公开(公告)号：WO2014167788A1

公开(公告)日：2014-10-16

申请号：PCT/JP2014/001681

申请日：2014-03-25

Applicant: 信越石英株式会社

Inventor： 山形　茂

IPC: C30B29/06 ,  C03B20/00 ,  C30B15/10

CPC classification number: C03B19/095 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C30B15/10 ,  C30B29/06 ,  C30B35/002 ,  Y10T117/1032

Abstract: 　本発明は、直胴部、湾曲部、及び底部を有する単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器であって、容器外側が気泡を含有する不透明シリカガラスから成り、容器内側が透明シリカガラスから成り、少なくとも前記直胴部の内側表層部分において、結晶質シリカ粉が溶融した相と非晶質シリカ粉が溶融した相が粒状に混在する混合シリカ層を有する単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器である。これにより、高温度下におけるシリカ容器中のシリコン融液の湯面振動を抑制できる単結晶シリコン引き上げ用シリカ容器が提供される。

Abstract translation: 一种二氧化硅容器，其用于提拉单晶硅，其具有直的筒部，弯曲部和底部，其中：容器的外部由含有气泡的不透明的石英玻璃制成; 其内部由透明石英玻璃制成; 和混合二氧化硅层，其中通过熔融由结晶二氧化硅粉末形成的相和由非结晶二氧化硅粉末通过熔融形成的相以粒状混合，至少存在于直筒的内表面部分 部分。 因此，提供了用于提取单晶硅并且可以抑制熔融硅在高温下在表面振动的二氧化硅容器。

公开(公告)号：WO2008029571A1

公开(公告)日：2008-03-13

申请号：PCT/JP2007/065109

申请日：2007-07-26

Applicant: ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED ,  IKUTA, Yoshiaki ,  KIKUGAWA, Shinya

Inventor： IKUTA, Yoshiaki ,  KIKUGAWA, Shinya

IPC: C03B19/14 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/12 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  Y10T428/166 ,  Y10T428/249969 ,  Y10T428/252

Abstract: For a substrate having fine convexoconcave patterns on its surface, the dimensions of the convexoconcave patterns in a vertical direction of a quartz glass substrate are controlled to be uniform with extreme accuracy and over the entire substrate surface. The quartz glass substrate is made to have a fictive temperature distribution of at most 4O°C and a halogen concentration of less than 400 ppm, or a fictive temperature distribution of at most 4O°C, a halogen concentration of at least 400ppm and a halogen concentration distribution of at most 400ppm and the etching rate of the surface of the quartz glass substrate is made uniform, whereby the dimensions of the convexoconcave patterns in a vertical direction of the quartz glass substrate are controlled to be uniform with good accuracy and over the entire substrate surface.

Abstract translation: 对于在其表面上具有细凹凸图案的基板，石英玻璃基板的垂直方向上的凸凹图案的尺寸被控制为具有极高的精度和整个基板表面的均匀。 使石英玻璃基板具有至多40℃的虚拟温度分布和小于400ppm的卤素浓度或至多40℃的假想温度分布，至少400ppm的卤素浓度和卤素 浓度分布至多为400ppm，并且石英玻璃基板的表面的蚀刻速率均匀，从而将石英玻璃基板的垂直方向的凸凹图案的尺寸控制为均匀，精度高，整个 基材表面。

公开(公告)号：WO2006094876A2

公开(公告)日：2006-09-14

申请号：PCT/EP2006/050946

申请日：2006-02-15

Applicant: DEGUSSA AG ,  MEYER, Jürgen ,  OSWALD, Monika ,  DELLER, Klaus

Inventor： MEYER, Jürgen ,  OSWALD, Monika ,  DELLER, Klaus

CPC classification number: C09C1/3036 ,  C01B33/18 ,  C01P2006/11 ,  C01P2006/12 ,  C01P2006/14 ,  C01P2006/17 ,  C01P2006/19 ,  C03B19/106 ,  C03B19/108 ,  C03B2201/03 ,  Y10T428/2982 ,  Y10T428/2991 ,  Y10T428/2993 ,  Y10T428/2995

Abstract: Granules based on silicon dioxide and having the properties : Average grain size: 10 to 120 μm BET surface area: 40 to 400 m2/g Pore volume: 0.5 to 2.5 ml/g Pore size distribution: less than 5 % of the total pore volume exists of pores with a diameter

Abstract translation: 基于二氧化硅的颗粒，具有以下性质：平均粒径：10〜120μmBET表面积：40〜400m2 / g孔体积：0.5〜2.5ml / g孔径分布：小于总孔体积的5％ 存在直径小于5nm的孔，静置中孔和大孔pH值：3.6至8.5撕裂密度：220至700g / l它们通过将二氧化硅分散在水中，喷雾干燥，任选地加热和/或硅烷化来制备。 而BET表面积为30〜90m2 / g，DBP指数为80以下，平均聚集面积小于25000nm 2，平均聚集体周长小于1000nm的热解二氧化硅粉末，其中至少 70％的聚集体具有小于1300nm的圆周，或者通过使具有小于30ppb的金属含量的四氯化硅与方法制备具有小于0.2μg/ g的金属含量的高纯度热解法制备的二氧化硅 使用火焰水解。

公开(公告)号：WO2005102950A2

公开(公告)日：2005-11-03

申请号：PCT/EP2005/003549

申请日：2005-04-05

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG ,  SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD. ,  SCHREIBER, Andreas ,  KÜHN, Bodo ,  SCHILLING, Franz-Josef ,  ARNOLD, Erich ,  WITZKE, Hans-Dieter

Inventor： SCHREIBER, Andreas ,  KÜHN, Bodo ,  SCHILLING, Franz-Josef ,  ARNOLD, Erich ,  WITZKE, Hans-Dieter

IPC: C03C3/06

CPC classification number: C03B19/01 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06

Abstract: Bei einem bekannten Verfahren erfolgt die Herstellung eines Quarzglas-Bauteils für eine für eine UV-Strahlenquelle durch Erschmelzen von SiO 2 -haltiger Körnung. Um hiervon ausgehend ein kostengünstiges Verfahren anzugeben, mittels dem ein Quarzglas-Bauteil erhalten wird, das sich durch hohe Strahlenbeständigkeit auszeichnet, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass synthetisch erzeugte Quarzkristalle zu einem Vorprodukt erschmolzen werden, das aus Quarzglas besteht, das Hydroxylgruppen in einer Anzahl enthält, die größer ist als die Anzahl an SiH-Gruppen, und dass zur Beseitigung von SiH-Gruppen das Vorprodukt einer Temperbehandlung bei einer Temperatur von mindestens 850 °C unterzogen und dabei das Quarzglas-Bauteil erhalten wird. Bei dem erfindungsgemäßen Quarzglas-Bauteil ist das Quarzglas aus synthetisch erzeugten Quarzkristallen erschmolzen, und es weist einen Gehalt an SiH-Gruppen von weniger als 5 x 10 17 Molekülen/cm 3 auf.

Abstract translation: 在已知的方法制备用于UV辐射源的石英玻璃部件的通过SiO 2的含谷物的融化。发生 要指定此基础上具有成本效益的方法，通过其获得石英玻璃元件，其特征是高耐辐射性，本发明提出的是合成产生的熔融石英的晶体，以形成一个初步的产品，它由石英玻璃含有以羟基数 比SiH基团的数量越多，并且进行消除SiH基团，所述前体的退火在至少850℃的温度，而获得石英玻璃元件。 在本发明的石英玻璃元件，合成产生的石英晶体的石英玻璃被熔化并具有小于5×10 <17>分子/ cm <3>的SiH基团的含量。

公开(公告)号：WO2005021449A2

公开(公告)日：2005-03-10

申请号：PCT/JP2004/012373

申请日：2004-08-27

Applicant: 財団法人 新産業創造研究機構 ,  内野 隆司 ,  山田 朋子

Inventor： 内野 隆司 ,  山田 朋子

IPC: C03B

CPC classification number: C03C12/00 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04

Abstract: 　フォトルミネッセンス（ＰＬ）により、可視光の波長域において発光スペクトルの半値幅が広く、ブロードな発光特性を有し、白色発光を可能とする次世代の光デバイスの発光素子を提供すること。 　フュームドシリカなどのシリカ微粒子を加圧成形したものを焼成する焼成工程において、焼成温度を１０００°C以下の温度範囲とし、シリカ微粒子のＯＨ基の脱水縮合反応を十分に行うことにより透明化させ、かつ、その過程で生じたアモルファス（非晶質）の欠陥を緩和せずに保持することにより、シリカガラスを生成する。このシリカガラスを蛍光体として使用する。

Abstract translation: 通过光致发光（PL）的下一代光学器件的发光元件在可见光的波长区域中显示出大的半值宽度的发射光谱，以实现广泛的发光特性并实现白光发射。 二氧化硅玻璃是通过烧成二氧化硅微粒如热解法二氧化硅的加压成型物的烧成工序来制造的，其中烧成温度调节在不超过1000℃的范围内，以令人满意地进行相对于OH的脱水缩合反应 二氧化硅微粒组，从而获得清除，并且其中在反应期间发生的无定形缺陷被保留而不被还原。 该石英玻璃用作荧光体。

公开(公告)号：WO2004050570A1

公开(公告)日：2004-06-17

申请号：PCT/JP2003/015272

申请日：2003-11-28

Applicant: 信越石英株式会社 ,  佐藤 龍弘 ,  垣内 孝宏 ,  藤ノ木 朗 ,  加藤 俊幸 ,  瀬川 徹 ,  吉田 宜正

Inventor： 佐藤 龍弘 ,  垣内 孝宏 ,  藤ノ木 朗 ,  加藤 俊幸 ,  瀬川 徹 ,  吉田 宜正

IPC: C03B20/00

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/24 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/24 ,  C03C2201/26

Abstract: 第一に、不純物が少なく且つ天然石英ガラスと同等以上の高温粘度特性を有し、高温環境下にあっても変形し難い合成石英ガラスの製造方法、特に発泡が無く緻密な高耐熱性合成石英ガラスの製造方法を提供する。第二に、本発明の製造方法により容易に得られる高耐熱性合成石英ガラス体、特に、発泡が無く緻密、赤外線吸収率及び放出率が高い、またアルカリ金属拡散防止効果が極めて高い透明又は黒色石英ガラス体を提供する。　２４５ｎｍの吸収係数が０．０５ｃｍ −１ 以上である高耐熱性石英ガラス体を製造する方法であって、シリカ多孔質体を、還元処理した後、焼成して緻密なガラス体とするようにした。

Abstract translation: 一种制造在245nm以上的吸收系数为0.05cm -1以上的合成石英玻璃的制造方法，其特征在于，对多孔二氧化硅材料进行还原处理，然后烧成所得产物，从而形成致密的玻璃 文章; 和具有降低的杂质含量的透明或黑色合成石英玻璃，显示与天然石英玻璃相同或优于其的高温粘度特性即使在高温气氛中也不易变形，显示出高的 对于红外线的吸光度和高发射率，并且对于防止碱金属的扩散，特别是不含气泡的致密且高耐热的合成石英玻璃的扩散具有极高的效果。 该方法容易地生产上述合成石英玻璃。

公开(公告)号：WO2004020357A2

公开(公告)日：2004-03-11

申请号：PCT/US2003/024477

申请日：2003-08-05

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： MOORE, Lisa, A. ,  BOOKBINDER, Dana, C. ,  HOUSE, Keith, L. ,  SCHIEFELBEIN, Susan, L. ,  BALL, Laura, J. ,  BANEY, Bruno, Paul, Marc ,  KHRAPKO, Rostislav, R.

IPC: C03C25/60

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B37/01211 ,  C03B37/01228 ,  C03B37/01426 ,  C03B37/01807 ,  C03B37/01861 ,  C03B37/01892 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/50 ,  C03B2201/54 ,  C03B2203/26 ,  C03B2207/30 ,  C03B2207/90 ,  C03C25/602 ,  C03C25/607 ,  C03C25/68 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/50 ,  C03C2203/50 ,  G02B6/02

Abstract: A method of forming an alkali metal oxide-doped optical fiber by diffusing an alkali metal into a surface of a glass article is disclosed. The silica glass article may be in the form of a tube or a rod, or a collection of tubes or rods. The silica glass article containing the alkali metal, and impurities that may have been unintentionally diffused into the glass article, is etched to a depth sufficient to remove the impurities. The silica glass article may be further processed to form a complete optical fiber preform. The preform, when drawn into an optical fiber, exhibits a low attenuation.

Abstract translation: 公开了一种通过将碱金属扩散到玻璃制品的表面中形成掺杂碱金属氧化物的光纤的方法。 石英玻璃制品可以是管或棒的形式，或者是管或棒的集合。 含有碱金属的二氧化硅玻璃制品和可能已经无意地扩散到玻璃制品中的杂质被蚀刻到足以除去杂质的深度。 石英玻璃制品可以进一步加工以形成完整的光纤预型件。 当预成型件被拉入光纤时，表现出低的衰减。

公开(公告)号：WO2003008332A1

公开(公告)日：2003-01-30

申请号：PCT/JP2002/007322

申请日：2002-07-18

Applicant: 三菱化学株式会社 ,  勝呂 芳雄 ,  山原 圭二 ,  山口 隆 ,  森 寛

Inventor： 勝呂 芳雄 ,  山原 圭二 ,  山口 隆 ,  森 寛

IPC: C01B33/18

CPC classification number: C03C1/006 ,  C03B19/01 ,  C03B19/09 ,  C03B19/1065 ,  C03B19/1095 ,  C03B2201/03 ,  C03C3/06 ,  C03C12/00 ,  C03C2201/02 ,  C03C2203/26

Abstract: A quartz powder, preferably, a synthetic quartz powder prepared by the sol−gel method, which while heated from room temperature to 1700˚C, generates a gas containing CO and CO 2 in amounts of 300 nanoliter/g or less and 30 nanoliter/g or less, respectively; a method for preparing the quartz powder; and a formed glass article prepared by melting the quartz powder and forming the resultant molten quartz. The quartz powder has extremely high purity and quality and the formed glass article contains an extremely small amount of foam.

Abstract translation: 优选石英粉末，优选通过溶胶 - 凝胶法制备的合成石英粉末，其在室温至1700℃下加热，产生含有300纳升/分钟的CO和CO 2气体的气体， g以下，30纳升/ g以下。 制备石英粉的方法; 以及通过熔融石英粉末并形成所得熔融石英制备的成形玻璃制品。 石英粉具有非常高的纯度和质量，并且形成的玻璃制品含有极少量的泡沫。

公开(公告)号：WO0194267A3

公开(公告)日：2002-06-13

申请号：PCT/EP0106179

申请日：2001-05-31

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS ,  SHINETSU QUARTZ PROD ,  UEDA TETSUJI ,  NISHIMURA HIROYUKI ,  FUJINOKI AKIRA

Inventor： UEDA TETSUJI ,  NISHIMURA HIROYUKI ,  FUJINOKI AKIRA

IPC: G02B1/02 ,  C03B8/00 ,  C03B19/14 ,  C03B20/00 ,  C03B32/00 ,  C03C3/06 ,  C03C23/00

CPC classification number: C03C23/007 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/03 ,  Y10S65/90

Abstract: An object of the present invention is to overcome the problems of the prior art technique, and to provide a heat treatment method as well as a heat treatment apparatus capable of heat treating, with higher efficiency, a synthetic quartz glass for optical use having higher homogeneity and higher purity. Another object of the present invention is to provide an a synthetic quartz glass for optical use. The problems above are solved by, in a method for heat treating a flat cylindrical synthetic quartz glass body provided as the object to be heat treated in a heating furnace, a method for heat treating a synthetic quartz glass for optical use comprising preparing a vessel made of quartz glass and having a flat cylindrical space for setting therein the object synthetic quartz glass body, placing two or more object synthetic quartz glass bodies into the vessel in parallel with each other, filling the space with SiO2 powder, setting the vessel inside the heating furnace with its lid closed, and applying the heat treatment to the vessel.

Abstract translation: 本发明的目的是克服现有技术的问题，提供热处理方法以及能够以更高的效率对具有较高均匀性的光学用合成石英玻璃进行热处理的热处理装置 和更高的纯度。 本发明的另一个目的是提供一种用于光学用途的合成石英玻璃。 上述问题是通过在加热炉中对作为热处理对象的平坦圆筒形合成石英玻璃体进行热处理的方法来解决的，该方法是用于热处理用于光学用途的合成石英玻璃的方法，包括制备容器 的石英玻璃，并且具有平坦的圆柱形空间用于在其中设置物体合成石英玻璃体，将两个或更多个目标合成石英玻璃体彼此平行放置在容器中，用SiO 2粉末填充空间，将容器设置在加热 炉盖关闭，并对容器进行热处理。

公开(公告)号：NO20056184A

公开(公告)日：2006-02-07

申请号：NO20056184

申请日：2005-12-23

Applicant: HERAEUS QUARTZGLAS GMBH & CO K

Inventor： OHAMA YASUO

IPC: C03B19/09 ,  C30B15/10

CPC classification number: C03B19/095 ,  C03B2201/03 ,  C30B15/10 ,  Y02P40/57 ,  Y10S65/08 ,  Y10S117/90 ,  Y10T117/10