Procédé de fabrication de dispositifs optoélectroniques

    公开(公告)号:FR3135160B1

    公开(公告)日:2024-10-11

    申请号:FR2204145

    申请日:2022-05-02

    Inventor: ROY FRANCOIS

    Abstract: Procédé de fabrication de dispositifs optoélectroniques La présente description concerne un procédé de fabrication de dispositifs optoélectroniques comprenant la croissance par épitaxie, sur chaque première couche (18) de premières couches d'un premier matériau semiconducteur recouvrant un premier support (20) et espacées les unes des autres, d'une deuxième couche (24) en un deuxième matériau, et la croissance par épitaxie sur chaque deuxième couche, d'un empilement (26) de couches semiconductrice comprenant une troisième couche (28) au contact physique de la deuxième couche, la séparation de chaque empilement par rapport à la première couche par gravure de la deuxième couche par une gravure sélective à la fois par rapport aux premier et troisième matériaux, et le report des empilements sur un deuxième support, chacun des premier et troisième matériaux étant un composé III-V ou II-VI. Figure pour l'abrégé : Fig 6

    Mesure de la durée d'une impulsion
    147.
    发明专利

    公开(公告)号:FR3092402A1

    公开(公告)日:2020-08-07

    申请号:FR1900935

    申请日:2019-01-31

    Abstract: Mesure de la durée d'une impulsion La présente description concerne un dispositif (1) comprenant : un premier circuit (11) comportant une première chaine d'étages (113a) identiques définissant des première et deuxième lignes à retard ; un deuxième circuit (14) comportant une deuxième chaine d'étages (113b) identiques aux étages de la première chaine, la deuxième chaine définissant des troisième et quatrième lignes à retard ; et un troisième circuit (13) reliant sélectivement la troisième ligne à retard, la quatrième ligne à retard ou une première entrée (133) du troisième circuit à une même entrée (112) du premier circuit (11). Figure pour l'abrégé : Fig. 1

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