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公开(公告)号：CN1479337A
公开(公告)日：2004-03-03
申请号：CN03178640.5
申请日：2003-07-18
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01J9/00 , H01J9/02 , H01L21/027 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/0035 , G02F1/136286 , G03F7/2022 , G03F7/2024 , H01J9/027
Abstract: 本发明提供制造构件图形、配线结构体、电子源、图像显示装置的方法。在基板上具备图形化构件的构件图形的制造方法，包括：使施加到基板上的负性感光材料的所要求区域从第一方向进行曝光的第一曝光工序；从与上述第一曝光方向的相反的第二方向进行曝光的第二曝光工序；在上述曝光工序之后进行显影而形成上述构件的前体图形的显影工序；以及对上述前体图形进行焙烧的工序。
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公开(公告)号：CN117280282A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202280031726.4
申请日：2022-04-28
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 村山隆二 , 北村伸 , 高桥徹 , 辻本大祐 , 松尾龙一郎 , 佐野仁思 , 藤田信幸 , 山田修嗣 , 军司由香 , 小堀尚邦 , 小川吉宽 , 大森淳彦 , 香川浩辉 , 安立启介 , 杉田朋子
IPC: G03G9/097
Abstract: 一种调色剂，其难以产生调色剂聚集块，无论使用环境如何，均表现出稳定的带电性能，并且即使在连续进行大量打印期间，带电性能的波动也小。该调色剂包括包含粘结剂树脂的调色剂颗粒和二氧化硅细颗粒S1，其中调色剂的重均粒径为4.0μm以上且15.0μm以下，包括两个端点。在二氧化硅细颗粒S1的29Si‑NMR测量中，观察到源自二氧化硅细颗粒S1的峰，并且在通过29Si CP/MAS NMR或29Si DD/MAS NMR获得的光谱中，对应于二氧化硅细颗粒S1中的D1单元结构的峰的峰面积、对应于二氧化硅细颗粒S1中的D2单元结构的峰的峰面积、和对应于二氧化硅细颗粒S1中的Q单元结构的峰的峰面积满足规定的关系。
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公开(公告)号：CN107068522B
公开(公告)日：2019-03-26
申请号：CN201710167652.8
申请日：2014-12-05
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本公开内容涉及透射型靶和设有透射型靶的X射线发生管。透射型靶包括靶层和被配置为支撑该靶层的透射基板。透射基板具有彼此面对的一对表面，并且由多晶金刚石形成。在透射基板中，所述一对表面中的一个表面包括具有第一平均晶粒直径的多晶金刚石，第一平均晶粒直径小于与该表面相对的另一个表面上所包括的多晶金刚石的第二平均晶粒直径。靶层由所述一对表面中的任何一个表面支撑。
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公开(公告)号：CN105914120A
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201610267120.7
申请日：2014-03-12
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01J35/18 , H01J2235/084 , H01J2235/087 , H05G1/06 , H01J35/02 , A61N5/10 , H01J9/02 , H01J35/08 , H01J35/24
Abstract: 本公开涉及X射线产生靶、放射线产生管、放射线产生设备和放射线照相系统。提供了放射线发射靶、放射线产生装置以及放射线照相系统，其中靶层和金刚石基板之间的粘合性被提高，并且展现稳定的放射线发射性能。X射线产生靶包括靶层、包含sp2键的含碳区域、以及支撑该靶层的金刚石基板。含碳区域被定位在该靶层和金刚石基板之间。
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公开(公告)号：CN104051206A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201410088659.7
申请日：2014-03-12
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01J35/18 , H01J2235/084 , H01J2235/087 , H05G1/06
Abstract: 本公开涉及透射型靶、放射线产生管、放射线产生设备和放射线照相系统。提供了放射线发射靶、放射线产生装置以及放射线照相系统，其中靶层和金刚石基板之间的粘合性被提高，并且展现稳定的放射线发射性能。透射型靶包括靶层、包含sp2键的含碳区域、以及支撑该靶层的金刚石基板。含碳区域被定位在该靶层和金刚石基板之间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101086616A
公开(公告)日：2007-12-12
申请号：CN200710112260.8
申请日：2003-07-18
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03F7/0035 , G02F1/136286 , G03F7/2022 , G03F7/2024 , H01J9/027
Abstract: 本发明提供一种构件图形、配线结构体以及图像显示装置的制造方法。在基板上具备图形化构件的构件图形的制造方法，包括：使施加到基板上的负性感光材料的所要求区域从第一方向进行曝光的第一曝光工序；从与上述第一曝光方向的相反的第二方向进行曝光的第二曝光工序；在上述曝光工序之后进行显影而形成上述构件的前体图形的显影工序；以及对上述前体图形进行焙烧的工序。
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公开(公告)号：CN107731645A
公开(公告)日：2018-02-23
申请号：CN201711161213.2
申请日：2013-10-24
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01J35/08 , C23C16/06 , G01N23/04 , H01J35/116 , H01J35/32 , H01J2235/081 , A61B6/40
Abstract: 本发明涉及透射型靶、具有该透射型靶的放射线发生管、放射线发生器和放射线成像装置。本发明涉及具有金刚石基材作为透射基材的透射型靶。该透射型靶能够抑制组成随透射型靶的驱动经历而变动并且能够长期抑制放射线的输出变动。该透射型靶包括：靶层，该靶层含有由选自钼、钽和钨中的至少一种金属和碳构成的金属碳化物；和支持该靶层的金刚石基材。
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公开(公告)号：CN104798171A
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201380059789.1
申请日：2013-10-24
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01J35/08
CPC classification number: H01J35/08 , C23C16/06 , G01N23/04 , H01J35/32 , H01J2235/081 , H01J2235/087
Abstract: 本发明涉及具有金刚石基材作为透射基材的透射型靶。该透射型靶能够抑制组成随透射型靶的驱动经历而变动并且能够长期抑制放射线的输出变动。该透射型靶包括：靶层，该靶层含有由选自钼、钽和钨中的至少一种金属和碳构成的金属碳化物；和支持该靶层的金刚石基材。
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公开(公告)号：CN103426708A
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN201310176238.5
申请日：2013-05-14
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 山田修嗣
IPC: H01J37/12 , H01J37/317 , H01J9/00
CPC classification number: H01J1/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J1/46 , H01J3/027 , H01J3/18 , H01J9/02 , H01J9/14 , H01J37/12 , H01J37/317 , H01J37/3177 , H01J2237/032 , H01J2237/1205
Abstract: 本发明涉及静电透镜的电极及其制造方法。提供一种用于静电透镜的电极，其中，该电极至少包含：具有第一贯通孔的第一基板和具有第二贯通孔的第二基板；第一基板具有比第二基板小的厚度；第一贯通孔具有比第二贯通孔小的直径，第二基板具有比第一基板小的电阻率，其中，第一基板和第二基板被叠置，使得第一贯通孔和第二贯通孔相互对准。可以减少在干蚀刻处理中在贯通孔中的任一个附近出现的开槽，由此可以精确地形成贯通孔。
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公开(公告)号：CN102412107A
公开(公告)日：2012-04-11
申请号：CN201110267992.0
申请日：2011-09-13
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: H01J9/20
Abstract: 本发明涉及光提取结构、发光基板和图像显示装置的制造方法。光提取结构可有效地提取从发光层发射的光。将捕获层形成于在基板上形成的第一半透明材料膜上。通过将粒子分散到分散介质中获得的分散液被涂敷到捕获层上。分散介质被挥发。将粒子沉积层形成于捕获层上。沉积层的最下层中的粒子以对于2维最密充填为93％或更大的填充率被捕获到捕获层中。未捕获的粒子被去除。通过使用捕获的粒子作为掩模来执行蚀刻。在第一半透明材料膜中形成凹部。在蚀刻之后保留的粒子和捕获层被去除。之后，用具有不同折射率的第二半透明材料嵌入凹部。
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