制造氮化物半导体晶体的装置、制造氮化物半导体晶体的方法和氮化物半导体晶体

    公开(公告)号:CN102131964B

    公开(公告)日:2014-05-21

    申请号:CN201080002414.8

    申请日:2010-01-20

    CPC classification number: C30B23/066 C30B29/403

    Abstract: 本发明公开了一种制造氮化物半导体晶体的装置,其具有足够的耐久性且在从坩埚外部混入杂质方面受到抑制。本发明还公开了一种制造氮化物半导体晶体的方法以及氮化物半导体晶体。具体地,本发明公开了一种制造氮化物半导体晶体的装置(100),其包含坩埚(101)、加热单元(125)和覆盖部件(110)。在所述坩埚(101)内部设置源材料(17)。在所述坩埚(101)的外围设置加热单元(125),其中所述加热单元对所述坩埚(101)的内部进行加热。在所述坩埚(101)与所述加热单元(125)之间布置覆盖部件(110)。所述覆盖部件(110)包含第一层(111)和第二层(112),所述第一层(111)被布置在面对所述坩埚(101)的侧上,并由熔点比所述源材料(17)的熔点高的金属形成,所述第二层(112)被布置在所述第一层(111)的外围侧上,并由构成所述第一层(111)的金属的碳化物形成。

    Ⅲ族氮化物单晶生长方法
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101351579B

    公开(公告)日:2011-11-02

    申请号:CN200780001063.7

    申请日:2007-03-22

    CPC classification number: C30B29/403 C30B23/00

    Abstract: 一种III族氮化物单晶生长方法,该方法是一种通过升华以生长AlxGa1-xN单晶(4)的方法,包括步骤,将源材料(1)放置在坩埚(12)中;并且升华源材料(1)以在坩埚(12)中生长AlxGa1-xN(0<x≤1)单晶(4),其中源材料(1)包括AlyGa1-yN(0<y≤1)源(2)和杂质元素(3),并且杂质元素(3)为选自由IVb族元素和IIa族元素所组成的组中的至少之一。该生长方法使得能够稳定地生长具有低位错密度和良好的结晶度的III族氮化物体单晶。

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