-
公开(公告)号：KR101972497B1
公开(公告)日：2019-04-25
申请号：KR1020170095037
申请日：2017-07-27
Applicant: (주)에스엔텍
IPC: H01L23/482 , H01L23/532 , H01L23/00
-
公开(公告)号：KR101822125B1
公开(公告)日：2018-01-25
申请号：KR1020160060865
申请日：2016-05-18
Applicant: (주)에스엔텍
Abstract: 본발명은증착챔버장치에관한것으로, 보다구체적으로는무게추의자중을이용하여샘플이부착된필름을샘플거치대에적절한압력으로밀착되게할 수있으므로간단한구조로필름의변형이나파손의우려없이샘플의온도조절을효과적으로수행할수 있고, 무게추와필름을서로밀착시켜이너쉴드를기준으로증착공간과비 증착공간을구획함으로써챔버의클리닝주기를연장시킬수 있으며, 무게추를증착챔버외부로배출하여증착공정중 상승한온도를하강시켜무게추의형상이변형되는것을방지할수 있는증착챔버장치에관한것이다.
-
公开(公告)号：KR101800197B1
公开(公告)日：2017-11-22
申请号：KR1020160060862
申请日：2016-05-18
Applicant: (주)에스엔텍
Abstract: 본발명은증착챔버장치에관한것으로, 보다구체적으로는무게추의자중을이용하여샘플이부착된필름을샘플거치대에적절한압력으로밀착되게할 수있으므로간단한구조로필름의변형이나파손의우려없이샘플의온도조절을효과적으로수행할수 있고, 무게추와필름을서로밀착시켜이너쉴드를기준으로증착공간과비 증착공간을구획함으로써챔버의클리닝주기를연장시킬수 있으며, 이너쉴드와무게추를증착챔버외부로배출하여증착물질의클리닝및 온도관리를효과적으로수행할수 있는증착챔버장치에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种沉积室装置，并且更具体euroneun重量使用chuui重量样品附连到膜以与在样品的温度的适当的压力，以所述样品架，从而以简单的结构紧密接触而没有膜的变形或破损的恐惧 并且可以执行有效的紧密接触彼此控制，重量和该膜具有sikilsu通过将沉积区域和非蒸发的空间内屏蔽室延长清洗周期，内屏蔽和重量排出到所述沉积腔室外部 更具体地，涉及一种能够有效地执行沉积材料的清洁和温度控制的沉积室装置。
-
公开(公告)号：KR101790625B1
公开(公告)日：2017-10-26
申请号：KR1020160031688
申请日：2016-03-16
Applicant: (주)에스엔텍
Abstract: 본발명은진공챔버내에서개구부를사이에두고일 측에기재가위치하고타 측에성막재료를보유한재료보유부가구비되며플라즈마빔으로상기성막재료를기상으로비산시켜상기기재의표면에성막하는성막장치에관한것으로서, 상기개구부의개구면적을증감시키는방향으로왕복이동가능하도록배열되는다수의막두께조절판; 상기진공챔버외부에서상기막두께조절판들각각을구동조작가능하게하는구동부를포함하는것을특징으로한다. 이에의해, 진공유지상태에서기재와성막재료사이의개구면적을증감시켜서성막두께를균일하게조절할수 있는성막장치가제공된다. 더불어기재와성막재료사이의개구면적증감을정밀하게조절할수 있는성막장치가제공된다. 또한성막두께의균일도를장시간동안유지할수 있도록하여생산성을극대화할수 있는성막장치가제공된다.
Abstract translation: 本发明被提供有额外的保持材料位于所述一个保持在另一侧上的沉积材料被分散在气相中的膜的衬底的表面上的等离子束蒸镀装置形成材料沉积在真空室中的开口之间的侧的基 多个膜厚度调节板，其被布置成在增大或减小开口部的开口面积的方向上往复运动; 以及用于驱动真空室外部的每个膜厚控制板的驱动单元。 由此，提供一种能够在真空保持状态下通过增加或减小基板与成膜材料之间的开口面积来均匀地调节膜厚度的成膜设备。 另外，提供了一种能够精确地控制衬底和成膜材料之间的开口面积的增大和减小的成膜设备。 此外，提供了一种能够通过长时间保持膜厚均匀性而使生产率最大化的成膜设备。
-
公开(公告)号：KR101774210B1
公开(公告)日：2017-09-04
申请号：KR1020160005965
申请日：2016-01-18
Applicant: (주)에스엔텍
Abstract: 본발명은증착방법및 그증착방법으로코팅층이증착된소자에관한것으로, 보다구체적으로는코팅층증착후, 소자가장자리에발생하는메탈버(metal burr)의발생을방지하여버 제거공정을제거함으로써수율을향상시킬수 있고증착공정중 소자의온도조절을효과적으로수행하여고품질의증착이가능한메탈버의발생을방지할수 있는증착방법및 그증착방법으로코팅층이증착된소자에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种涂层沉积元素作为蒸镀法，气相沉积法，涂层沉积后的屈服用更具体的euroneun，能够防止在元件边缘产生的金属构件（金属毛刺）的发生，以除去毛刺去除步骤 sikilsu并涉及在所述温度控制装置进行蒸镀加工，从而有效地涂覆层是通过气相沉积方法，其可以防止一个高品质的金属部件的产生沉积，并且可能的沉积沉积设备提高。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020170084974A
公开(公告)日：2017-07-21
申请号：KR1020160060859
申请日：2016-05-18
Applicant: (주)에스엔텍
Abstract: 본발명은증착시스템및 그증착시스템으로코팅층이증착된소자에관한것으로, 보다구체적으로는샘플이부착된필름이증착챔버내부로투입되기전에필름의가장자리를무게추를올려줄수 있는무게추스토커를구비하여무게추의온도상승을방지함으로써필름의형상변형이나망실을방지하여고품질의증착공정을수행할수 있는증착시스템및 그증착시스템으로코팅층이증착된소자에관한것이다.
Abstract translation: 更具体地说，本发明涉及一种用于在沉积系统上沉积涂层的装置及其沉积系统，并且更具体地， 本发明涉及能够通过防止重物的温度上升而防止膜的形状变形或防止来进行高质量气相沉积工艺的气相沉积系统以及通过气相沉积系统沉积涂层的装置。
-
公开(公告)号：KR1020170076317A
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：KR1020150186437
申请日：2015-12-24
Applicant: (주)에스엔텍
IPC: H01L21/02 , H05H1/46 , H01L21/205
Abstract: 본발명은복수개의캐소드전극이구비된플라즈마증착장치에관한것으로, 보다구체적으로는챔버내에복수개의캐소드전극이구비되어, 증착효율을향상시킬수 있고, 각캐소드전극의전극본체와마그넷을서로개별적으로회전가능하게하여, 다양한증착조건에따라자기장의형성위치를효율적으로제어할수 있으며, 전극본체구동수단과마그넷구동수단을진공챔버외부에서착탈식으로체결할수 있어, 챔버내의자기장발생영역을최대화할수 있는복수개의캐소드전극이구비된플라즈마증착장치에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种等离子体多个阴极电极的设置有存款装置，并且更具体地euroneun设置有多个阴极电极的，并能提高在腔室中的沉积效率，旋转所述电极主体和用于彼此独立的每个阴极的磁铁 其通过使多个能最大限度地在可有效控制根据各种沉积条件下，电极体驱动装置和所述磁体驱动装置它可以从真空室外部断定可移动，腔室中的磁场的形成位置处的磁场产生区域 具有阴极电极的等离子体沉积设备。
-
公开(公告)号：KR1020160115731A
公开(公告)日：2016-10-06
申请号：KR1020160031688
申请日：2016-03-16
Applicant: (주)에스엔텍
Abstract: 본발명은진공챔버내에서개구부를사이에두고일 측에기재가위치하고타 측에성막재료를보유한재료보유부가구비되며플라즈마빔으로상기성막재료를기상으로비산시켜상기기재의표면에성막하는성막장치에관한것으로서, 상기개구부의개구면적을증감시키는방향으로왕복이동가능하도록배열되는다수의막두께조절판; 상기진공챔버외부에서상기막두께조절판들각각을구동조작가능하게하는구동부를포함하는것을특징으로한다. 이에의해, 진공유지상태에서기재와성막재료사이의개구면적을증감시켜서성막두께를균일하게조절할수 있는성막장치가제공된다. 더불어기재와성막재료사이의개구면적증감을정밀하게조절할수 있는성막장치가제공된다. 또한성막두께의균일도를장시간동안유지할수 있도록하여생산성을극대화할수 있는성막장치가제공된다.
-
公开(公告)号：KR1020160112174A
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：KR1020150037386
申请日：2015-03-18
Applicant: (주)에스엔텍
CPC classification number: C23C14/34 , C23C14/548 , C23C14/568
Abstract: 본발명은스퍼터링장치및 스퍼터링방법에관한것으로, 보다구체적으로는기재의측면증착이용이하여기재의외면을고루증착할수 있는스퍼터링장치및 스퍼터링방법에관한것이다.
Abstract translation: 溅射装置和方法技术领域本发明涉及一种溅射装置和方法，更具体地涉及一种溅射装置和方法，其能够均匀地沉积作为基板的侧面沉积的基板的外表面。 溅射装置包括：真空室; 形成在真空室内的靶，用于将沉积材料分散到基底上; 在所述真空室内形成为与所述靶相反的衬底转印单元; 以及形成在所述基板转印单元中的姿势控制单元，用于控制所述基板的姿势。
-
公开(公告)号：KR101632398B1
公开(公告)日：2016-06-21
申请号：KR1020140149768
申请日：2014-10-31
Applicant: (주)에스엔텍
IPC: H01L21/205
Abstract: 본발명은플라즈마화학기상장치에관한것으로서, 기재가위치하는공정영역을갖는진공챔버; 상기진공챔버내부의진공도를조절하는진공조절부; 상기진공챔버내부에공정가스를공급하는가스공급부; 상기진공챔버내에설치되어상기공정영역에플라즈마를형성하며, 적어도하나의전극유닛; 상기전극유닛에전원을공급하는전원공급부; 상기진공챔버내부에마련되어상기전극유닛에서발생하는플라즈마가상기공정영역외에불필요한영역으로발생되는것을차단하는플라즈마차단블록;을포함하는것을특징으로한다.
Abstract translation: 等离子体化学气相沉积设备技术领域本发明涉及一种等离子体化学气相沉积设备，其包括：具有处理区域的真空室，衬底位于处理区域中 真空控制器，用于控制真空室中的真空度; 气体供应单元，用于将处理气体供应到真空室中; 至少一个电极单元安装在真空室中以在处理区域中形成等离子体; 电源单元，用于向电极单元供电; 等离子体阻挡块设置在真空室内以阻挡在电极单元中产生的等离子体在处理区域外部的不必要的区域中产生。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
186
records
(took 0.038 seconds)
