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公开(公告)号：CN108291292B
公开(公告)日：2020-06-26
申请号：CN201680069977.6
申请日：2016-11-10
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/24 , C23C16/448
Abstract: 本发明目的在于提供一种能够在真空中基体材料膜上形成有机化合物膜时使有机化合物单体的蒸汽按一定的比例产生并使成膜速率稳定的技术。本发明是一种在真空中释放有机化合物单体的蒸汽的蒸汽释放装置，具有：将液体状的有机化合物单体气化的气化部21；以及与气化部21连通并释放气化部21中气化的有机化合物单体的蒸汽的蒸汽释放部22。在气化部21内设有中空的蒸发器40。该蒸发器40构成为使液体状的有机化合物单体成为雾状而导入，并加热雾状的有机化合物单体34而使之蒸发，将有机化合物单体的蒸汽向气化部21内导出。
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公开(公告)号：CN108291292A
公开(公告)日：2018-07-17
申请号：CN201680069977.6
申请日：2016-11-10
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/24 , C23C16/448
Abstract: 本发明目的在于提供一种能够在真空中基体材料膜上形成有机化合物膜时使有机化合物单体的蒸汽按一定的比例产生并使成膜速率稳定的技术。本发明是一种在真空中释放有机化合物单体的蒸汽的蒸汽释放装置，具有：将液体状的有机化合物单体气化的气化部21；以及与气化部21连通并释放气化部21中气化的有机化合物单体的蒸汽的蒸汽释放部22。在气化部21内设有中空的蒸发器40。该蒸发器40构成为使液体状的有机化合物单体成为雾状而导入，并加热雾状的有机化合物单体34而使之蒸发，将有机化合物单体的蒸汽向气化部21内导出。
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公开(公告)号：CN103180484B
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：CN201180050821.0
申请日：2011-10-14
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/56
CPC classification number: C23C14/3407 , C23C14/3464 , C23C14/562 , H01J37/32458 , H01J37/32743 , H01J37/32752 , H01J37/32761 , H01J37/32788 , H01J2237/3325
Abstract: 本发明提供一种真空成膜装置，为便于运输等而将真空处理室和真空辅助室分开设置，易于在安装现场组装且可维护性好。相连设置有真空处理室（1）、向真空处理室传送片状基材的上游侧的真空辅助室（2）以及卷取回收片状基材的下游侧的真空辅助室（3），所述真空处理室（1）具有卷有长的片状基材（S）的一部分的滚筒（15）、配置在该滚筒的下方且从上游侧传送来片状基材的多个辊（16c）、以及处理单元（4）。上述真空处理室及真空辅助室构成为在设置于地面的架台上载置基板，将下面开口的箱体从其下面侧设置在该基板上。多个辊一体构成为辊单元，设置为在真空处理室内可在滚筒的下方空间内自由取放。
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公开(公告)号：CN102016106A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200980114151.7
申请日：2009-04-14
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C14/5826 , C23C14/14 , C23C16/401 , C23C16/56 , G02B5/0808
Abstract: 本发明提供能够简化装置构成和降低成本的反射膜形成技术。本发明的成膜方法具有：一边将空气导入至成膜区域一边通过蒸镀在成膜对象物上形成光反射性的反射膜的反射膜形成工序(P2)；在该反射膜上形成拒水性聚合物膜的聚合物膜形成工序(P3)；和一边将空气导入至成膜区域一边在前述拒水性聚合物膜上实施基于等离子体的亲水化处理的亲水化处理工序(P5)。根据本发明，可以不使用氩气而进行反射膜的形成以及聚合物膜的亲水化处理。
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公开(公告)号：CN101910453A
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200880122797.5
申请日：2008-12-12
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/34 , C23C16/44 , C23C16/50 , H01L21/285
CPC classification number: C23C14/56 , C23C16/4412 , C23C16/54
Abstract: 本发明的目的在于提供一种成膜装置及成膜方法，以实现缩短在冷凝负荷较大时的排气系统的排气时间，从而提高生产性。为达到上述目的，本发明的对多个基材同时进行成膜处理的成膜装置包括：支承单元(50)，其具有支承部(55)，该支承部(55)对多个基材(2)进行支承，使其位于旋转轴的周围且可自由旋转；真空腔(10)，其具有处理室(14)，该处理室收装上述支承单元，且该支承单元可在该处理室中自由旋转；成膜源(57、60)，其配置在上述真空腔(10)的内部；低温排气部(21)，其具有低温冷凝源，该低温冷凝源配置在上述真空腔(10)的上表面且与上部支承部件(52)相对；以及辅泵(22)。
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公开(公告)号：CN100562602C
公开(公告)日：2009-11-25
申请号：CN200680000343.1
申请日：2006-02-14
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/56
CPC classification number: C23C14/042 , C23C14/54 , C23C14/562
Abstract: 本发明提供一种卷取式真空成膜装置，该卷取式真空成膜装置能够抑制绝缘性的原料薄膜的热变形，以高速成膜金属膜，谋求提高生产性，进而，能够提高薄膜的除电效果。其中，具有电子束照射器(21)、辅助辊(18)、直流偏压电源(22)、除电单元(23)，该电子束照射器(21)被配置在卷放辊(13)和蒸发源(16)之间，向原料薄膜(12)照射荷电粒子；该辅助辊(18)被配置在冷却用筒式辊(14)和卷取辊(15)之间，并与原料薄膜(12)的成膜面接触，对该原料薄膜(12)的行进进行引导；该直流偏压电源(22)对筒式辊(14)和辅助辊(18)之间施加直流电压；该除电单元(23)配置在筒式辊(14)和卷取辊(15)之间，对原料薄膜(12)进行除电，该除电单元(23)由一方的电极接地的直流二极放电型等离子发生源构成。
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公开(公告)号：CN101501239A
公开(公告)日：2009-08-05
申请号：CN200780030031.X
申请日：2007-09-28
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C14/042 , B05C1/0834 , B41F31/002 , B41F31/15 , C23C14/562
Abstract: 抑制油墨凝结效率的降低及相对印刷辊的油墨转印精度的下降，并且实现油墨凝结辊的结构简单化及组装作业性能提高。本发明的卷绕式真空成膜装置的掩模形成单元(20)具有将形成掩模图案(25)的油墨保持在外周的油墨凝结辊(31)、在薄膜(12)的成膜面上将油墨作为掩模图案(25)进行转印的印刷辊(33)、及配置在油墨凝结辊(31)和印刷辊(33)之间并从油墨凝结辊(31)向印刷辊(33)转印油墨的转印辊(32)，并且具备冷却油墨凝结辊(31)的冷却机构、及使转印辊相对于油墨凝结辊(31)、印刷辊(33)在轴方向上周期性摆动的摆动机构。
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公开(公告)号：CN301824314S
公开(公告)日：2012-02-01
申请号：CN201130038697.9
申请日：2011-02-28
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 1.本外观设计产品名称为成膜机，用于在减压条件下在原材料膜上形成薄膜。2.本外观设计的设计要点在于该外观设计产品的形状和结构。3.设计1的立体图1为本外观设计的代表图。4.本外观设计产品的底部在使用中不可见，省略各设计的仰视图。5.本外观设计包含三项相似设计，其中设计1为基本设计。6.设计1主视参考图、设计1后视参考图、设计2主视参考图、设计2后视参考图、设计3主视参考图、设计3后视参考图中的A-N部是透明的。
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