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11.多孔性碳製品之製造方法及其應用 METHOD FOR PRODUCING A POROUS CARBON PRODUCT AND USE THEREOF 审中-公开
Simplified title: 多孔性碳制品之制造方法及其应用 METHOD FOR PRODUCING A POROUS CARBON PRODUCT AND USE THEREOF公开(公告)号:TW201236969A
公开(公告)日:2012-09-16
申请号:TW101106128
申请日:2012-02-24
Applicant: 何瑞斯廓格拉斯公司
CPC classification number: C04B38/0032 , C01B32/00 , C04B38/0022 , C04B2111/00853 , H01M4/133 , H01M4/1393 , H01M4/587 , H01M4/8882 , H01M4/96 , H01M10/052 , C04B35/52 , C04B38/045
Abstract: 一種多孔性碳製品之製造方法,該方法包含由無機模板材料製造模板,該模板具有彼此連通之孔洞,以及製備一種碳之前驅物質,並以該前驅物質滲透模板之孔,碳化該前驅物質,以及去除該模板,以形成多孔性碳製品。以此為起點提出一種方法,該方法能便宜製造多孔性碳結構,即使壁厚較厚亦然。其係依據本發明,以可熔化原料以及模板粒子製成前驅物質粒子,並由該粒子產生一種粉末混合物,該粉末混合物係於方法步驟(d)碳化時,或在此之前,以如下方式加熱,使前驅物質熔化物滲入模板粒子之孔洞內。
Abstract in simplified Chinese: 一种多孔性碳制品之制造方法,该方法包含由无机模板材料制造模板,该模板具有彼此连通之孔洞,以及制备一种碳之前驱物质,并以该前驱物质渗透模板之孔,碳化该前驱物质,以及去除该模板,以形成多孔性碳制品。以此为起点提出一种方法,该方法能便宜制造多孔性碳结构,即使壁厚较厚亦然。其系依据本发明,以可熔化原料以及模板粒子制成前驱物质粒子,并由该粒子产生一种粉末混合物,该粉末混合物系于方法步骤(d)碳化时,或在此之前,以如下方式加热,使前驱物质熔化物渗入模板粒子之孔洞内。
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12.具不透明中央區之石英玻璃元件及其製造方法 QUARTZ GLASS COMPONENT WITH OPAQUE INNER ZONE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME 审中-公开
Simplified title: 具不透明中央区之石英玻璃组件及其制造方法 QUARTZ GLASS COMPONENT WITH OPAQUE INNER ZONE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME公开(公告)号:TW201124350A
公开(公告)日:2011-07-16
申请号:TW099142038
申请日:2010-12-03
Applicant: 何瑞斯廓格拉斯公司
IPC: C03B
CPC classification number: G02B5/206 , B23K26/0054 , B23K26/0057 , C03C23/0025 , G02B1/12 , G02B5/0247 , G02B5/0263
Abstract: 為重覆製造一種石英玻璃元件,其至少具一作用為散射或反射層之不透明中央區,且該區特徵為表面光滑且密實及尺寸精準度很高時,根據本發明之建議為,石英玻璃元件係由透明石英玻璃製備而成,而石英玻璃元件內部,係利用雷射內雕法於300μm或更深之深度形成玻璃結構缺陷,以產生一平面狀之不透明中央區。
Abstract in simplified Chinese: 为重复制造一种石英玻璃组件,其至少具一作用为散射或反射层之不透明中央区,且该区特征为表面光滑且密实及尺寸精准度很高时,根据本发明之建议为,石英玻璃组件系由透明石英玻璃制备而成,而石英玻璃组件内部,系利用激光内雕法于300μm或更深之深度形成玻璃结构缺陷,以产生一平面状之不透明中央区。
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13.用以處理半導體晶圓之石英玻璃波震機及製造該波震機之方法 QUARTZ GLASS JIG FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR WAFERS AND METHOD FOR PRODUCING THE JIG 失效
Simplified title: 用以处理半导体晶圆之石英玻璃波震机及制造该波震机之方法 QUARTZ GLASS JIG FOR PROCESSING SEMICONDUCTOR WAFERS AND METHOD FOR PRODUCING THE JIG公开(公告)号:TW200817292A
公开(公告)日:2008-04-16
申请号:TW095137054
申请日:2006-10-05
Applicant: 何瑞斯廓格拉斯公司 HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG , 信越石英股份有限公司 SHIN-ETSU QUARTZ PRODUCTS CO., LTD.
Inventor: 攸爾根 偉伯 JUERGEN WEBER , 托比亞斯 波格 TOBBIAS POGGE , 馬丁 托墨爾 MARTIN TROMMER , 波多 庫恩 BODO KUEHN , 烏利希 契爾斯特 ULRICH KIRST , 華陶特 衛狄克 WALTRAUD WERDECKER
CPC classification number: C03C3/06 , C03B19/06 , C03B19/09 , C03B32/00 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/24 , C03B2201/32 , C03C15/00 , C03C19/00 , C03C23/0025 , C03C23/006 , C03C2201/11 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2201/24 , C03C2201/32 , C03C2201/50 , C03C2203/54 , C30B25/12 , C30B31/14 , C30B35/00 , Y02P40/57
Abstract: 一種於有蝕刻效果之環境下用於晶圓波震機之理想石英玻璃,其具特別高純度及高抗乾蝕刻性。為指出一種實質上滿足該等條件之石英玻璃,根據本發明所提供者,係於石英玻璃至少在近表面區域摻雜氮,並具以重量計少於百萬分之三十之平均介穩態羥基含量,其擬溫度低於1250℃且其黏度在1200℃下至少為10^13dPa.s。一種用以產生該石英玻璃之經濟方法包含下列方法步驟:熔化一SiO2原料以獲得一石英玻璃坯,該SiO2原料或該石英玻璃坯接受一脫水處理,SiO2原料或該石英玻璃坯在含氨氣體環境中加熱至1050℃至1850℃範圍內之氮化溫度,藉由溫度處理將該石英玻璃坯之石英玻璃設定為1250℃或較低之擬溫度,並對該石英玻璃坯做表面處理,而形成石英玻璃波震機。
Abstract in simplified Chinese: 一种于有蚀刻效果之环境下用于晶圆波震机之理想石英玻璃,其具特别高纯度及高抗干蚀刻性。为指出一种实质上满足该等条件之石英玻璃,根据本发明所提供者,系于石英玻璃至少在近表面区域掺杂氮,并具以重量计少于百万分之三十之平均介稳态羟基含量,其拟温度低于1250℃且其黏度在1200℃下至少为10^13dPa.s。一种用以产生该石英玻璃之经济方法包含下列方法步骤:熔化一SiO2原料以获得一石英玻璃坯,该SiO2原料或该石英玻璃坯接受一脱水处理,SiO2原料或该石英玻璃坯在含氨气体环境中加热至1050℃至1850℃范围内之氮化温度,借由温度处理将该石英玻璃坯之石英玻璃设置为1250℃或较低之拟温度,并对该石英玻璃坯做表面处理,而形成石英玻璃波震机。
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公开(公告)号:TW201834981A
公开(公告)日:2018-10-01
申请号:TW106144952
申请日:2017-12-21
Applicant: 德商何瑞斯廓格拉斯公司 , HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG
Inventor: 史肯克 克里斯 , SCHENK, CHRISTIAN , 史肯齊 葛里特 , SCHEICH, GERRIT , 佐烈齊 納汀 , TSCHOLITSCH, NADINE
Abstract: 本發明係關於在一種用於製造不透明石英玻璃之已知方法中,由含有精細之非晶形SiO2粒子之滑流及粗糙之SiO2增強體製造生坯,且以燒結處理之方式將該生坯燒結為由不透明石英玻璃製得之坯體。具有比密度DK1之該等增強體在此處包埋於具有玻璃比密度DM之SiO2基質中。由此開始,為了提供較不易於裂化且甚至在較小壁厚之情況下亦顯示均勻透射之不透明石英玻璃坯體,根據本發明建議使用可燒結增強體,該等可燒結增強體在該燒結處理之前之比密度DK0低於該玻璃比密度DM,且該等可燒結增強體由於該燒結處理達至與該玻璃比密度DM相差小於10%之該比密度DK1。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于在一种用于制造不透明石英玻璃之已知方法中,由含有精细之非晶形SiO2粒子之滑流及粗糙之SiO2增强体制造生坯,且以烧结处理之方式将该生坯烧结为由不透明石英玻璃制得之坯体。具有比密度DK1之该等增强体在此处包埋于具有玻璃比密度DM之SiO2基质中。由此开始,为了提供较不易于裂化且甚至在较小壁厚之情况下亦显示均匀透射之不透明石英玻璃坯体,根据本发明建议使用可烧结增强体,该等可烧结增强体在该烧结处理之前之比密度DK0低于该玻璃比密度DM,且该等可烧结增强体由于该烧结处理达至与该玻璃比密度DM相差小于10%之该比密度DK1。
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公开(公告)号:TW201733930A
公开(公告)日:2017-10-01
申请号:TW105141761
申请日:2016-12-16
Applicant: 何瑞斯廓格拉斯公司 , HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG
Inventor: 歐特 馬休斯 , OTTER, MATTHIAS , 萊曼 瓦特 , LEHMAN, WALTER , 胡乃曼 麥可 , HUNERMANN, MICHAEL , 尼爾森 尼爾斯-克理斯提恩 , NIELSEN, NILS-CHRISTIAN , 惠比 尼吉爾 羅伯特 , WHIPPEY, NIGEL ROBERT , 格羅曼 伯里斯 , GROMANN, BORIS , 柯佩巴尼 愛比托-加法 , KPEBANE, ABDOUL-GAFAR , 凱瑟 湯瑪士 , KAYSER, THOMAS
CPC classification number: C03B19/106 , C03B17/04 , C03B19/066 , C03B19/108 , C03B19/1095 , C03B2201/07 , C03B2201/23 , C03C3/06 , C03C13/045 , C03C2201/11 , C03C2201/23 , C03C2201/26 , C03C2201/32 , C03C2203/44 , C03C2203/54
Abstract: 本發明係關於一種用於製備石英玻璃體之方法,其包含方法步驟i.)提供二氧化矽顆粒,ii.)由該二氧化矽顆粒製造玻璃熔體及iii.)由該玻璃熔體之至少一部分製造石英玻璃體,其中該提供包含步驟I.製造由矽-氯化合物製備之具有至少兩個粒子的二氧化矽粉末,II.使該二氧化矽粉末與氨接觸以獲得經處理之二氧化矽粉末,及III.對該經處理之二氧化矽粉末進行造粒以獲得二氧化矽顆粒,並且其中該二氧化矽粉末之氯含量大於該二氧化矽顆粒之氯含量。本發明進一步係關於一種可藉由此方法獲得之石英玻璃體。本發明亦係關於一種用於製備二氧化矽顆粒之方法。本發明進一步係關於一種光導、一種施照體及一種成型體,其各自可藉由在各情況中進一步加工該石英玻璃體獲得。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种用于制备石英玻璃体之方法,其包含方法步骤i.)提供二氧化硅颗粒,ii.)由该二氧化硅颗粒制造玻璃熔体及iii.)由该玻璃熔体之至少一部分制造石英玻璃体,其中该提供包含步骤I.制造由硅-氯化合物制备之具有至少两个粒子的二氧化硅粉末,II.使该二氧化硅粉末与氨接触以获得经处理之二氧化硅粉末,及III.对该经处理之二氧化硅粉末进行造粒以获得二氧化硅颗粒,并且其中该二氧化硅粉末之氯含量大于该二氧化硅颗粒之氯含量。本发明进一步系关于一种可借由此方法获得之石英玻璃体。本发明亦系关于一种用于制备二氧化硅颗粒之方法。本发明进一步系关于一种光导、一种施照体及一种成型体,其各自可借由在各情况中进一步加工该石英玻璃体获得。
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公开(公告)号:TW201731082A
公开(公告)日:2017-09-01
申请号:TW105137376
申请日:2016-11-16
Applicant: 賀利氏諾伯燈具公司 , HERAEUS NOBLELIGHT GMBH , 何瑞斯廓格拉斯公司 , HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG
Inventor: 蓋伯 羅塔 , GAAB, LOTTA , 尼爾森 尼爾斯 克理斯提恩 , NIELSEN, NILS CHRISTIAN , 史肯齊 葛里特 , SCHEICH, GERRIT , 韋柏 茱根 , WEBER, JURGEN , 衛斯理 法蘭克 , WESSELY, FRANK
CPC classification number: H05B3/66 , F27B9/063 , F27D11/00 , H05B3/0038 , H05B3/265 , H05B2203/002 , H05B2203/013 , H05B2203/032
Abstract: 本發明係關於具有基板之空間紅外線發射器,該基板包含表面且係由電絕緣材料製成。該電絕緣材料與由具導電性且當電流流過其時產生熱之電阻材料製成之印刷導體接觸。在此基礎上,為提供容易適合於待加熱表面之幾何形狀且即使基板壁薄亦允許進行均勻加熱之每單位面積具有高輻射功率之紅外線發射器(特定言之空間紅外線發射器),本發明提議該基板材料包含包埋會在紅外線輻射之光譜範圍吸收之額外組分於其中的非晶形基質組分。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于具有基板之空间红外线发射器,该基板包含表面且系由电绝缘材料制成。该电绝缘材料与由具导电性且当电流流过其时产生热之电阻材料制成之印刷导体接触。在此基础上,为提供容易适合于待加热表面之几何形状且即使基板壁薄亦允许进行均匀加热之每单位面积具有高辐射功率之红外线发射器(特定言之空间红外线发射器),本发明提议该基板材料包含包埋会在红外线辐射之光谱范围吸收之额外组分于其中的非晶形基质组分。
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17.由摻鈦石英玻璃製造極紫外線平版印刷所用鏡基板胚件之方法,以及胚件缺陷之定位系統 有权
Simplified title: 由掺钛石英玻璃制造极紫外线平版印刷所用镜基板胚件之方法,以及胚件缺陷之定位系统公开(公告)号:TWI545315B
公开(公告)日:2016-08-11
申请号:TW103120956
申请日:2014-06-18
Applicant: 何瑞斯廓格拉斯公司 , HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG
Inventor: 貝克 克勞斯 , BECKER, KLAUS
IPC: G01N21/958 , B24B13/00 , B24B49/12
CPC classification number: B24B49/12 , B24B7/241 , B24B13/0018 , G01N21/8851 , G01N21/958 , G01N2021/8861 , G01N2021/8967 , G01N2201/06113
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公开(公告)号:TWI537207B
公开(公告)日:2016-06-11
申请号:TW100137228
申请日:2011-10-14
Applicant: 何瑞斯廓格拉斯公司 , HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG
Inventor: 諾伊曼 克里斯汀 , NEUMANN, CHRISTIAN , 貝克 約爾格
CPC classification number: H01M4/133 , B01J20/20 , B01J20/28042 , B01J20/28057 , B01J20/28059 , B01J20/28069 , B01J20/3064 , C01B32/00 , C01B32/20 , C01B32/372 , C04B35/521 , C04B38/0615 , C04B2111/00853 , H01M4/0402 , H01M4/0416 , H01M4/0471 , H01M4/1393 , H01M4/583 , H01M4/587 , H01M4/96 , H01M10/052 , H01M2004/021
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公开(公告)号:TW201527232A
公开(公告)日:2015-07-16
申请号:TW103136400
申请日:2014-10-22
Applicant: 何瑞斯廓格拉斯公司 , HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG
Inventor: 歐克斯 史帝芬 , OCHS, STEFAN , 貝克 克勞斯 , BECKER, KLAUS
IPC: C03B19/06 , C03B19/14 , C03B20/00 , C03C3/06 , G02B1/00 , G02B5/08 , G02B27/18 , B41N1/12 , G03F1/24
CPC classification number: C03B19/1461 , C03B19/066 , C03B19/106 , C03B19/1095 , C03B19/14 , C03B2201/12 , C03B2201/42 , C03C3/06 , C03C4/0085 , C03C2201/12 , C03C2201/42 , C03C2203/40 , C03C2203/54 , C03C2204/00 , G03F1/24
Abstract: 本發明係關於一種方法,由摻鈦之高矽酸含量玻璃製造胚件,其具一預定之氟含量,以應用於極紫外線平版印刷,使其熱膨脹係數在操作溫度下儘可能穩定為零。摻鈦矽玻璃胚件之熱膨脹係數走勢,係由許多影響因素決定。除去絕對鈦含量之外,鈦之分布亦有極大意義,其他摻雜元素之含量及分布亦然,例如氟。本發明係提出一種方法,其係包含一合成製程,由該製程產生摻氟之TiO2-SiO2煤灰粒子,再經由固化及玻璃化加工成為胚件,其特徵為,其合成程序包含一方法步驟,利用火焰水解法將含矽和鈦之起始物質形成TiO2-SiO2煤灰粒子,並於後續方法步驟中,將TiO2-SiO2煤灰粒子置於一活動粉末床中,使其暴露於含氟之反應劑而轉變成摻氟之TiO2-SiO2煤灰粒子。
Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种方法,由掺钛之高硅酸含量玻璃制造胚件,其具一预定之氟含量,以应用于极紫外线平版印刷,使其热膨胀系数在操作温度下尽可能稳定为零。掺钛硅玻璃胚件之热膨胀系数走势,系由许多影响因素决定。除去绝对钛含量之外,钛之分布亦有极大意义,其他掺杂元素之含量及分布亦然,例如氟。本发明系提出一种方法,其系包含一合成制程,由该制程产生掺氟之TiO2-SiO2煤灰粒子,再经由固化及玻璃化加工成为胚件,其特征为,其合成进程包含一方法步骤,利用火焰水解法将含硅和钛之起始物质形成TiO2-SiO2煤灰粒子,并于后续方法步骤中,将TiO2-SiO2煤灰粒子置于一活动粉末床中,使其暴露于含氟之反应剂而转变成掺氟之TiO2-SiO2煤灰粒子。
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公开(公告)号:TW201504166A
公开(公告)日:2015-02-01
申请号:TW103121820
申请日:2014-06-25
Applicant: 何瑞斯廓格拉斯公司 , HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG
Inventor: 葛羅曼 波利斯 , GROMANN, BORIS , 歐伯雷 布爾克哈德 , OBERLE, BURKHARD , 宣克 克里斯汀 , SCHENK, CHRISTIAN , 費雪 傑洛 , FISCHER, GERO , 德可雷克 裴拉基 , 法蘭茲 貝爾哈德 , FRANZ, BERNHARD , 萊恩 烏利希 , LEIN, ULRICH , 拉茲 阿雷桑德 , LAAZ, ALEXANDER , 霍夫曼 哈辛 , HOFMANN, ACHIM
CPC classification number: C03B23/053 , C03B19/14 , C03B23/043 , C03B23/045 , C03B23/07 , C03B23/08 , C03B2201/04 , C03C3/06 , C03C2203/44
Abstract: 石英玻璃大型管之製造,可知一種多階段塑造法,其第一塑造步驟係使用一塑造工具,塑造出一具半成品圓柱體壁厚及半成品圓柱體外徑之石英玻璃半成品圓柱體,然後加以冷卻,而在第二塑造步驟中,至少將一截已冷卻之半成品圓柱體饋入一熱區,使其逐區被加熱至軟化溫度,並繞其長軸旋轉,將其塑造成一具最終壁厚及最終外徑之石英玻璃大型管。其幾何變化量會隨該管之最終外徑以指數增加。故此處提出一種方法,能以經濟可及之花費製造石英玻璃管,而對於超過500mm之大型外徑,亦能有高度尺寸精準度。而依據本發明,該石英玻璃係以人工合成法製成,其平均氫氧基含量為10重量百萬分比或更小,除此之外,若其半成品圓柱體分割成長度為1cm之長條,則相鄰長條之平均氫氧基含量差異小於2重量百萬分比。(代表圖第2圖)
Abstract in simplified Chinese: 石英玻璃大型管之制造,可知一种多阶段塑造法,其第一塑造步骤系使用一塑造工具,塑造出一具半成品圆柱体壁厚及半成品圆柱体外径之石英玻璃半成品圆柱体,然后加以冷却,而在第二塑造步骤中,至少将一截已冷却之半成品圆柱体馈入一热区,使其逐区被加热至软化温度,并绕其长轴旋转,将其塑造成一具最终壁厚及最终外径之石英玻璃大型管。其几何变化量会随该管之最终外径以指数增加。故此处提出一种方法,能以经济可及之花费制造石英玻璃管,而对于超过500mm之大型外径,亦能有高度尺寸精准度。而依据本发明,该石英玻璃系以人工合成法制成,其平均氢氧基含量为10重量百万分比或更小,除此之外,若其半成品圆柱体分割成长度为1cm之长条,则相邻长条之平均氢氧基含量差异小于2重量百万分比。(代表图第2图)
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