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公开(公告)号：CN116705678A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202310219017.5
申请日：2023-03-01
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/677 , G03F7/30 , G03F7/20 , H01L21/67
Abstract: 本发明能够缩基板处理装置的长度。基板处理装置具有基板从由分度器装置搬入基板的区域移动到接口部为止的去程部分、以及基板从接口部移动到向分度器装置搬出基板的区域为止的返程部分。返程部分具有分别沿着第一水平方向配置的第一部分以及第二部分。第一部分包括对基板上的涂膜实施显影处理的显影部。第二部分包括对在显影处理后已通过加热部加热的基板进行冷却的冷却部。在从上方平面透视的情况下，第一部分的构成第一水平方向上的一部分的第一区域和第二部分的构成第一水平方向上的至少一部分的第二区域在与第一水平方向正交的第二水平方向上排列。返程部分包括加热部以及将已通过该加热部加热的基板从第一区域向第二区域搬运的第一搬运部。
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公开(公告)号：CN116804827B
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN202310224692.7
申请日：2023-03-07
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供能够对多个曝光装置进行灵活的搬运的基板处理装置以及基板处理方法。在接口部(20)中配置有多个搬运机械手和多个模块，所述接口部(20)将对基板进行曝光处理的前工序的处理的前处理部以及进行后工序的处理的后处理部与第一曝光装置(3a)以及第二曝光装置(3b)连接。多个模块的一部分层叠配置。作为通过接口部(20)搬运基板的模式，选择连续处理模式或交替处理模式，所述连续处理模式为将多个基板分别依次搬运至第一曝光装置(3a)以及第二曝光装置(3b)这两者的处理模式，所述交替处理模式为将多个基板交替地搬运至第一曝光装置(3a)或第二曝光装置(3b)的处理模式。在任意一种模式下，多个搬运机械手的访问次数均为4以下。
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公开(公告)号：CN117393462A
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN202310828384.5
申请日：2023-07-06
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明涉及基板处理装置及基板处理方法。本发明提供一种在使喷嘴与喷嘴挡板一体地下降到接触位置时，能够防止喷嘴挡板压碎存在于基板的上表面的异物的基板处理装置及基板处理方法。本发明的基板处理装置，一边以所谓的浮起方式相对于喷嘴相对地搬运基板，一边向基板的上表面涂敷处理液，所述基板处理装置具有：喷嘴挡板，在喷嘴相对于基板相对地行进的喷嘴行进方向上配置于喷嘴的前方侧并与喷嘴一体地移动；升降部，使喷嘴和喷嘴挡板一体地升降；以及控制部，控制升降部，以执行升降部使喷嘴和喷嘴挡板一体地下降并使喷嘴定位于接触位置的接触动作。并且，在接触动作时，从上方观察，保持面和喷嘴挡板彼此分离。
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公开(公告)号：CN116804827A
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN202310224692.7
申请日：2023-03-07
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供能够对多个曝光装置进行灵活的搬运的基板处理装置以及基板处理方法。在接口部(20)中配置有多个搬运机械手和多个模块，所述接口部(20)将对基板进行曝光处理的前工序的处理的前处理部以及进行后工序的处理的后处理部与第一曝光装置(3a)以及第二曝光装置(3b)连接。多个模块的一部分层叠配置。作为通过接口部(20)搬运基板的模式，选择连续处理模式或交替处理模式，所述连续处理模式为将多个基板分别依次搬运至第一曝光装置(3a)以及第二曝光装置(3b)这两者的处理模式，所述交替处理模式为将多个基板交替地搬运至第一曝光装置(3a)或第二曝光装置(3b)的处理模式。在任意一种模式下，多个搬运机械手的访问次数均为4以下。
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公开(公告)号：CN116631923A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202211658220.4
申请日：2022-12-22
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明的课题是缩短基板处理装置的长度。本发明的解决方案的基板处理装置具有去程部分以及回程部分，基板在去程部分上移动，去程部分从基板被从索引器装置搬入的被搬入区域到朝向曝光装置搬出基板的接口部为止，从曝光装置向接口部搬入的基板在回程部分上移动，回程部分从接口部到朝向索引器装置搬出基板的被搬出区域为止。去程部分包含清洗部，对从索引器装置搬入的基板实施清洗处理；涂覆部，在用清洗部实施过清洗处理的基板上涂覆处理液；缓冲部，暂时收纳基板；以及搬送机器人，从清洗部搬出基板，向缓冲部搬入基板，从缓冲部搬出基板和向涂覆部搬入基板。回程部分包含对基于处理液的膜实施显影处理的显影部。
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公开(公告)号：CN115739522A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202210509128.5
申请日：2022-05-11
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05C5/02 , B05B15/16 , H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本发明的课题在于预先防止与狭缝喷嘴一体地下降的喷嘴防护件踩踏突出物而对处理液向基板的涂布带来不良影响的情况。本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。本发明包括：狭缝喷嘴，具有狭缝状的吐出口；移动机构，使狭缝喷嘴相对于基板相对地移动；喷嘴防护件，在狭缝喷嘴通过移动机构而相对于基板相对地行进的喷嘴行进方向上配置于狭缝喷嘴的前方侧，并与狭缝喷嘴一体地移动；升降机构，使狭缝喷嘴与喷嘴防护件一体地升降；以及碰撞探测部，探测通过升降机构下降的喷嘴防护件的前端在基板的表面侧向上方突出并与阻碍处理液的涂布的突出物碰撞。
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公开(公告)号：CN111545381A
公开(公告)日：2020-08-18
申请号：CN201911172486.6
申请日：2019-11-26
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: B05B13/04 , B05B13/02 , B05B15/555 , B05B14/00
Abstract: 本发明提供一种抑制涂布不均的涂布装置及涂布方法。本发明的课题在于在通过涂布平台而一边使基板以上浮的状态移动一边对所述基板的上表面供给处理液来进行涂布的涂布装置中抑制涂布不均，所述涂布平台包含朝向上方具有气体的喷出口的多个开口部与具有所述气体的抽吸口的多个开口部。涂布上浮区域、上游侧上浮区域及下游侧上浮区域均在水平面内沿与移动方向正交的列方向排列沿着移动方向排列多个开口部而成的开口行而使基板上浮，在涂布上浮区域、上游侧上浮区域及下游侧上浮区域中的至少一个中，针对每个开口行，构成开口行的多个开口部在列方向上分散配置。
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公开(公告)号：CN110676192A
公开(公告)日：2020-01-10
申请号：CN201910595463.X
申请日：2019-07-03
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/66
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，向被施加浮起力并搬运的基板良好地涂敷处理液。涂敷装置(1)具有：搬运机构(5)，使由浮起工作台部(3)被施加浮起力的浮起基板(W)沿着X方向移动；测量器(72)，测量浮起基板(W)的铅垂位置；以及测量器移动部(76)，使测量器(72)沿着Y方向移动。测量器(72)通过沿着Y方向移动，测量Y方向的不同的多个地点上的浮起基板W的铅垂位置。
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