公开(公告)号：CN106338418A

公开(公告)日：2017-01-18

申请号：CN201610515719.8

申请日：2016-07-01

Applicant: 生捷科技控股公司

Inventor： 菲利普·克洛诺哥拉克 ,  格伦·麦克加尔 ,  李博览

IPC: G01N1/28 ,  G01N1/38

CPC classification number: B01J19/0046 ,  B01J2219/00333 ,  B01J2219/0036 ,  B01J2219/00421 ,  B01J2219/00443 ,  B01J2219/00529 ,  B01J2219/00536 ,  B01J2219/00596 ,  B01J2219/00608 ,  B01J2219/00612 ,  B01J2219/00659 ,  B01J2219/00675 ,  B01J2219/00691 ,  B01J2219/00722 ,  B05C11/023 ,  B05C11/08 ,  B05C11/1039 ,  B05C13/00 ,  B05D1/005 ,  C40B50/18 ,  C40B60/14 ,  G03F7/162 ,  G03F7/30 ,  G03F7/3014 ,  G01N1/2813 ,  G01N1/38

Abstract: 本公开提供了用于晶片加工的方法、装置和系统。所述晶片加工设备使用封盖分配器将至少一种试剂分散到所述晶片的表面。另外，所述晶片安置在可旋转真空吸盘的顶部，所述可旋转真空吸盘被配置成经由离心力或表面张力在所述晶片的所述表面上涂覆至少一种试剂，从而允许所述至少一种试剂与另外的试剂反应。另外，当分配所述至少一种试剂时，所述封盖分配器和所述晶片之间的分隔间隙处于预定距离，例如，50μm至2mm。

公开(公告)号：CN105944920A

公开(公告)日：2016-09-21

申请号：CN201610537616.1

申请日：2016-07-11

Applicant: 佛山市中技烯米新材料有限公司

Inventor： 刘福海 ,  王超群

IPC: B05C9/14 ,  B05C9/06 ,  B05C1/08 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  B05C13/02 ,  B05B15/12

CPC classification number: B05C9/14 ,  B05B16/20 ,  B05C1/0808 ,  B05C1/0813 ,  B05C1/0826 ,  B05C9/06 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10 ,  B05C13/02

Abstract: 本发明涉及一种石墨烯涂层铝箔涂布机，其包括基座，设置在基座上的铝箔卷、前张紧机构、除尘机构、传动机构、振动机构、涂布机构、加热机构、喷涂机构、干燥机构、后张紧机构和存储装置，所述除尘机构、传动机构、涂布机构和喷涂机构沿铝箔基板的行走方向依次设置在该段铝箔基板的正上方，该段铝箔基板的下方设置有振动机构和加热机构，所述振动机构与所述涂布机构和喷涂机构垂直对应，所述加热机构和所述喷涂机构垂直对应,本发明所得产品涂层均匀，与铝箔基材接触紧密，性能稳定。整个涂覆过程连续性强，加工效率高。

公开(公告)号：CN104937143A

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：CN201280076603.9

申请日：2012-10-25

Applicant: 俄罗斯工程技术中心

Inventor： A·V·普罗什金 ,  S·Y·利文森 ,  V·V·平金 ,  A·V·莫洛佐夫

IPC: C25C3/08

CPC classification number: C25C3/08 ,  B05C11/025 ,  B05C11/08

Abstract: 本发明涉及为电解池的阴极加装内衬的方法和设备。所述方法包括对电解池壳充填粉末材料，使用水平板调平，使用防尘膜覆盖充填的材料，然后进行压实。压实分两个阶段进行：初步静态处理和最终的动态处理，其通过使相应的作业部件经由至少2层构成的缓冲垫沿所述电解池阴极的纵轴相继移动而进行，所述缓冲垫的至少2层为：下层，所述下层防止粉末材料向移动方向移位；和上层，所述上层用于在缓冲垫和作业部件之间提供连接。具有驱动器的辊形式的静态压实单元借助弹性元件与具有振动激发器的动态压实单元连接，从而使动态压实单元能够沿所述辊的水平和竖直轴运动。本发明有助于减缓熔融氯化物盐渗入阴极隔热物的速率，并增加电解池的工作寿命。

公开(公告)号：CN104934307A

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：CN201510115608.3

申请日：2015-03-17

Applicant: 斯克林集团公司

Inventor： 小林健司 ,  奥谷学

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67028 ,  B05B1/24 ,  B05B15/60 ,  B05C11/08 ,  B05D1/02 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/6875 ,  H01L21/302 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置，能够在药液供给工序中确实地避免药液降落到加热板的上表面，由此，防止因在加热板上干燥药液引起的颗粒的产生。基板处理方法在基板处理装置中执行，该基板处理装置具有用于保持基板的基板保持单元和用于对基板从下方进行加热的加热板，包括：处理液供给工序，在所述加热板配置在从所述基板保持单元向下方退避的退避位置的状态下，向由所述基板保持单元保持的所述基板的上表面供给处理液；保护液液膜形成工序，与所述处理液供给工序并行地在所述加热板的上表面形成覆盖该上表面的保护液的液膜；基板加热工序，一边使所述加热板与所述基板的下表面接近或接触，一边通过该加热板对所述基板进行加热。

公开(公告)号：CN104437967A

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：CN201410712765.8

申请日：2014-12-01

Applicant: 齐齐哈尔市金车工业公司

Inventor： 李春江

IPC: B05C3/09 ,  B05C11/08 ,  B05C11/10

CPC classification number: B05C3/09 ,  B05C11/08 ,  B05C11/1042

Abstract: 本发明涉及一种金属配件的达克罗表面处理设备。主要解决现有的达克罗处理设备处理零件时达克罗液不易搅拌均匀、涂层厚度不均、生产效率低的问题。其特征在于：所述的主体框架（12）内分别固定有浸液槽（5）及离心槽（11），浸液槽（5）外部设有环空的储水腔（8），且储水腔（8）内置有电热管（9），浸液槽（5）一侧的主体框架（12）上部通过立轴（3）连接有回转架（2），回转架（2）的一侧固定有气缸（1），气缸（1）下端输出轴连接有搅拌电机（7）；所述的离心槽（11）内置有转盘（13）。该设备具有占用工作场少、成本低、生产效率高的特点，并且达克罗液搅拌均匀、涂层厚度一致，提高了产品质量。

公开(公告)号：CN104289386A

公开(公告)日：2015-01-21

申请号：CN201410471034.9

申请日：2014-09-16

Applicant: 宁波大学

Inventor： 沈祥 ,  李双 ,  王国祥 ,  徐培鹏 ,  张培全 ,  许银生 ,  王训四 ,  徐铁峰 ,  聂秋华 ,  戴世勋

IPC: B05C9/02 ,  B05C9/12 ,  B05C11/00 ,  B05C11/02 ,  B05C13/00 ,  B05D1/18 ,  B05D3/00

CPC classification number: B05C11/08 ,  B05C3/18 ,  B05C11/00 ,  B05C13/00 ,  B05D1/185

Abstract: 本发明公开了一种制备薄膜的高温旋涂装置及方法，包括可抽真空并可充惰性气体的密封室、连接与于密封室的顶端上用于固定待镀基片的样品固定架、设置于密封室内用于盛放薄膜原材料的石英坩埚、用于驱动样品固定架水平高速旋转的伺服电机、用于推动石英坩埚上下移动的推动机构，密封室的顶端安装有下端开口的上加热炉，密封室的底端安装有上端开口的下加热炉，样品固定架位于上加热炉内由所述的上加热炉预热样品固定架上固定的待镀基片，石英坩埚位于所述的样品固定架的正下方，且位于下加热炉内由下加热炉熔融石英坩埚内盛放的薄膜原材料；该装置结合方法制备薄膜能提高薄膜内组分的均一性、避免薄膜中微米颗粒的存在，且薄膜的厚度均匀并可控。

公开(公告)号：CN104259048A

公开(公告)日：2015-01-07

申请号：CN201410395540.4

申请日：2014-08-13

Applicant: 汕尾市栢林电子封装材料有限公司

Inventor： 熊杰然 ,  林尧伟 ,  黄亮

IPC: B05C5/00 ,  B05C13/02 ,  B05C11/08

CPC classification number: B05C5/00 ,  B05C11/08 ,  B05C13/02

Abstract: 本发明公开了一种涂覆助焊剂的方法及其涂敷装置。所述方法是将预成型焊片放置在可旋转的工作台上，采用滴定装置向旋转工作台上的预成型焊片滴加助焊剂；通过控制滴定装置的出液量和工作台的转速控制助焊剂的涂覆厚度。基于上述方法，则所述装置包括由电机带动可旋转的工作台，其上设有用于容纳预成型焊片的凹槽，凹槽底部设置导气孔，导气管连接真空泵，通过抽真空作用以吸附放置于凹槽内的预成型焊片。另有滴定装置，其出液口设于工作台上方对应所述凹槽中心处，用以设定速度对工作台上的预成型焊片进行滴涂。所述方法及装置涂覆的助焊剂涂层比浸润法更加均匀，可以提高焊接片的抗氧化能力，改善焊接性能，且生产效率高。

公开(公告)号：CN101980792B

公开(公告)日：2013-09-04

申请号：CN200880128540.0

申请日：2008-02-29

Applicant: 康宁股份有限公司

Inventor： B·P·阿伦 ,  R·W·伯纳德 ,  J·J·多梅 ,  R·G·邓恩 ,  W·J·赞德尔

IPC: B05C11/04 ,  B28B11/04

CPC classification number: C04B38/0006 ,  B05C5/0208 ,  B05C11/021 ,  B05C11/023 ,  B05C11/08 ,  B28B11/04 ,  B28B19/0038

Abstract: 提供一种用于将胶结混合物施加到蜂窝状本体的方法，该方法包括以下步骤：使蜂窝状本体的第一端相对于第一支承部件的第一纵向轴线对准。该方法还包括以下步骤：使第二支承部件相对于蜂窝状本体的第二端对准。第二支承部件能相对于第一支承部件运动，从而使第二支承部件的第二纵向轴线不与第一纵向轴线重合。该方法还包括以下步骤：使蜂窝状本体相对于第一支承部件和第二支承部件的位置固定。该方法还包括以下步骤：将胶结混合物施加到蜂窝状本体。提供一种装置，该装置构造成将胶结混合物施加到蜂窝状本体。

公开(公告)号：CN103157578A

公开(公告)日：2013-06-19

申请号：CN201110411742.X

申请日：2011-12-12

Applicant: 鸿富锦精密工业(武汉)有限公司 ,  鸿海精密工业股份有限公司

Inventor： 秦伟民 ,  马勇 ,  梁威 ,  刘玉林

IPC: B05C5/02 ,  B05C11/10

CPC classification number: B05C11/08

Abstract: 一种涂抹装置，用以对一散热模组进行散热膏涂抹，所述涂抹装置包括有支架、转动装设在所述支架上的支撑件及把手，所述支架设有涂抹片，所述支撑件收容散热模组，通过转动所述把手以使所述支撑件转动而带动所述散热模组相对所述涂抹片转动，从而使所述涂抹片涂抹散热模组上的散热膏。

公开(公告)号：CN101499412B

公开(公告)日：2011-11-02

申请号：CN200910009603.7

申请日：2009-01-23

Applicant: 大日本网屏制造株式会社

Inventor： 滩和成 ,  新居健一郎

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/306

CPC classification number: H01L21/6708 ,  B05C5/0254 ,  B05C11/04 ,  B05C11/08 ,  G03F1/80

Abstract: 本发明提供能够对基板的整个主面实施高速率且均匀的蚀刻处理的基板处理装置及基板处理方法。本发明的基板处理装置包括：基板保持机构，用于保持基板；喷嘴体，具有用于向所述基板保持机构所保持的基板的主面喷出蚀刻液的喷出口；喷嘴体移动机构，使所述喷嘴体向规定的前进方向移动，使得蚀刻液在所述主面上的着落位置移动；第一片材，是安装在所述喷嘴体上的挠性片材，与比蚀刻液在所述主面上的着落位置更靠近所述前进方向一侧的区域接触；第二片材，是安装在所述喷嘴体上的挠性片材，与前进方向另一侧的区域接触，其中，所述前进方向另一侧是指，当从蚀刻液在所述主面上的着落位置观察时，与所述前进方向一侧相反的所述前进方向的另一侧。