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公开(公告)号：KR1020130015091A
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：KR1020110076919
申请日：2011-08-02
Applicant: (재)한국나노기술원
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0274 , G03F7/0002 , G03F7/2012
Abstract: PURPOSE: A micro-nano hybrid stamp using a micro patterned stamp for imprint lithography and a manufacturing method thereof are provided to remove an additional stamp by easily changing the linewidth, depth or shape of a multilevel pattern through the thermal process of a metal-organic precursor layer. CONSTITUTION: A substrate(105) for a stamp is made of polymer. A UV curable resin(106) is deposited or coated on the upper side of the substrate for the stamp. A micro-nano hybrid stamp(107) is obtained by forming a multilevel stamp on the upper side of the UV curable resin. A micro patterned stamp for imprint lithography is formed by thermally processing a metal-organic precursor layer buried in a pattern region. An engraved or embossed multilevel pattern(108) is formed by an imprint lithography process.
Abstract translation: 目的：提供使用用于压印光刻的微图案印模的微纳米混合印模及其制造方法，以通过容易地通过金属有机物的热过程改变多层图案的线宽，深度或形状来移除附加印模 前体层。 构成：用于印章的基板（105）由聚合物制成。 紫外线固化树脂（106）沉积或涂覆在用于印模的基板的上侧。 通过在UV固化树脂的上侧形成多层印模获得微纳米混合印模（107）。 用于压印光刻的微图案印模通过热处理掩埋在图案区域中的金属有机前体层形成。 通过压印光刻工艺形成雕刻或压花多层图案（108）。
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公开(公告)号：KR1020130005353A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：KR1020110066691
申请日：2011-07-06
Applicant: (재)한국나노기술원
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: H01L21/0274 , G03F7/0002 , G03F7/2012 , H01L21/0275
Abstract: PURPOSE: A patterning method using an imprint lithography and a multilayer thin film and a semiconductor device manufactured by the same are provided to reduce a patterning process by forming a pattern of a nanosize once. CONSTITUTION: A pattern is formed on the upper side of a substrate(102) for a mold. A sacrificial layer is deposited and coated on the upper side of a substrate. Resin for imprint is coated on the upper side of the sacrificial layer. A multistage pattern is formed on the upper side of the resin for the imprint. A metal layer(105) is deposited on the surface of the resin for imprint.
Abstract translation: 目的：提供使用压印光刻和多层薄膜的图案形成方法及其制造的半导体器件，以通过形成纳米尺寸图案来减少图案化过程一次。 构成：在用于模具的基板（102）的上侧形成图案。 牺牲层被沉积并涂覆在基板的上侧。 用于印记的树脂涂覆在牺牲层的上侧。 在用于印记的树脂的上侧形成多级图案。 金属层（105）沉积在用于印记的树脂的表面上。
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公开(公告)号：KR101604307B1
公开(公告)日：2016-03-18
申请号：KR1020140192392
申请日：2014-12-29
Applicant: (재)한국나노기술원
IPC: A61N5/06
CPC classification number: A61N5/0622 , A61B5/0059 , A61B5/04001 , A61B5/04009 , A61B5/0484 , A61B5/4064 , A61N5/0601
Abstract: 본발명은마이크로탐침의제조방법및 그에의해제조된마이크로탐침에관한것으로서, 본체와, 상기본체의전면에도파로가형성되어, 광원을발광시켜광자극을유도하는마이크로탐침의제조방법에있어서, 기판상의일부영역에식각공정에의한도파로형태의패턴을형성하는제1단계와, 상기도파로형태의패턴영역에코아(core)와클래드(clad)를형성하여도파로를형성하는제2단계와, 상기도파로와본체와의경계면에광원과도파로의커플링을위한리플렉터를코팅하는제3단계와, 상기리플렉터상부에상기리플렉터를향해하향발광하도록광원을형성하는제4단계와, 상기기판에탐침형성을위한패턴을형성하여, 탐침모양의패턴을분리하는제5단계를포함하여이루어진것을특징으로하는하향발광방식의광원이도파로에커플링된마이크로탐침의제조방법및 그에의해제조된마이크로탐침을기술적요지로한다. 이에의해광원에의한빛이도파로를통해탐침의끝단부로제공되어광자극을유도하는것으로서, 탐침상에광원을포함하는전기적인회로구성이없어전자기장발생으로부터자유로우며, 탐침상에광원을하향발광되도록집적하여리플렉터에의해광원을도파로에직접커플링(direct coupling)시켜, 설계조건이까다롭지않아용이하게제작할수 있으며, 생산성및 경제성이향상되는이점이있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种微探针的制造方法及其制造的微型探针。 在制造包括主体和形成在主体前面的波导以引起光刺激的微型探针的方法中，制造具有向下的发光型光源耦合波导的微型探针的方法根据 本发明包括：通过蚀刻工艺在基板上的部分区域中形成波导形图案的第一步骤; 在波导形图案区域中形成芯和包层以形成波导的第二步骤; 在波导和主体的边界表面上涂覆用于耦合光源和波导的反射器的第三步骤; 在反射器的顶部上形成光源以使得光源向下发射到反射器的第四步骤; 以及在基板上形成用于形成探针的图案以分离探针形图案的第五步骤。 具有根据本发明的向下发光型光源耦合波导的微探针通过制造微型探针的方法制造。 根据本发明的微型探针通过波导将光源的光提供到探针的端部以引起光刺激，并且不产生电磁场而不包括包括光的电路的构造 探头上的源头。 根据本发明的微型探针的制造方法能够容易地制造微型探针，并且提高生产率和经济可行性，因为通过收集光源使得探针上的光源发射的设计条件不复杂 向下并使得反射器能够执行光源与波导的直接耦合。
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公开(公告)号：KR101220421B1
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：KR1020100056267
申请日：2010-06-15
Applicant: (재)한국나노기술원
Abstract: 본 발명은 패터닝된 그래핀을 원하는 위치에 전사할 수 있고, 그래파이트화 촉매의 식각에 따른 오염 문제가 없는 그래핀 패턴 형성 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 그래핀 패턴 형성 방법의 일 구성은 마스터 기판 상에 패턴이 형성되어 있는 임프린트 스탬프를 준비하는 단계; 상기 임프린트 스탬프 상에 그래파이트화 촉매를 포함하는 금속막을 형성하는 단계; 상기 금속막이 형성된 임프린트 스탬프 상에 그래핀을 형성하는 단계; 및 상기 임프린트 스탬프 상에 형성된 그래핀을 임프린트 방법을 이용하여 소자 제작용 기판 상에 전사하여 그래핀 패턴을 형성하는 단계;를 포함한다.
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公开(公告)号：KR1020120054153A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：KR1020100115397
申请日：2010-11-19
Applicant: (재)한국나노기술원
CPC classification number: G03F7/0002 , G03F1/80 , G03F7/0163 , G03F7/2047 , G03F7/7045 , G03F7/70875 , H01L21/0337 , H01L21/32139
Abstract: PURPOSE: A method for forming patterns based on a nano-imprint technique is provided to simplify manufacturing processes by forming layers to be etched of various shapes based on one imprint process. CONSTITUTION: Metal-organic precursor compositions are coated on a layer to be etched(S1). A mold with concave-convex patterns pressurizes the metal-organic precursor compositions(S2). The pressurized metal-organic precursor compositions are heated, ultraviolet ray-irradiated, or simultaneously heated and ultraviolet ray-irradiated to form a cured first metal oxide thin film pattern(S3). The mold is eliminated from the first metal oxide thin film pattern(S4). A part of the layer to be etched is etched by using the first metal oxide thin film pattern as a mask(S5). The first metal oxide pattern is heated and microwave, X-ray, gamma-ray, or ultraviolet-ray irradiated, or plasma treated to change the side of the first metal oxide thin film pattern and to form a second metal oxide thin film pattern(S6). The second metal oxide thin film pattern is used as an etching mask to secondarily etch the layer to be etched(S7).
Abstract translation: 目的：提供一种基于纳米压印技术形成图案的方法，以通过基于一个压印工艺形成各种形状的蚀刻层来简化制造工艺。 构成：将金属 - 有机前体组合物涂覆在待蚀刻的层上（S1）。 具有凹凸图案的模具对金属 - 有机前体组合物（S2）加压。 将加压的金属 - 有机前体组合物加热，紫外线照射或同时加热并进行紫外线照射以形成固化的第一金属氧化物薄膜图案（S3）。 从第一金属氧化物薄膜图案中去除模具（S4）。 通过使用第一金属氧化物薄膜图案作为掩模蚀刻要蚀刻的层的一部分（S5）。 加热第一金属氧化物图案并照射微波，X射线，γ射线或紫外线，或进行等离子体处理，以改变第一金属氧化物薄膜图案的侧面并形成第二金属氧化物薄膜图案 S6）。 将第二金属氧化物薄膜图案用作蚀刻掩模以二次蚀刻待蚀刻的层（S7）。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020120054152A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：KR1020100115396
申请日：2010-11-19
Applicant: (재)한국나노기술원
CPC classification number: G03F7/0002 , G03F7/0032 , G03F7/2039 , G03F7/2059 , G03F7/36
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing for a nano-pattern stamp for nano-imprint lithography is provided to reduce the destruction possibility of the stamp and to obtain the various shapes and sizes of the stamp by varying the shape and the line width of patterns. CONSTITUTION: Metal-organic precursor compositions are coated on a substrate for a stamp(S1). Either electronic beam or X-ray is locally irradiated to the compositions to form a metal oxide thin film pattern through a developing agent washing process(S2). The compositions include metallic elements and organic ligand bonded to the metallic elements. The organic ligand is decomposed by either the electronic beam or the X-ray. The metal oxide thin film pattern is the form of linear, circular, ellipse, square, pentagon, hexagon, polygon, or lamellar. At least one of the shape, the line width, and the height of the pattern is changed by heating or microwave, x-ray, gamma-ray, or ultraviolet ray irradiating(S3).
Abstract translation: 目的：提供用于纳米压印光刻的纳米图案印模的制造方法，以减少印模的破坏可能性，并通过改变图案的形状和线宽来获得印模的各种形状和尺寸。 构成：将金属 - 有机前体组合物涂覆在用于印模的基材上（S1）。 电子束或X射线通过显影剂洗涤方法局部照射到组合物上以形成金属氧化物薄膜图案（S2）。 组合物包括与金属元素结合的金属元素和有机配体。 有机配体被电子束或X射线分解。 金属氧化物薄膜图案是线形，圆形，椭圆形，方形，五边形，六边形，多边形或层状的形式。 通过加热或微波，x射线，γ射线或紫外线照射来改变图案的形状，线宽和高度中的至少一个（S3）。
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公开(公告)号：KR1020110136341A
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：KR1020100056268
申请日：2010-06-15
Applicant: (재)한국나노기술원
CPC classification number: B29C33/38 , B29C33/424 , B29C2033/426 , G03F7/0002
Abstract: PURPOSE: A method for making stamps with changed pattern and size by using another stamp is provided to manufacture new size and patterns of a stamp by varying a line width of a pattern without complex lithography. CONSTITUTION: A method for making stamps with changed pattern and size by using another stamp is as follows. An inorganic material resin(20) including metal-organic precursor is coated in a substrate(10) for a stamp. A first stamp(30) having patterns(31) is prepared. The inorganic material resin is pressurized with the first stamp. The irradiation of ultraviolet rays at same time with heating is performed at the same time of a pressurized inorganic material resin heating time and an ultraviolet irradiating time. A hardened metal oxide thin film pattern(21) is formed. The first stamp is removed from a metal oxide thin film pattern.
Abstract translation: 目的：提供通过使用另一印章制作具有改变的图案和尺寸的印章的方法，以通过改变图案的线宽而无需复杂的光刻来制造印模的新尺寸和图案。 构成：通过使用另一个邮票制作具有改变的图案和尺寸的邮票的方法如下。 将包含金属 - 有机前体的无机材料树脂（20）涂覆在用于印模的基板（10）中。 准备具有图案（31）的第一印章（30）。 无机材料树脂用第一印模加压。 在加压无机材料树脂加热时间和紫外线照射时间的同时进行加热的同时照射紫外线。 形成硬化的金属氧化物薄膜图案（21）。 从金属氧化物薄膜图案中去除第一印模。
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公开(公告)号：KR101345109B1
公开(公告)日：2013-12-26
申请号：KR1020110073391
申请日：2011-07-25
Applicant: (재)한국나노기술원
Abstract: 본발명은기판또는박막에고분자층 및패터닝된감광성금속-유기물전구체층을형성하여박막의식각선택비에따른식각으로언더컷(Undercut)을형성하고, 3차원구조의나노구조체제조를위한금속또는금속산화막증착시 기판의회전유무를조절하여 3차원구조의나노구조체를제조하는임프린트리소그래피와리프트오프공정을이용한 3차원구조의정렬된나노구조체및 그제조방법에관한것으로, 임프린트리소그래피(Imprint Lithography) 공정과리프트오프(Lift-Off) 공정을이용하여 3차원형태의금속또는금속산화막나노구조체를제조하는방법에있어서, 기판에고분자층을형성하는단계, 고분자층 상부에감광성금속-유기물전구체층을형성하는단계, 패턴(Pattern)이형성된임프린트용스탬프(Imprint Stamp)를준비하는단계, 감광성금속-유기물전구체층을임프린트용스탬프(Imprint Stamp)로가압하고, 가열또는빛 조사방법중 어느하나또는혼용한방법으로감광성금속-유기물전구체층을경화하여패턴층을형성하는단계, 임프린트용스탬프(Imprint Stamp)를패턴층으로부터제거하는단계, 건식식각으로패턴층하부의고분자층을식각하여, 기판이노출되도록언더컷(Undercut)을형성하는단계, 패턴층상부또는노출된기판의상부에전자빔 증착기를이용하여금속또는금속산화막을형성하는단계및 용매를이용하여패턴층을리프트오프(Lift-Off)하여나노구조체를취득하는단계를포함한다.
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公开(公告)号：KR101249933B1
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：KR1020110076919
申请日：2011-08-02
Applicant: (재)한국나노기술원
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 감광성 금속-유기물 전구체의 열처리에 의해 패턴의 선폭 및 깊이 변경이 용이한 임프린트용 마이크로 스탬프(Micro Patterned Stamp for Imprint Lithography)를 이용한 마이크로-나노 하이브리드 스탬프 및 그 제조방법에 관한 것으로, ㎛ 또는 ㎚ 크기 단위로 패턴이 형성된 기판을 제공하는 단계, 패턴이 형성된 기판에 감광성 금속-유기물 전구체를 도포하는 단계, 몰드로 기판에 도포된 감광성 금속-유기물 전구체를 가압하여, 감광성 금속-유기물 전구체층을 형성하는 단계, 감광성 금속-유기물 전구체층에서 건식 또는 습식 식각으로 몰드를 제거하는 단계, 감광성 금속-유기물 전구체층을 건식 또는 습식 식각하여, 기판 영역과 패턴 영역을 평탄화하는 단계, 패턴 영역에 매립된 금속-유기물 전구체층을 열처리하여, 패턴 영역에 ㎚ 크기 단위의 금속산화박막 패턴이 형성된 임프린트용 마이크로 스탬프(Micro Patterned Stamp for Imprint Lithography)를 취득하는 단계, 폴리머로 이루어진 스탬프용 기판을 제공하는 단계, 스탬프용 기판 상부에 자외선 경화 수지(UV Curable Resin)를 증착 또는 코팅하는 단계, 임프린트용 마이크로 스탬프(Micro Patterned Stamp for Imprint Lithography)를 이용해 자외선 경화 수지(UV Curable Resin) 상부에 다단 스탬프(Multi-Level Stamp)를 형성하여 마이크로-나노 하이브리드 스탬프를 취득하는 단계를 포함한다.
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公开(公告)号：KR101205826B1
公开(公告)日：2013-03-14
申请号：KR1020100056268
申请日：2010-06-15
Applicant: (재)한국나노기술원
Abstract: 하나의 스탬프를 이용해 패턴 모양이나 크기가 변화된 다른 스탬프를 제조 하는 방법을 제공한다. 본 발명에 따른 스탬프 제조 방법의 일 구성에서는 금속 원소에 빛과 열 중 적어도 어느 하나에 의하여 분해 가능한 유기물 리간드가 결합하여 이루어진 금속-유기물 전구체를 포함하는 무기물 레진을 스탬프용 기판에 코팅한 후, 패턴을 가진 제1 스탬프를 준비한다. 상기 제1 스탬프로 상기 무기물 레진을 가압한 후에 상기 가압된 무기물 레진에 가열 또는 자외선 조사 또는 가열과 동시에 자외선 조사하여 경화된 금속 산화 박막 패턴을 형성한다. 상기 제1 스탬프를 상기 금속 산화 박막 패턴으로부터 제거한 다음, 상기 제1 스탬프의 패턴과 다른 금속 산화 박막 패턴을 가지는 제2 스탬프를 제조하기 위하여, 상기 금속 산화 박막 패턴의 모양, 선폭 및 높이 중 적어도 어느 하나를 변화시키도록 상기 금속 산화 박막 패턴을 가열 또는 자외선 조사 또는 가열과 동시에 자외선 조사한다.
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