃以下; 在20〜100℃范围内的平均线性热膨胀系数为30ppb /℃以下; 其中线性热膨胀系数为0±5ppb /℃的温度宽度DT为5℃以上; 线膨胀系数为0ppb /℃的温度在30〜150℃的范围内。

公开(公告)号：WO2006112003A1

公开(公告)日：2006-10-26

申请号：PCT/JP2005/007078

申请日：2005-04-12

Applicant: 東洋ガラス株式会社 ,  松村宏善 ,  鈴木太郎 ,  阿知波徹

Inventor： 松村宏善 ,  鈴木太郎 ,  阿知波徹

IPC: C03B37/016 ,  C03B8/02 ,  G02B3/00

CPC classification number: G02B3/0087 ,  C03B19/12 ,  C03B23/047 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/42 ,  C03B2203/26

Abstract: 半径方向に屈折率分布付与金属の濃度が異なる濃度分布を付与したウエットゲルを形成するステップと、該ウエットゲルを乾燥して嵩比重ρ（ｇ／ｃｍ ３ ）のドライゲルを形成するステップと、該ドライゲルを焼結してＧＲＩＮレンズ母材を形成するステップと、該ＧＲＩＮレンズ母材を加熱しながら引き伸ばすステップを有するＧＲＩＮレンズの製造方法であって、前記ドライゲルを焼結するステップにおいて、８００°C以上での焼結時の酸素分圧が１０ －１ Ｐａ以下であり、かつ、１０００～１１５０°Cでの焼結時における昇温速度ｖ（°C／ｈ）とドライゲルの嵩密度ρとが ｖ≦１０ ５ ＊EXP｛－１２ρ} の関係であることを特長とするＧＲＩＮレンズの製造方法である。 　これにより、開口数が大きく、小径のＧＲＩＮレンズを安定して容易に製造することが可能となる。

Abstract translation: 一种GRIN透镜的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：以使得折射率分布诱导金属的浓度径向变化的浓度分布来生产湿凝胶; 将湿凝胶干燥成干凝胶？ 体积比重（g / cm 3）; 将干凝胶烧结成GRIN镜片的母材; 并在加热之前拉制GRIN透镜的母材，其特征在于，在干凝胶烧结步骤中，在800℃下烧结期间的氧分压为= 10〜 在1000〜1150℃的烧结过程中，升温速率v（℃/ h）和干凝胶体积密度， 满足关系：v = 10＆lt; 5＆gt; * EXP {-12？}。 因此，可以通过简单的程序稳定地制造具有大数值孔径的小直径的GRIN透镜。

公开(公告)号：WO2006004169A1

公开(公告)日：2006-01-12

申请号：PCT/JP2005/012519

申请日：2005-06-30

Applicant: ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED ,  KOIKE, Akio ,  IWAHASHI, Yasutomi ,  TAKIMOTO, Yasuyuki ,  KIKUGAWA, Shinya

Inventor： KOIKE, Akio ,  IWAHASHI, Yasutomi ,  TAKIMOTO, Yasuyuki ,  KIKUGAWA, Shinya

IPC: C03C3/06

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42

Abstract: It is to provide a silica glass containing TiO 2 , having a wide temperature range where wherein the coefficient of thermal expansion becomes is substantially zero. A silica glass containing TiO 2 , which has a TiO 2 concentration of from 3 to 10 mass%, a OH group concentration of at most 600 mass ppm and a Ti 3+ concentration of at most 70 mass ppm, characterized by having a fictive temperature of at most 1,200°C, a coefficient of thermal expansion from 0 to 100°C of 0±150 ppb/°C , and an internal transmittance T 400-700 per 1 mm thickness in a wavelength range of from 400 to 700 nm of at least 80%. A process for producing a silica glass containing TiO 2 , which comprises porous glass body formation step, F-doping step, oxygen treatment step, densification step and vitrification step.

Abstract translation: 提供含有TiO 2的二氧化硅玻璃

公开(公告)号：WO2005066090A1

公开(公告)日：2005-07-21

申请号：PCT/JP2004/019834

申请日：2004-12-28

Applicant: ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED ,  IWAHASHI, Yasutomi ,  KOIKE, Akio

Inventor： IWAHASHI, Yasutomi ,  KOIKE, Akio

IPC: C03C3/06

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/30 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/50 ,  C03C2203/54

Abstract: A silica glass containing from 3 to 10 mass% of TiO 2 , which has a coefficient of thermal expansion from 0 to 100 °C, i.e. CTE 0 to 100 , of 0 ± 300 ppb/ °C and an internal transmittance per mm in thickness within a wavelength region of from 200 to 700 nm, i.e. T 200 to 700 , of at most 80%.

Abstract translation: 含有3〜10质量％的TiO 2的二氧化硅玻璃，其热膨胀系数为0〜100℃，即CTE0〜100，为0±300ppb /℃，内部透射率为每1mm厚度 波长范围为200至700nm，即T 200至700，最多为80％。

公开(公告)号：WO2004092082A1

公开(公告)日：2004-10-28

申请号：PCT/JP2004/005204

申请日：2004-04-12

Applicant: 株式会社ニコン ,  藤原 誠志

Inventor： 藤原 誠志

IPC: C03B8/04

CPC classification number: G03F7/70958 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/40 ,  G03F1/60

Abstract: 　SiO ２ -TiO ２ 系ガラスを火炎加水分解法により製造する方法であって、SiO ２ のガス状前駆体とTiO ２ のガス状前駆体を乱流状態で混合してバーナの中心管から層流状態で供給し、その周りの管から酸素又は酸素含有気体と水素又は水素含有気体とを供給して燃焼させ、加熱された前記SiO ２ のガス状前駆体とTiO ２ のガス状前駆体とを、平板状の耐熱性基体からなるターゲットに当てて、堆積・溶融せしめてSiO ２ -TiO ２ 系ガラスを得るガラス成長工程を含む、SiO ２ -TiO ２ 系ガラスの製造方法。

Abstract translation: 通过火焰水解法制备SiO 2 -TiO 2基玻璃的方法，其包括玻璃生长方法，其中将SiO 2的气体前体和TiO 2的气态前体以湍流状态混合，所得混合物从中心 在层流中的燃烧器管，氧气或含有氧气和氢气的气体或含有氢气的气体从其周围的管道供应并被燃烧，被加热的SiO 2气态前体和TiO 2的气体前体被撞击到 平面和耐热基底，通过沉积和熔融在靶上形成SiO 2 -TiO 2基玻璃。

公开(公告)号：WO2002094726A1

公开(公告)日：2002-11-28

申请号：PCT/US2002/013319

申请日：2002-04-25

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： HAWTOF, Daniel, W.

IPC: C03B19/01

CPC classification number: C03B19/06 ,  C03B19/01 ,  C03B19/106 ,  C03B19/14 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1484 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/30 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/34 ,  C03B2201/36 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/42 ,  C03B2201/50 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/14 ,  C03B2207/32 ,  C03B2207/34 ,  C03B2207/46 ,  C03B2207/62

Abstract: A method for producing an optical waveguide component includes providing a glass producing soot, providing a soot delivery device adapted to provide an electrostatic charge to the soot, and providing a substrate material adapted to receive the glass producing soot thereon. The method also includes delivering the soot to the delivery device, and accelerating the soot as it passes through the delivery device. The method further includes charging the soot as the soot is passed through the delivery device with a sufficient charge to attract the soot to the substrate material, and depositing the soot on the substrate material by spraying the soot onto the substrate material via the delivery device.

Abstract translation: 一种用于制造光波导部件的方法包括提供产生玻璃的烟灰，提供适于向烟灰提供静电电荷的烟灰传送装置，以及提供适于在其上接收玻璃产生烟灰的衬底材料。 该方法还包括将烟灰递送到输送装置，以及当烟灰通过输送装置时加速烟灰。 所述方法还包括当烟灰以足够的电荷通过输送装置以将烟灰吸引到基底材料上时对烟灰进行充电，以及通过经由输送装置将烟灰喷洒到基底材料上而将烟灰沉积在基底材料上。

公开(公告)号：WO2002088035A1

公开(公告)日：2002-11-07

申请号：PCT/US2002/009189

申请日：2002-03-25

Applicant: CORNING INCORPORATED ,  HRDINA, Kenneth E ,  RUSSO, Nikki J ,  WASILEWSKI, Michael H

Inventor： HRDINA, Kenneth E ,  RUSSO, Nikki J ,  WASILEWSKI, Michael H

IPC: C03B8/04

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B19/1407 ,  C03B19/1484 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/32

Abstract: A method for forming EUV Lithography large dimension homogeneous glass body is disclosed which includes delivering a silica precursor (28) to a burner (16) and passing the silica precursor (16) through the flame (36) of the burner (16) to form silica particles (38), depositing the silica particles (38) on a planar surface (14) to form a flat porous EUV Lithography large dimension preform (40) and consolidating the flat porous EUV Lithography large dimension preform (40) into a flat dense EUV Lithography large dimension homogeneous glass body.

Abstract translation: 公开了一种用于形成EUV平版印刷大尺寸均匀玻璃体的方法，其包括将二氧化硅前体（28）输送到燃烧器（16）并使二氧化硅前体（16）通过燃烧器（16）的火焰（36）形成 二氧化硅颗粒（38），将二氧化硅颗粒（38）沉积在平坦表面（14）上以形成平坦多孔EUV平版印刷大尺寸预制件（40），并将平面多孔EUV平版印刷大尺寸预成型件（40）固结成扁平密度 EUV平版印刷大尺寸均匀玻璃体。