公开(公告)号：EP2035869A1

公开(公告)日：2009-03-18

申请号：EP07809606.2

申请日：2007-06-15

Applicant: Corning Incorporated

Inventor： KHRAPKO, Rostislav R ,  MATTHEWS, Hazel B, III

IPC: G02B6/00

CPC classification number: G02B6/02 ,  C03B37/01446 ,  C03B37/01453 ,  C03B37/01807 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/50 ,  C03B2203/26 ,  C03B2203/29 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/50 ,  G02B6/02014 ,  G02B6/02266

Abstract: Disclosed is an optical fiber having a silica-based core comprising an alkali metal oxide selected from the group consisting of K2O, Na2O, LiO2, Rb2O, Cs2O and mixtures thereof in an average concentration in said core between about 50 and 500 ppm by weight, said core further comprising chlorine and fluorine, wherein the average concentration of fluorine in said core is greater than the average concentration of alkali metal oxide in said core and the average concentration of chlorine in said core is greater than the average concentration of alkali metal oxide in said core; and a silica-based cladding surrounding and directly adjacent the core. By appropriately selecting the concentration of alkali metal oxide dopant in the core and the cladding, a low loss optical fiber may be obtained.

公开(公告)号：EP1067097A4

公开(公告)日：2004-03-31

申请号：EP99962506

申请日：1999-12-24

Applicant: ASAHI GLASS CO LTD

Inventor： IKUTA YOSHIAKI ,  KIKUGAWA SHINYA ,  MASUI AKIO ,  SHIMODAIRA NORIAKI ,  YOSHIZAWA SHUHEI

IPC: C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C23/00 ,  C03B37/014

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06 ,  C03C23/002 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57

Abstract: A synthetic quartz glass to be used for vacuum ultraviolet lights having a wavelength of 175 nm or less which is characterized in that it has an OH group content of 100 ppm or less and is substantially free of reducing type defects.

Abstract translation: 用于波长最高为175nm的真空紫外线区域中的光的合成石英玻璃，其特征在于，合成石英玻璃中的OH基含量小于10ppm，并且其基本上不含还原型 缺陷。

公开(公告)号：EP1043282A1

公开(公告)日：2000-10-11

申请号：EP99951132.2

申请日：1999-10-28

Applicant: ASAHI GLASS COMPANY LTD.

Inventor： IKUTA, Yoshiaki Asahi Glass Company Ltd. ,  KIKUGAWA, Shinya Asahi Glass Company Ltd. ,  SHIMODAIRA, Noriaki Asahi Glass Company Ltd. ,  MASUI, Akio Asahi Glass Company Ltd. ,  YOSHIZAWA, Shuhei Asahi Glass Company Ltd.

IPC: C03C3/06 ,  C03B8/04 ,  C03B20/00 ,  G03F1/16 ,  G02B1/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: C03C3/06 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C23/002 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57 ,  Y10S65/16 ,  Y10S501/90 ,  Y10S501/905

Abstract: A synthetic quartz glass for optical use, to be used by irradiation with light within a range of from the ultraviolet region to the vacuum ultraviolet region, which contains fluorine, which has a ratio of the scattering peak intensity of 2250 cm -1 (I 2250 ) to the scattering peak intensity of 800 cm -1 (I 800 ), i.e. I 2250 /I 800 , of at most 1 × 10 -4 in the laser Raman spectrum, and which has an absorption coefficient of light of 245 nm of at most 2 × 10 -3 cm -1 .

Abstract translation: 一种用于光学用的合成石英玻璃，其用于通过在具有2250cm -1的散射峰强度之比的含氟的紫外线区域至真空紫外线区域内的光照射下使用 I2250）在激光拉曼光谱中的800cm -1（I800）的散射峰强度，即I2250 / I800至多为1×10 -4，其吸光系数为245nm 至多2×10 -3 cm -1。

公开(公告)号：EP0720969A1

公开(公告)日：1996-07-10

申请号：EP96100118.7

申请日：1996-01-05

Applicant: NIKON CORPORATION

Inventor： Komine, Norio ,  Hiraiwa, Hiroyuki

IPC: C03C3/06 ,  C03C4/00

CPC classification number: G03F7/70958 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y02P40/57

Abstract: A silica glass has a structure determination temperature of 1200 K or lower and a hydrogen molecule concentration of 1 × 10 17 molecules/cm 3 or more. The silica glass is used together with light in a wavelength region of 400 nm or shorter.

Abstract translation: 二氧化硅玻璃的结构测定温度为1200K以下，氢分子浓度为1×10 17分子/ cm 3以上。 石英玻璃与波长400nm以下的光一起使用。

公开(公告)号：EP0546196A1

公开(公告)日：1993-06-16

申请号：EP92913798.2

申请日：1992-06-29

Applicant: SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.

Inventor： NISHIMURA, Hiroyuki, Shin-Etsu Quartz Co.Ltd. ,  FUJINOKI, Akira, Shin-Etsu Quartz Co.Ltd Sekieigi ,  MATSUYA, Toshikatsu, Shin-Etsu Quartz Co.Ltd.Seki ,  INAKI, Kyoichi, Shin-Etsu Quartz Products Co.Ltd. ,  KATO, Toshiyuki, Shin-Etsu Quartz Products Co.Ltd ,  SHIMADA, Atsushi, Shin-Etsu Quartz Co. Ltd.

IPC: C03C3/06 ,  C03B8/04 ,  C03B20/00 ,  G02B1/02 ,  C03C4/00 ,  C03C23/00 ,  G02B1/00 ,  C03B32/00

CPC classification number: C03B37/014 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2203/22 ,  C03B2207/32 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  G03F7/70958 ,  Y02P40/57 ,  Y10S65/08 ,  Y10S501/90

Abstract: A synthetic quartz glass optical member for an ultraviolet laser, suitably applicable as a stepper lens of a lithographer using an excimer laser beam and other optical members, wherein the quartz glass has a hydroxyl content of 10 to 100 ppm, a chlorine content of 200 ppm or less, a hydrogen content of 1 x 10 16 molecules/cm 3 or less, a homogeneity of refractive index of 5 x 10- 6 or less in terms of Δn, and a birefringence of 5 nm/cm or less. The optical member can be produced by subjecting a volatile silicon compound to flame hydrolysis with oxyhydrogen flame, depositing the formed particulate silica on a heat-resistant support to prepare a porous silica matrix, heating the matrix in a vacuum as high as 1 x 10- 2 Torr or above to a temperature of 1,400 °C or above to effect dehydration and degassing, homogenizing the resultant transparent quartz glass into highly homogeneous quartz glass free from striae in at least one direction, molding the highly homogeneous quartz glass, and annealing the molded glass.

Abstract translation: 一种用于紫外线激光的合成石英玻璃光学元件，适用于使用准分子激光束和其它光学部件的平版印刷机的步进透镜，其中石英玻璃的羟基含量为10〜100ppm，氯含量为200ppm 或更小，1×10 6分子/ cm 3以下的氢含量，DELTA n的折射率均匀度为5×10 -6以下，a 双折射为5nm / cm以下。 光学构件可以通过使挥发性硅化合物用氢氧焰火焰水解，将形成的颗粒二氧化硅沉积在耐热载体上以制备多孔二氧化硅基质，在高达1×10 5的真空中加热基质， - > 2乇或以上至1400℃以上的温度进行脱水脱气，将得到的透明石英玻璃均匀化成至少一个方向没有条纹的高度均匀的石英玻璃，成型高度均匀的石英玻璃， 并对模制玻璃进行退火。

公开(公告)号：JP2018525661A

公开(公告)日：2018-09-06

申请号：JP2017567133

申请日：2016-06-28

Applicant: コーニング インコーポレイテッド

Inventor： ブックバインダー,ダナ クレイグ ,  イ,ミン−ジョン ,  マシューズ,ヘイゼル ベントン ザ サード ,  ミシュラ,スニグダラージ クマール ,  タンドン,プシュカー

IPC: G02B6/02 ,  C03B37/018 ,  C03C13/04 ,  C03B8/04 ,  G02B6/036

CPC classification number: G02B6/02019 ,  C03B37/01446 ,  C03B37/01453 ,  C03B37/018 ,  C03B37/01846 ,  C03B2201/08 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2203/22 ,  C03B2203/23 ,  C03B2207/32 ,  C03C3/06 ,  C03C13/045 ,  C03C13/046 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2213/00 ,  G02B6/02009 ,  G02B6/02238 ,  G02B6/02395 ,  G02B6/03627 ,  G02B6/0365

Abstract: 大きい有効面積、低い曲げ損失及び低い減衰を有する光ファイバ。この光ファイバは、コア、内側クラッド領域、及び外側クラッド領域を備えている。コア領域は、低いレイリー散乱を最小限に抑えるための空間的に均一なアップドーパントと、大きい有効面積をもたらすように構成された相対屈折率及び半径とを含む。内側クラッド領域は、曲げ損失を最小限に抑えるための大きいトレンチ体積を特徴とする。コアには、Clがドープされ、内側クラッド領域にはFがドープされうる。

公开(公告)号：JP2017076053A

公开(公告)日：2017-04-20

申请号：JP2015203490

申请日：2015-10-15

Applicant: 住友電気工業株式会社

Inventor： 田村 欣章 ,  春名 徹也 ,  平野 正晃 ,  佐久間 洋宇

IPC: G02B6/036

CPC classification number: G02B6/03694 ,  C03C13/045 ,  C03C13/046 ,  G02B6/03611 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/50 ,  C03C2201/54 ,  C03C2213/00

Abstract: 【課題】伝送損失が低減された光ファイバを提供する。 【解決手段】光ファイバ1は、第1コア11と、この第1コアを取り囲む第2コア12とを含み、第2コアの屈折率が第1コアの屈折率より大きく、第2コアのハロゲン濃度の平均値が5000ppm以上であり、屈折率を増加させる金属ドーパントを実質的に含まないシリカガラスからなるコア10と、第2コアを取り囲み、第1コアの屈折率より小さい屈折率を有し、屈折率を増加させる金属ドーパントを実質的に含まないシリカガラスからなるクラッド20と、を備える。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP2014166941A

公开(公告)日：2014-09-11

申请号：JP2014013029

申请日：2014-01-28

Applicant: Sumitomo Electric Ind Ltd ,  住友電気工業株式会社

Inventor： TAMURA YASUAKI ,  HARUNA TETSUYA ,  HIRANO MASAAKI

IPC: C03B37/014 ,  C03B37/012 ,  C03C3/06 ,  G02B6/00 ,  G02B6/036

CPC classification number: G02B6/0229 ,  C03B37/01248 ,  C03B37/01807 ,  C03B37/01869 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/50 ,  C03B2203/22 ,  C03B2203/23 ,  C03C13/045 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/50 ,  G02B6/02395

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical fiber preform which can be drawn into an optical fiber with low loss.SOLUTION: An optical fiber preform 1 includes a core part 10 and a clad part 20 surrounding the core part 10. The core part 10 includes a first core part 11 and a second core part 12 surrounding the first core part 11. The clad part 20 includes a first clad part 21 surrounding the second core part 12 and a second clad part 22 surrounding the first clad part 21. The first core part 11 contains an alkali metal element, a density of oxygen molecules included in a glass being 30 to 200 mol ppb in a part or the whole of an area where an alkali metal atom density is 100 atomic ppm or larger and 10 mol ppb or less in an area where an alkali metal atom density is 50 atomic ppm or less.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够以低损耗吸收到光纤中的光纤预制件。解决方案：光纤预制棒1包括芯部10和围绕芯部10的包层部20.芯部10 包括围绕第一芯部11的第一芯部11和第二芯部12.包层部20包括围绕第二芯部12的第一包层部21和围绕第一包层部21的第二包层部22。 核心部分11包含碱金属元素，玻璃中包含的氧分子的密度在碱金属原子密度为100原子ppm以上且10摩尔ppb的部分或全部的部分或整体中为30〜200摩尔ppb， 在碱金属原子密度为50原子ppm以下的区域较少。

公开(公告)号：JP4437886B2

公开(公告)日：2010-03-24

申请号：JP2002353980

申请日：2002-12-05

Applicant: ヘレウス・クアルツグラース・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング・ウント・コンパニー・コマンディット・ゲゼルシャフトHeraeus Quarzglas GmbH & Co. KG ,  信越石英株式会社

Inventor： ブルーノ・イェビング ,  ボド・キューン

IPC: C03B20/00 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B19/1415 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52

公开(公告)号：JP2009155170A

公开(公告)日：2009-07-16

申请号：JP2007336167

申请日：2007-12-27

Applicant: Asahi Glass Co Ltd ,  旭硝子株式会社

Inventor： KOIKE AKIO ,  IWAHASHI KOSHIN ,  KIKUKAWA SHINYA ,  OKAMURA KENJI

IPC: C03C15/00 ,  C03C3/06 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F1/24 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03C3/06 ,  C03C15/02 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/54 ,  C03C2204/08 ,  G03F7/70958 ,  H01J2237/0812

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical member for EUVL (Extreme UltraViolet Lithography) used for a reflection type mask, mirror or the like for EUVL, and in which the flatness and surface roughness of an optical plane are excellent, and also, the chipping of a chamfered part is prevented, and to provide a surface treatment method for the optical plane of an optical member for EUVL.
SOLUTION: The surface treatment method for the optical member for EUVL is characterized in that the optical plane of an optical member for EUVL made of a quartz glass material having OH concentration of ≥100 ppm, essentially consisting of SiO
2 and comprising TiO
2 is subjected to GCIB (Gas Cluster Ion Beam) etching using a source gas comprising at least either fluorine or chlorine.
COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供用于EUVL的反射型掩模，反射镜等的用于EUVL（Extreme UltraViolet Lithography）的光学部件，其中光学平面度和表面粗糙度优异，并且 另外，防止倒角部分的碎裂，并为EUVL的光学部件的光学平面提供表面处理方法。 解决方案：用于EUVL的光学部件的表面处理方法的特征在于，由OH浓度为≥100ppm的石英玻璃材料制成的用于EUVL的光学部件的光学平面基本上由SiO 2组成 使用包含至少氟或氯的源气体进行GCIB（气体簇离子束）蚀刻，并且包含TiO 2 SB 2。 版权所有（C）2009，JPO＆INPIT