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公开(公告)号：JP4389204B2
公开(公告)日：2009-12-24
申请号：JP2003564022
申请日：2003-01-28
Applicant: 宇部興産株式会社
IPC: C07D239/88 , C07B61/00 , C07C201/08 , C07C205/59 , C07C205/60 , C07C227/04 , C07C227/06 , C07C229/56 , C07C229/64 , C07D239/90 , C07D401/12
CPC classification number: C07D239/88 , C07C67/31 , C07C69/92 , C07C201/08 , C07C205/59 , C07C205/60 , C07C227/04 , C07C229/56 , C07C229/64 , C07D239/90
Abstract: A process for producing a quinazolin-4-one compound having the formula: Äwherein R , R , R and R each represents a group not participating in the below-mentioned reaction, and R , R , R and R can be combined together to form a ringÜ which comprises reacting an anthranilic acid derivative having the formula: Äwherein R is a hydrogen atom or a hydrocarbyl groupÜ with a formic acid derivative in the presence of an ammonium carboxylate.
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12.发明专利
公开(公告)号：JP4345671B2
公开(公告)日：2009-10-14
申请号：JP2004511285
申请日：2003-06-10
Applicant: 宇部興産株式会社
IPC: C07D309/12
CPC classification number: C07D309/12
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公开(公告)号：JPWO2005005406A1
公开(公告)日：2007-09-20
申请号：JP2005511576
申请日：2004-07-14
Applicant: 宇部興産株式会社
IPC: C07D309/14 , B01J23/42 , B01J23/44 , B01J23/72 , B01J25/02 , C07D309/10
CPC classification number: C07D309/10 , C07D309/14
Abstract: 本発明は、ラネーニッケル、貴金属触媒及び金属酸化物から選ばれる少なくとも1種の化合物の存在下、一般式(1)式中、Rは、水素原子又は炭化水素基を示す、で示される4−ヒドラジノテトラヒドロピラン化合物又はその酸塩を分解反応させることを特徴とする、一般式(2)式中、Rは、前記と同義である、で示される、4−アミノテトラヒドロピラン化合物及びその酸塩の製法、並びにその合成中間体及びその製法に関する。
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公开(公告)号：JPWO2003104215A1
公开(公告)日：2005-10-06
申请号：JP2004511285
申请日：2003-06-10
Applicant: 宇部興産株式会社
IPC: C07D309/12
CPC classification number: C07D309/12
Abstract: 本発明は、(A)3−ブテン−1−オール、ホルムアルデヒド化合物及びギ酸を反応させて、式(1):で示されるテトラヒドロピラニル−4−ホルメートとする環化反応工程、(B)次いで、テトラヒドロピラニル−4−ホルメートを加溶媒分解して式(2):で示されるテトラヒドロピラン−4−オールとする加溶媒分解工程、を含んでなることを特徴とする、テトラヒドロピラン−4−オールの製法並びにその中間体及びその製法に関する。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JPWO2003064399A1
公开(公告)日：2005-05-26
申请号：JP2003564022
申请日：2003-01-28
Applicant: 宇部興産株式会社
Inventor： 西野 繁栄 , 繁栄 西野 , 弘津 健二 , 健二 弘津 , 秀好 島 , 秀好 島 , 原田 崇司 , 崇司 原田 , 小田 広行 , 広行 小田 , 高橋 毅 , 高橋 毅 , 鈴木 忍 , 忍 鈴木
IPC: C07D239/88 , C07C201/08 , C07C205/59 , C07C205/60 , C07C227/04 , C07C227/06 , C07C229/56 , C07C229/64 , C07D239/90 , C07D401/12
CPC classification number: C07D239/88 , C07C67/31 , C07C69/92 , C07C201/08 , C07C205/59 , C07C205/60 , C07C227/04 , C07C229/56 , C07C229/64 , C07D239/90
Abstract: 下記式:[式中、R1、R2、R3及びR4は、下記反応に関与しない基を示す。R1、R2、R3及びR4は互いに結合して環を形成していても良い。R5は水素原子または炭化水素基を示す。]で示されるアントラニル酸誘導体とギ酸誘導体とをカルボン酸アンモニウムの存在下にて反応させて下記式:で示されるキナゾリン−4−オン誘導体を製造する方法。
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公开(公告)号：JP4631703B2
公开(公告)日：2011-02-23
申请号：JP2005507244
申请日：2004-06-18
Applicant: 宇部興産株式会社
IPC: C07D239/90 , C07D239/91 , C07D471/04 , C07D487/04 , C07D495/04
CPC classification number: C07D487/04 , C07D239/90 , C07D239/91 , C07D471/04 , C07D495/04
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公开(公告)号：JPWO2005061479A1
公开(公告)日：2007-12-13
申请号：JP2005516480
申请日：2004-12-17
Applicant: 宇部興産株式会社
IPC: C07D309/30 , B01J23/44 , C07C49/185 , C07D309/38
CPC classification number: C07D309/38 , C07C45/00 , C07C49/185 , C07D309/30
Abstract: 本発明は、式(2): 式中、は単結合又は二重結合を表す、で示されるジヒドロピラン−4−オン及びピラン−4−オンの少なくとも一種と水素とを、(a)金属触媒の存在下、非プロトン性溶媒とアルコール溶媒の混合溶媒中、又は(b)含水金属触媒を脱水処理させた無水金属触媒の存在下、疎水性有機溶媒中で反応させることを特徴とする、式(1):で示されるテトラヒドロピラン−4−オンの製法に関する。
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公开(公告)号：JPWO2005012264A1
公开(公告)日：2007-09-27
申请号：JP2005512534
申请日：2004-07-30
Applicant: 宇部興産株式会社
IPC: C07D239/88 , C07C67/31
CPC classification number: C07D239/88 , C07C67/31 , C07C69/92
Abstract: 【課題】 2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルから高い収率で6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンを得る方法を提供する。【解決手段】 2−アミノ−4,5−ビス(2−メトキシエトキシ)安息香酸エチルとギ酸化合物とをカルボン酸アンモニウムの存在下にて反応させることからなる6,7−ビス(2−メトキシエトキシ)キナゾリン−4−オンの製造法。
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公开(公告)号：JPWO2004113307A1
公开(公告)日：2006-08-10
申请号：JP2005507244
申请日：2004-06-18
Applicant: 宇部興産株式会社
IPC: C07D239/90 , C07D239/91 , C07D471/04 , C07D487/04 , C07D495/04
CPC classification number: C07D487/04 , C07D239/90 , C07D239/91 , C07D471/04 , C07D495/04
Abstract: 【課題】入手が容易で、危険性が低い原料化合物を用い、比較的簡単で穏和な反応条件により、ピリミジン−4−オン化合物を高い収率で製造することのできる新規な方法を提供する。【解決手段】アリールアミノカルボン酸化合物を、含窒素化合物の存在下にて、有機酸化合物と反応させてピリミジン−4−オン化合物を製造する方法。
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