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11.发明专利包括一低溫恆溫器及超導線圈層的總成，及包括具有該總成之一平面磁力磁浮及/或加速馬達系統之微影裝置 有权包括一低温恒温器及超导线圈层的总成，及包括具有该总成之一平面磁力磁浮及/或加速马达系统之微影设备
公开(公告)号：TWI700558B
公开(公告)日：2020-08-01
申请号：TW108118320
申请日：2019-05-28
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
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公开(公告)号：TWI700547B
公开(公告)日：2020-08-01
申请号：TW107105689
申请日：2018-02-21
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 泰爾 溫 提波 , TEL, WIM TJIBBO , 席責斯 巴特 皮特 柏特 , SEGERS, BART PETER BERT , 摩斯 艾佛哈德斯 柯奈利斯 , MOS, EVERHARDUS CORNELIS , 舒密特-韋佛 艾密爾 彼得 , SCHMITT-WEAVER, EMIL PETER , 張褘晨 , ZHANG, YICHEN , 凡 瑞 彼得斯 傑拉杜斯 , VAN RHEE, PETRUS GERARDUS , 柳 星蘭 , LIU, XING LAN , 基利茲拉奇 瑪利亞 , KILITZIRAKI, MARIA , 容布盧 雷納 瑪利亞 , JUNGBLUT, REINER MARIA , 劉賢優 , YU, HYUNWOO
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公开(公告)号：TWM598960U
公开(公告)日：2020-07-21
申请号：TW108216229
申请日：2019-12-05
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 波伊茲 湯瑪士 , POIESZ, THOMAS , 史古登 伯特 德克 , SCHOLTEN, BERT DIRK , 哈伯茲 德爾克 威廉 , HARBERTS, DIRK WILLEM , 史蒂文生 路卡斯 亨利克斯 喬漢斯 , STEVENS, LUCAS HENRICUS JOHANNES , 費爾南德斯 狄亞茲 蘿拉 瑪麗亞 , FERNANDEZ DIAZ, LAURA MARIA , 皮傑能保 裘漢斯 亞傑能斯 寇能利斯 瑪麗亞 , PIJNENBURG, JOHANNES ADRIANUS CORNELIS MARIA , 索薩德 雅伯罕 亞歷山卓 , SOETHOUDT, ABRAHAM ALEXANDER , 維爾特斯 威爾漢穆斯 賈庫伯斯 喬納斯 , WELTERS, WILHELMUS JACOBUS JOHANNES , 凡 迪 溫可 吉米 馬特斯 威哈幕斯 , VAN DE WINKEL, JIMMY MATHEUS WILHELMUS
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公开(公告)号：TWI696043B
公开(公告)日：2020-06-11
申请号：TW106132953
申请日：2017-09-26
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
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公开(公告)号：TWI694316B
公开(公告)日：2020-05-21
申请号：TW107146307
申请日：2018-12-21
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 史拉奇特 亞伯拉罕 , SLACHTER, ABRAHAM , 亨奇 史蒂芬 , HUNSCHE, STEFAN , 泰爾 溫 提波 , TEL, WIM TJIBBO , 凡 巫斯登 安東 伯恩哈得 , VAN OOSTEN, ANTON BERNHARD , 范 因根 史齊橈 柯恩拉德 , VAN INGEN SCHENAU, KOENRAAD , 瑞斯朋 吉斯博特 , RISPENS, GIJSBERT , 彼得森 布洛南 , PETERSON, BRENNAN
IPC: G03F7/20
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：TWI694312B
公开(公告)日：2020-05-21
申请号：TW107102698
申请日：2018-01-25
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 拉赫曼 薩米 烏爾 , REHMAN,SAMEE UR
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公开(公告)号：TWI694303B
公开(公告)日：2020-05-21
申请号：TW107140959
申请日：2018-11-19
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 柴特瑪司 艾納諾斯堤斯 , TSIATMAS, ANAGNOSTIS , 希尼 保羅 克利絲丁安 , HINNEN, PAUL CHRISTIAAN , 麥克 納馬拉 艾略特 葛雷德 , MC NAMARA, ELLIOTT GERARD , 休威斯 湯馬士 , THEEUWES, THOMAS , 迪 拉 福恩特 范諾汀 瑪麗亞 伊莎貝爾 , DE LA FUENTE VALENTIN, MARIA ISABEL , 賽爾卓迪 米爾 赫瑪永 , SHAHRJERDY, MIR HOMAYOUN , 丹 伯夫 艾瑞 傑佛瑞 , DEN BOEF, ARIE JEFFREY , 王淑錦 , WANG, SHU-JIN
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公开(公告)号：TWI692007B
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：TW108119110
申请日：2017-12-26
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 泰爾 溫 提波 , TEL, WIM TJIBBO , 卡陶 漢斯 艾瑞克 , KATTOUW, HANS ERIK , 奧提尼 瓦雷利歐 , ALTINI, VALERIO , 莫依司特 比爾愛曲 , MOEST, BEARRACH
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
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公开(公告)号：TWI691801B
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：TW106142916
申请日：2017-12-07
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 帕迪 尼特許 , PANDEY, NITESH , 柯蘭 愛曼德 尤金尼 愛博特 , KOOLEN, ARMAND EUGENE ALBERT
IPC: G03F7/20
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公开(公告)号：TW202014809A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108148336
申请日：2018-04-27
Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
Inventor： 伊瑪 亞力山大 , YPMA, ALEXANDER , 塔伯里 希拉 艾米爾 , TABERY, CYRUS EMIL , 凡 果珀 賽門 亨德立克 席林 , VAN GORP, SIMON HENDRIK CELINE , 林晨希 , LIN, CHENXI , 桑塔格 戴格 , SONNTAG, DAG , 希可利 哈奇 爾金 , CEKLI, HAKKI ERGUN , 亞發雷茲 桑契斯 魯賓 , ALVAREZ SANCHEZ, RUBEN , 劉士嶔 , LIU, SHIH-CHIN , 海斯汀思 賽門 飛利浦 史賓斯 , HASTINGS, SIMON PHILIP SPENCER , 曼徹奇可夫 伯瑞斯 , MENCHTCHIKOV, BORIS , 迪 瑞提 克里斯汀 西奧多爾 , DE RUITER, CHRISTIAAN THEODOOR , 譚 伯格 彼德 , TEN BERGE, PETER , 拉索 麥可 詹姆士 , LERCEL, MICHAEL JAMES , 段薇 , DUAN, WEI , 吉泰 皮耶-伊夫 傑羅姆 伊萬 , GUITTET, PIERRE-YVES JEROME YVAN
Abstract: 本發明揭示一種用於預測經受一製程之一基板之一電特性的方法及相關聯電腦程式。該方法包括：基於電度量衡資料及製程度量衡資料之分析來判定該電特性對一製程特性之一敏感度，該電度量衡資料包括自先前經處理基板之經量測之電特性，且該製程度量衡資料包括與自該等先前經處理基板量測之該製程特性有關的至少一個參數之量測；獲得關於該基板之描述該至少一個參數之製程度量衡資料；及基於該敏感度及該製程度量衡資料來預測該基板之該電特性。
Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种用于预测经受一制程之一基板之一电特性的方法及相关联电脑进程。该方法包括：基于电度量衡数据及制程度量衡数据之分析来判定该电特性对一制程特性之一敏感度，该电度量衡数据报括自先前经处理基板之经量测之电特性，且该制程度量衡数据报括与自该等先前经处理基板量测之该制程特性有关的至少一个参数之量测；获得关于该基板之描述该至少一个参数之制程度量衡数据；及基于该敏感度及该制程度量衡数据来预测该基板之该电特性。
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