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公开(公告)号:KR1019950034578A
公开(公告)日:1995-12-28
申请号:KR1019950004417
申请日:1995-03-04
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 테루.엔지니아링구가부시끼가이샤
IPC: H01L21/3065
Abstract: 처리용기내에 설치된 피처리체에 대하여 플라즈마 막형성처리등의 플라즈마처리를 행하는 플라즈마 처리방법이 개시된다. 이 방법은, 처리 용기내로 불활성가스를 도입하는 제1의 공정과, 처리용기내로 불활성 가스의 플라즈마를 발생시키는 제2의 공정과, 계속하여 처리용기내로 피처리체를 처리하는 처리가스를 도입하는 제3의 공정과, 처리용기내로 처리가스의 플라즈마를 발생시켜서 피처리체를 처리하는 제4의공정을 구비한다.
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公开(公告)号:KR1019950019748A
公开(公告)日:1995-07-24
申请号:KR1019940036494
申请日:1994-12-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 테루.엔지니아링구가부시끼가이샤
IPC: G01R31/02
Abstract: 병행으로 배열된 복수의 도체패턴의 한개의 끝단부에 소정의 직류전압을 인가하는 직류전압원과, 상기 끝단부에 인가되는 직류전압에 의하여 상기 한개의 도체패턴에 인접하는 다른 한개의 도체패턴에 흐르는 전류를 측정하는 전류측정회로와, 상기 전류측정회로에 의하여 측정한 전류치와 지류전압원에 의하여 인가한 전압치에 기초하여, 상기 끝단부로부터 상기 인접한 2개의 도체패턴의 단락부위까지의 저항치를 산출하고, 이 산출한 저항치와 비단락서의 도체패턴의 고유의 저항치에 기초하여 단락부위의 위치를 특정하는 단락위치 산출회로를 구비하는 도체패턴 검사장치.
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