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公开(公告)号：CN108138312B
公开(公告)日：2020-11-03
申请号：CN201780003366.6
申请日：2017-02-27
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 成膜装置具备：靶材(31)，包含磁性材料；搬送部(14)，支承基板(S)使基板(S)位于配置区域(R)，配置区域(R)是与靶材(31)相对的区域；以及第一磁场形成部(20)，相对于配置区域(R)位于靶材(31)的相反侧，对配置区域(R)在靶材(31)所在的一侧形成平行于摇动方向(Ds)的水平磁场(HM)，并在摇动方向(Ds)的至少配置区域(R)的一端与另一端之间沿着摇动方向(Ds)使水平磁场(HM)摇动，摇动方向(Ds)是沿着基板(S)的一个方向。
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公开(公告)号：CN102016106A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200980114151.7
申请日：2009-04-14
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C14/5826 , C23C14/14 , C23C16/401 , C23C16/56 , G02B5/0808
Abstract: 本发明提供能够简化装置构成和降低成本的反射膜形成技术。本发明的成膜方法具有：一边将空气导入至成膜区域一边通过蒸镀在成膜对象物上形成光反射性的反射膜的反射膜形成工序(P2)；在该反射膜上形成拒水性聚合物膜的聚合物膜形成工序(P3)；和一边将空气导入至成膜区域一边在前述拒水性聚合物膜上实施基于等离子体的亲水化处理的亲水化处理工序(P5)。根据本发明，可以不使用氩气而进行反射膜的形成以及聚合物膜的亲水化处理。
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公开(公告)号：CN101910453A
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200880122797.5
申请日：2008-12-12
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/34 , C23C16/44 , C23C16/50 , H01L21/285
CPC classification number: C23C14/56 , C23C16/4412 , C23C16/54
Abstract: 本发明的目的在于提供一种成膜装置及成膜方法，以实现缩短在冷凝负荷较大时的排气系统的排气时间，从而提高生产性。为达到上述目的，本发明的对多个基材同时进行成膜处理的成膜装置包括：支承单元(50)，其具有支承部(55)，该支承部(55)对多个基材(2)进行支承，使其位于旋转轴的周围且可自由旋转；真空腔(10)，其具有处理室(14)，该处理室收装上述支承单元，且该支承单元可在该处理室中自由旋转；成膜源(57、60)，其配置在上述真空腔(10)的内部；低温排气部(21)，其具有低温冷凝源，该低温冷凝源配置在上述真空腔(10)的上表面且与上部支承部件(52)相对；以及辅泵(22)。
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公开(公告)号：CN101484830B
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN200780024816.6
申请日：2007-06-07
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C28/00 , G02B5/0808
Abstract: 本发明提供实现简化工序和缩短作业时间的反射镜的制造装置及其制造方法。构成成膜装置(1)，把反射膜成膜用的金属蒸发源(22)、着色膜成膜用的色素蒸发源(23)、保护膜成膜用的等离子聚合源(电极)(24)配置在一个真空处理室(5)内。另外，通过在共同的真空处理室(5)内进行反射膜的形成工序、着色膜的形成工序和保护膜的形成工序，在实现简化工序的同时缩短作业时间。
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公开(公告)号：CN101484830A
公开(公告)日：2009-07-15
申请号：CN200780024816.6
申请日：2007-06-07
Applicant: 株式会社爱发科
CPC classification number: C23C28/00 , G02B5/0808
Abstract: 本发明提供实现简化工序和缩短作业时间的反射镜的制造装置及其制造方法。构成成膜装置(1)，把反射膜成膜用的金属蒸发源(22)、着色膜成膜用的色素蒸发源(23)、保护膜成膜用的等离子聚合源(电极)(24)配置在一个真空处理室(5)内。另外，通过在共同的真空处理室(5)内进行反射膜的形成工序、着色膜的形成工序和保护膜的形成工序，在实现简化工序的同时缩短作业时间。
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公开(公告)号：CN108138312A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201780003366.6
申请日：2017-02-27
Applicant: 株式会社爱发科
Abstract: 成膜装置具备：靶材(31)，包含磁性材料；搬送部(14)，支承基板(S)使基板(S)位于配置区域(R)，配置区域(R)是与靶材(31)相对的区域；以及第一磁场形成部(20)，相对于配置区域(R)位于靶材(31)的相反侧，对配置区域(R)在靶材(31)所在的一侧形成平行于摇动方向(Ds)的水平磁场(HM)，并在摇动方向(Ds)的至少配置区域(R)的一端与另一端之间沿着摇动方向(Ds)使水平磁场(HM)摇动，摇动方向(Ds)是沿着基板(S)的一个方向。
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公开(公告)号：CN101910453B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN200880122797.5
申请日：2008-12-12
Applicant: 株式会社爱发科
IPC: C23C14/34 , C23C16/44 , C23C16/50 , H01L21/285
CPC classification number: C23C14/56 , C23C16/4412 , C23C16/54
Abstract: 本发明的目的在于提供一种成膜装置及成膜方法，以实现缩短在冷凝负荷较大时的排气系统的排气时间，从而提高生产性。为达到上述目的，本发明的对多个基材同时进行成膜处理的成膜装置包括：支承单元(50)，其具有支承部(55)，该支承部(55)对多个基材(2)进行支承，使其位于旋转轴的周围且可自由旋转；真空腔(10)，其具有处理室(14)，该处理室收装上述支承单元，且该支承单元可在该处理室中自由旋转；成膜源(57、60)，其配置在上述真空腔(10)的内部；低温排气部(21)，其具有低温冷凝源，该低温冷凝源配置在上述真空腔(10)的上表面且与上部支承部件(52)相对；以及辅泵(22)。
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