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公开(公告)号：CN110637343A
公开(公告)日：2019-12-31
申请号：CN201880030426.8
申请日：2018-04-25
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 带透光性导电层的薄膜具备薄膜基材和透光性导电层。透光性导电层、及将透光性导电层在80℃下加热500小时后的被加热透光性导电层均为非晶质。将透光性导电层的载流子密度设定为Xa×1019(/cm3)、霍尔迁移率设定为Ya(cm2/V·s)，将被加热透光性导电层的载流子密度设定为Xc×1019(/cm3)、霍尔迁移率设定为Yc(cm2/V·s)时，满足下述式(1)和式(2)这两者。0.5≤(Xc/Xa)×(Yc/Ya)≤1.5(1)Yc>Ya(2)。
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公开(公告)号：CN109983375A
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201780068209.3
申请日：2017-11-14
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , G02B5/26 , G02F1/1335 , G02F1/13363
Abstract: 偏光薄膜在厚度方向一侧依次具备：第1透明树脂薄膜、红外线反射层和偏光件，红外线反射层依次具备：第1无机氧化物层、金属层和第2无机氧化物层。
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公开(公告)号：CN105659198B
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201580002254.X
申请日：2015-03-11
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 透明导电性薄膜(1)依次具备透明基材(2)、第1光学调整层(4)、无机物层(5)和透明导电层(6)。第1光学调整层(4)具有比透明基材(2)的折射率nA更低的折射率nC，并且具有10nm以上且35nm以下的厚度TC。无机物层(5)具有比第1光学调整层(4)的折射率nC乘以1.13得到的值的绝对值|nC×1.13|更低的折射率nD。
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公开(公告)号：CN108603964A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201780008635.8
申请日：2017-01-27
Applicant: 日东电工株式会社
IPC: G02B5/30 , B32B7/02 , B32B9/00 , C23C14/08 , C23C14/10 , G02B1/115 , G02F1/1335 , H01L51/50 , H05B33/02 , H05B33/04
CPC classification number: B32B7/02 , B32B9/00 , C23C14/08 , C23C14/10 , G02B1/115 , G02B5/30 , G02F1/1335 , H01L51/50 , H05B33/02 , H05B33/04
Abstract: 本发明提供作为阻隔薄膜及偏光板发挥功能、且抑制了裂纹的产生的光学层叠体。本发明的光学层叠体依次具有：偏光件；基材；包含ZnO、Al及SiO2的第1氧化物层；和由SiO2构成的第2氧化物层，基材的第1氧化物层侧的表面的表面粗糙度Ra为0.30nm～50nm。在一个实施方式中，光学层叠体的透湿度为3.0×10-2g/m2/24hr以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104294224B
公开(公告)日：2018-07-17
申请号：CN201410342230.6
申请日：2014-07-17
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: H01J37/32733 , C23C14/34 , C23C14/562 , H01J37/32715 , H01J37/3277 , H01J37/34
Abstract: 本发明提供一种溅射装置和带薄膜的长条膜的制造方法。本发明的溅射装置(10)用于在长条膜上形成薄膜。本发明的溅射装置(10)包括：真空室(11)；真空泵(12)，其用于对真空室(11)进行排气；供给辊(13)，其用于供给长条膜(17)；收纳辊(16)，其用于收纳长条膜(17)；成膜辊(15)，其设于真空室(11)内，用于沿着成膜辊(15)的表面输送长条膜(17)；靶材(18)，其与成膜辊(15)相对；气体配管(21)，其用于向真空室(11)内供给气体；导辊(28)，其用于引导长条膜(17)；导辊轴(24)，其设于导辊(28)的两端；轴承(25)，其用于支承导辊轴(24)；绝缘体(26)，其用于将导辊轴(24)与轴承(25)之间绝缘，导辊(28)的与长条膜(17)接触的接触面是浮动电位。
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公开(公告)号：CN107615157A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201680029550.3
申请日：2016-05-18
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 调光薄膜(1)在高分子薄膜基材(10)上依次具备：状态在基于氢化的透明状态与基于脱氢化的反射状态之间可逆地变化的调光层(30)、以及促进调光层中的氢化及脱氢化的催化剂层(40)。调光层(30)在通过X射线光电子能谱法测定的元素浓度的膜厚方向分布中，在催化剂层(40)侧以10nm以上的厚度具有氧含量不足50原子％的调光区域(32)，在高分子薄膜基材(10)侧具有氧含量为50原子％以上的氧化区域(31)。
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公开(公告)号：CN107533880A
公开(公告)日：2018-01-02
申请号：CN201580078944.3
申请日：2015-10-30
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 实现一种耐擦伤性高、在短时间内完成透明导电层的结晶化的透明导电性薄膜。在透明的基材薄膜(11)上依次层叠有硬涂层(12)、光学调整层(13)和透明导电层(14)的透明导电性薄膜(10)。硬涂层(12)的厚度为250nm～2000nm，光学调整层(13)的厚度是硬涂层的厚度的2％～10％。透明导电层(14)的结晶化例如通过140℃、30分钟的热处理来完成。
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公开(公告)号：CN106460153A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580022929.7
申请日：2015-04-28
Applicant: 日东电工株式会社
Abstract: 本发明提供一种实现透明导电层的低电阻特性的透明导电性膜。本发明是具备高分子膜基材、和形成于所述高分子膜基材的至少一个面侧的透明导电层的透明导电膜，在所述高分子膜基材与所述透明导电层之间，具备利用真空成膜法形成的无机底涂层，所述透明导电层中的碳原子的存在原子量为3×1020原子/cm3以下。
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公开(公告)号：CN106399939A
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：CN201610985842.6
申请日：2011-07-06
Applicant: 日东电工株式会社
CPC classification number: C23C14/086 , C23C14/024 , C23C14/562 , C23C14/5806 , H01B13/00 , H01B13/0026
Abstract: 本发明提供一种在透明薄膜基材上形成有结晶的铟系复合氧化物膜的长条状的透明导电性薄膜的制造方法。本发明的制造方法具有：非晶层叠体形成工序，其中，通过溅射法在所述长条状透明薄膜基材上形成含有铟和四价金属的铟系复合氧化物的非晶膜；以及结晶化工序，其中，形成有所述非晶膜的长条状透明薄膜基材被连续地输送至加热炉内，所述非晶膜被结晶化。相对于铟和四价金属共计100重量份，前述铟系复合氧化物优选含有超过0重量份且为15重量份以下的四价金属。
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