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公开(公告)号：CN108431690B
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN201680076122.6
申请日：2016-11-22
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜及图案形成方法、以及使用了这些的电子器件的制造方法，本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有：玻璃化转变温度为155℃以上的树脂(A)；玻璃化转变温度为150℃以下的化合物(B)；及溶剂(C)，其中，上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中的固体成分含量为20质量％以上，由上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的抗蚀剂图案的软化点为130℃以上且170℃以下，当由感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成例如具有1μm以上的厚度的厚膜抗蚀剂膜形成图案时，能够高层次地兼备优异的分辨率和优异的曝光宽容度，并且抑制蚀刻时可产生的抗蚀剂图案的侧壁上的粗糙度。
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公开(公告)号：CN103582847A
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：CN201280026472.3
申请日：2012-05-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/12 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0382 , C08F220/12 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/30 , G03F7/325
Abstract: 一种图案形成方法，所述方法包括(i)通过使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物形成膜的步骤，该树脂组合物含有：(A)含具有能够通过酸的作用分解以产生极性基团的基团的重复单元的树脂，(B)当用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，以及(C)溶剂；(ii)将所述膜曝光的步骤，以及(iii)将所曝光的膜通过使用含有机溶剂的显影液显影以形成阴图型图案的步骤，其中基于树脂(A)中的全部重复单元由下式(I)表示的重复单元的含量小于20摩尔％并且树脂(A)含除由该特定式表示的重复单元之外的具有非酚类芳族基团的重复单元。
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公开(公告)号：CN118672057A
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202410846579.7
申请日：2016-11-01
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 吉野文博
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、以及使用了该感光化射线性或感放射线性树脂组合物的图案形成方法及电子器件的制造方法，本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物用于形成膜厚为1μm以上的感光化射线性或感放射线性膜，并且用于进行基于波长200～300nm的光化射线或放射线的曝光，其中，由所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的膜厚12μm的感光化射线性或感放射线性膜中的对波长248nm的光的透射率为5％以上，且使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物，并通过波长200～300nm的光来对膜厚为1μm以上的感光化射线性或感放射线性膜进行曝光时，能够形成灵敏度优异，并且具有优异的剖面形状的图案。
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公开(公告)号：CN117063122A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202280024094.9
申请日：2022-03-11
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明的课题在于提供一种可获得LWR优异且分辨率也优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含树脂A，所述树脂A包含：重复单元a，其由式(1)表示且在侧链具有由式(c)表示的光产酸基团；及重复单元b，其具有通过酸的作用分解而产生极性基团的基团，重复单元a的含量相对于组合物中的总固体成分质量为0.40～1.50mmol/g，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物还包含酸扩散控制剂，其通过光化射线或放射线的照射而分解，并产生pKa比由光产酸基团产生的酸高0.50以上的酸，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的由式(d)求出的Qp为0.40～1.00。
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公开(公告)号：CN115151864A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202180016486.6
申请日：2021-02-16
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07D327/02 , C07D327/04 , C07D327/06 , C07D327/10 , C07D339/00 , C07D339/08 , C07D279/10 , C09K3/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07D277/32 , C07C309/04 , C07C309/08 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C311/02 , C07C313/04
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、通过上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)树脂及(B)通过光化射线或放射线的照射产生酸的由特定的通式(1)表示的化合物。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105051607B
公开(公告)日：2020-01-14
申请号：CN201480015627.2
申请日：2014-03-14
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/10 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物和膜、及制造电子元件的方法。根据一个实施例，一种图案形成方法包含(a)由感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜；(b)使所述膜曝光；及(c)用含有机溶剂的显影剂使经曝光的所述膜显影，从而形成负型图案。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含(A)当受酸作用时在所述含有机溶剂的显影剂中的溶解度降低的树脂，所述树脂含有具有以下通式(1)所表示的任何内酯结构的重复单元；及(B)在曝露于光化射线或放射线时产生酸的化合物。
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公开(公告)号：CN105051607A
公开(公告)日：2015-11-11
申请号：CN201480015627.2
申请日：2014-03-14
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/10 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
Abstract: 根据一个实施例，一种图案形成方法包含(a)由感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜；(b)使所述膜曝光；及(c)用含有机溶剂的显影剂使经曝光的所述膜显影，从而形成负型图案。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含(A)当受酸作用时在所述含有机溶剂的显影剂中的溶解度降低的树脂，所述树脂含有具有以下通式(1)所表示的任何内酯结构的重复单元；及(B)在曝露于光化射线或放射线时产生酸的化合物。
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公开(公告)号：CN115298613A
公开(公告)日：2022-11-04
申请号：CN202180021154.7
申请日：2021-03-01
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C309/17 , G03F7/039 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种降低了颗粒的含量的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法。并且，提供一种图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物的制造方法包括：工序1，制备包含光产酸剂和溶剂的中间体溶液；及工序2，将上述中间体溶液与至少树脂进行混合，制备粘度为10mPa·s以上的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。
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公开(公告)号：CN114303098A
公开(公告)日：2022-04-08
申请号：CN202080060658.5
申请日：2020-08-13
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、由上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法，上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有：(A)通过酸的作用而极性增大的树脂；(B)光产酸剂；及阴离子(P)，其为选自由NO3‑、SO42‑、Cl‑及Br‑组成的组中的1种以上的阴离子，其中，相对于感光化射线性或感放射线性树脂组合物的总质量，上述阴离子(P)的含量为0.01ppb以上且100ppm以下。
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公开(公告)号：CN103582847B
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201280026472.3
申请日：2012-05-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/12 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0382 , C08F220/12 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/30 , G03F7/325
Abstract: 一种图案形成方法，所述方法包括(i)通过使用光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物形成膜的步骤，该树脂组合物含有：(A)含具有能够通过酸的作用分解以产生极性基团的基团的重复单元的树脂，(B)当用光化射线或辐射照射时能够产生酸的化合物，以及(C)溶剂；(ii)将所述膜曝光的步骤，以及(iii)将所曝光的膜通过使用含有机溶剂的显影液显影以形成阴图型图案的步骤，其中基于树脂(A)中的全部重复单元由下式(I)表示的重复单元的含量小于20摩尔％并且树脂(A)含除由该特定式表示的重复单元之外的具有非酚类芳族基团的重复单元。
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