半导体装置
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109698134A

    公开(公告)日:2019-04-30

    申请号:CN201811224425.5

    申请日:2018-10-19

    Inventor: 大月高实

    Abstract: 本发明的目的在于提供能够抑制半导体元件的倾斜的半导体装置。本发明涉及的半导体装置具有阻挡层(4),该阻挡层(4)设置为在金属图案(1)之上具有开口部,阻挡层(4)具有向开口部内凸出的凸起部,该半导体装置还具有:半导体元件(5),其外形尺寸小于开口部的除了凸起部以外的外形尺寸;以及焊料(3),其设置在开口部内,将金属图案(1)和半导体元件(5)接合,阻挡层(4)具有多个凸起部,该多个凸起部在俯视观察时与半导体元件(5)重叠,且对半导体元件(5)的厚度方向进行限制。

    半导体装置
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109698134B

    公开(公告)日:2023-02-17

    申请号:CN201811224425.5

    申请日:2018-10-19

    Inventor: 大月高实

    Abstract: 本发明的目的在于提供能够抑制半导体元件的倾斜的半导体装置。本发明涉及的半导体装置具有阻挡层(4),该阻挡层(4)设置为在金属图案(1)之上具有开口部,阻挡层(4)具有向开口部内凸出的凸起部,该半导体装置还具有:半导体元件(5),其外形尺寸小于开口部的除了凸起部以外的外形尺寸;以及焊料(3),其设置在开口部内,将金属图案(1)和半导体元件(5)接合,阻挡层(4)具有多个凸起部,该多个凸起部在俯视观察时与半导体元件(5)重叠,且对半导体元件(5)的厚度方向进行限制。

    半导体装置
    16.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101866946B

    公开(公告)日:2013-06-05

    申请号:CN201010150094.2

    申请日:2010-03-15

    CPC classification number: H01L29/404 H01L29/0619 H01L29/0638 H01L29/7395

    Abstract: 半导体装置(20)包括:在主表面(1a)具有元件形成区域(14)的半导体衬底(1);保护环(2b)、(2c)、(2d)、(2e);保护环电极(7b)、(7c)、(7d)、(7e);沟道截断区域(3);沟道截断电极(7f);以及在半导体衬底(1)上以绝缘状态配置的场电极(9a)、(9b)、(10),场电极(9a)、(9b)、(10)包含位于半导体衬底(1)的主表面(1a)与保护环电极(7e)之间的第一部分(9a)和位于半导体衬底(1)的主表面(1a)与沟道截断电极(7f)之间的第二部分(9b),在俯视图中,第一部分(9a)具有与保护环电极(7e)重叠的部分(91),且在俯视图中,第二部分(9b)具有与沟道截断电极(7f)重叠的部分(92)。从而能够得到可以谋求耐压稳定化的半导体装置(20)。

    半导体装置
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101866946A

    公开(公告)日:2010-10-20

    申请号:CN201010150094.2

    申请日:2010-03-15

    CPC classification number: H01L29/404 H01L29/0619 H01L29/0638 H01L29/7395

    Abstract: 半导体装置(20)包括:在主表面(1a)具有元件形成区域(14)的半导体衬底(1);保护环(2b)、(2c)、(2d)、(2e);保护环电极(7b)、(7c)、(7d)、(7e);沟道截断区域(3);沟道截断电极(7f);以及在半导体衬底(1)上以绝缘状态配置的场电极(9a)、(9b)、(10),场电极(9a)、(9b)、(10)包含位于半导体衬底(1)的主表面(1a)与保护环电极(7e)之间的第一部分(9a)和位于半导体衬底(1)的主表面(1a)与沟道截断电极(7f)之间的第二部分(9b),在俯视图中,第一部分(9a)具有与保护环电极(7e)重叠的部分(91),且在俯视图中,第二部分(9b)具有与沟道截断电极(7f)重叠的部分(92)。从而能够得到可以谋求耐压稳定化的半导体装置(20)。

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