麦克风芯片的制造方法
    171.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105392093A

    公开(公告)日:2016-03-09

    申请号:CN201510875602.6

    申请日:2015-12-03

    Abstract: 本发明提供了一种麦克风芯片的制造方法,其包括:S1:提供第一衬底,两侧分别沉积绝缘氧化层;S2:在绝缘氧化层上分别沉积器件层;S3:在器件层上分别沉积四乙氧基硅烷基氧化物层;S4:刻蚀四乙氧基硅烷基氧化物层以暴露器件层,并移除第二表面上的四乙氧基硅烷基氧化物层;S5:图案化第一衬底的各沉积层;S6:提供第二衬底,第二衬底包括基底、氧化物层和单晶硅层;S7:在基底及其单晶硅层上分别沉积氧化物层;S8:刻蚀并图案化该氧化物层;S9:释放背板;S10:通过第一衬底的四乙氧基硅烷基氧化物层与第二衬底的氧化物层的室温熔接实现了第一衬底与第二衬底的结合;S11:刻蚀第二衬底以形成背腔;S12:刻蚀第一衬底以释放振膜,得到麦克风芯片。

    微机电装置及其应用
    179.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102947216B

    公开(公告)日:2015-12-16

    申请号:CN201180016329.1

    申请日:2011-03-15

    CPC classification number: B81B3/0072 B81B2201/0257 B81B2201/0264

    Abstract: 微机电装置具有:适于制造微电子组件的衬底(1),尤其是半导体衬底。微机械组件集成到衬底(1)中,所述微机械组件具有能够可逆地弯曲的弯曲元件(4),该弯曲元件具有与衬底(1)连接的第一端部(34),并且从该第一端部(34)出发通过自由空间(3)延伸。弯曲元件(4)具有至少一个接片(8),该接片带有两个侧边缘,所述侧边缘的走向(35)通过与侧边缘邻接的、引入弯曲元件(4)中的凹处(6)来限定。为了形成在接片(8)内的均匀区域,从弯曲元件(4)的第一端部(34)出发来观察,接片(8)的侧边缘的相互距离减小,其中在所述均匀区域中在将弯曲元件(4)弯曲时出现的机械应力基本上大小相同。此外,该装置具有对于机械应力敏感的至少一个微电子组件(36),所述微电子组件在接片(8)的均匀区域内集成在其中。

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