公开(公告)号：KR1020120054153A

公开(公告)日：2012-05-30

申请号：KR1020100115397

申请日：2010-11-19

Applicant: (재)한국나노기술원

Inventor： 박형호 ,  강호관 ,  이종근 ,  고철기 ,  장민철

IPC: G03F7/00 ,  B29C59/00

CPC classification number: G03F7/0002 ,  G03F1/80 ,  G03F7/0163 ,  G03F7/2047 ,  G03F7/7045 ,  G03F7/70875 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/32139

Abstract: PURPOSE: A method for forming patterns based on a nano-imprint technique is provided to simplify manufacturing processes by forming layers to be etched of various shapes based on one imprint process. CONSTITUTION: Metal-organic precursor compositions are coated on a layer to be etched(S1). A mold with concave-convex patterns pressurizes the metal-organic precursor compositions(S2). The pressurized metal-organic precursor compositions are heated, ultraviolet ray-irradiated, or simultaneously heated and ultraviolet ray-irradiated to form a cured first metal oxide thin film pattern(S3). The mold is eliminated from the first metal oxide thin film pattern(S4). A part of the layer to be etched is etched by using the first metal oxide thin film pattern as a mask(S5). The first metal oxide pattern is heated and microwave, X-ray, gamma-ray, or ultraviolet-ray irradiated, or plasma treated to change the side of the first metal oxide thin film pattern and to form a second metal oxide thin film pattern(S6). The second metal oxide thin film pattern is used as an etching mask to secondarily etch the layer to be etched(S7).

Abstract translation: 目的：提供一种基于纳米压印技术形成图案的方法，以通过基于一个压印工艺形成各种形状的蚀刻层来简化制造工艺。 构成：将金属 - 有机前体组合物涂覆在待蚀刻的层上（S1）。 具有凹凸图案的模具对金属 - 有机前体组合物（S2）加压。 将加压的金属 - 有机前体组合物加热，紫外线照射或同时加热并进行紫外线照射以形成固化的第一金属氧化物薄膜图案（S3）。 从第一金属氧化物薄膜图案中去除模具（S4）。 通过使用第一金属氧化物薄膜图案作为掩模蚀刻要蚀刻的层的一部分（S5）。 加热第一金属氧化物图案并照射微波，X射线，γ射线或紫外线，或进行等离子体处理，以改变第一金属氧化物薄膜图案的侧面并形成第二金属氧化物薄膜图案 S6）。 将第二金属氧化物薄膜图案用作蚀刻掩模以二次蚀刻待蚀刻的层（S7）。

公开(公告)号：KR1020110136341A

公开(公告)日：2011-12-21

申请号：KR1020100056268

申请日：2010-06-15

Applicant: (재)한국나노기술원

Inventor： 박형호 ,  유승환 ,  강호관 ,  이종근 ,  고철기 ,  정상현 ,  신현범 ,  송호영 ,  장민철

IPC: B29C33/38 ,  B29C35/08 ,  B29C43/02

CPC classification number: B29C33/38 ,  B29C33/424 ,  B29C2033/426 ,  G03F7/0002

Abstract: PURPOSE: A method for making stamps with changed pattern and size by using another stamp is provided to manufacture new size and patterns of a stamp by varying a line width of a pattern without complex lithography. CONSTITUTION: A method for making stamps with changed pattern and size by using another stamp is as follows. An inorganic material resin(20) including metal-organic precursor is coated in a substrate(10) for a stamp. A first stamp(30) having patterns(31) is prepared. The inorganic material resin is pressurized with the first stamp. The irradiation of ultraviolet rays at same time with heating is performed at the same time of a pressurized inorganic material resin heating time and an ultraviolet irradiating time. A hardened metal oxide thin film pattern(21) is formed. The first stamp is removed from a metal oxide thin film pattern.

Abstract translation: 目的：提供通过使用另一印章制作具有改变的图案和尺寸的印章的方法，以通过改变图案的线宽而无需复杂的光刻来制造印模的新尺寸和图案。 构成：通过使用另一个邮票制作具有改变的图案和尺寸的邮票的方法如下。 将包含金属 - 有机前体的无机材料树脂（20）涂覆在用于印模的基板（10）中。 准备具有图案（31）的第一印章（30）。 无机材料树脂用第一印模加压。 在加压无机材料树脂加热时间和紫外线照射时间的同时进行加热的同时照射紫外线。 形成硬化的金属氧化物薄膜图案（21）。 从金属氧化物薄膜图案中去除第一印模。