X射线反射率测定装置
    11.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110036284B

    公开(公告)日:2020-09-18

    申请号:CN201780073230.2

    申请日:2017-11-14

    Abstract: 本发明的X射线反射率测定装置包括:照射角度可变机构(10),其使对试样表面(8a)的聚光X射线束(6)的照射角度变化;被固定的位置灵敏型检测器(14);反射强度计算机构(15),其与照射角度可变机构(10)的聚光X射线束(6)的照射角度的变化同步,仅仅针对位置灵敏型检测器(14)中的位于反射X射线束(12)的发散角度幅度内的检测元件(11),就构成反射X射线束(12)的反射X射线(13)的每个反射角度,累加计算对应的检测元件(11)的检测强度。

    X射线产生装置和X射线分析装置

    公开(公告)号:CN110223797A

    公开(公告)日:2019-09-10

    申请号:CN201910150250.6

    申请日:2019-02-28

    Abstract: 本发明提供一种X射线产生装置和X射线分析装置,其能够利用简单的结构来实现电子束尺寸小的聚焦X射线电子束。X射线产生装置具备:线状X射线源;多层膜镜;以及并排反射镜,其以2片凹面镜共用接合线的方式彼此接合,所述X射线产生装置的特征在于,多层膜镜的反射面的截面具有抛物线形状,并且该抛物线形状的焦点位于线状X射线源,并排反射镜的2片凹面镜的反射面的截面各自具有抛物线形状,并且该抛物线形状的焦点分别位于多层膜镜的相反侧,在俯视观察下,所述并排反射镜的接合线的延长线贯穿多层膜镜以及线状X射线源。

    射束生成单元以及小角度X射线散射装置

    公开(公告)号:CN106062542A

    公开(公告)日:2016-10-26

    申请号:CN201580011600.0

    申请日:2015-02-02

    Abstract: 本发明提供以紧凑的结构及高信号背景比同时获得各向异性的像的微小射束生成单元以及小角度X射线散射装置。微小射束生成单元(110)生成向试样照射的束斑尺寸微小的X射线,以便利用一维检测器或者二维检测器检测衍射X射线,所述微小射束生成单元具备:狭缝(115),其设置在X射线光路上,将X射线修整为平行射束;以及两个切槽晶体单色器(117、118),它们配置为(+,‑,‑,+),除去利用狭缝修整后的平行射束的寄生散射。由此,能够以紧凑的结构及高信号背景比同时获得各向异性的像。

    X射线图像生成装置及X射线图像生成方法

    公开(公告)号:CN103529062A

    公开(公告)日:2014-01-22

    申请号:CN201310269032.7

    申请日:2013-06-28

    CPC classification number: G01N23/04 A61B6/5235 A61B6/5241 A61B8/5253

    Abstract: 本发明提供提供一种X射线图像生成装置和X射线图像生成方法,其能够对二维检测器在样品的相对于该二维检测器不同位置处检测的透射图像进行合成。X射线图像生成装置,其特征在于,具有:X射线发生部,其对样品照射大致平行的X射线;二维检测器,其相对于所述样品配置于所述X射线发生部的相反侧,并具有检测所述样品的透射图像的检测区域;支承台,其用于配置所述样品;工作台,其用于搭载所述支承台,可使所述支承台沿所述二维检测器的所述检测区域的平面做面内移动;和控制部,其根据所述二维检测器检测的所述样品的多个透射图像,生成合成透射图像数据,所述控制部拼合所述样品的不同的多个位置的透射图像,生成合成透射图像数据。

    半导体检查装置、半导体检查系统以及半导体检查方法

    公开(公告)号:CN119096138A

    公开(公告)日:2024-12-06

    申请号:CN202380035692.0

    申请日:2023-02-21

    Abstract: 提供一种半导体检查装置、半导体检查系统以及半导体检查方法,通过以能够收纳到实验室内的大小且以足够的强度得到放大像,能够按每个局部对半导体内部的微细结构进行检查。一种使用了放大的X射线像的半导体检查装置,具备:X射线照射部,其由微焦点且高输出的X射线源(120)和将放射出的X射线朝向半导体的试样进行聚光照射的会聚镜(130)构成;试样保持部,其对试样进行保持;反射镜型X射线透镜部(150),其对透射过试样的X射线进行成像;以及摄像部(190),其取得所成像的X射线像,构成会聚镜(130)和反射镜型X射线透镜部(150)的各镜具有形成有对于特定波长的X射线具有高反射率的多层膜的反射面。

    混合检查系统
    17.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109416330B

    公开(公告)日:2022-09-27

    申请号:CN201780042408.7

    申请日:2017-07-14

    Abstract: 该混合检查系统是包括第一检查设备(1)和第二检查设备(2)的检查系统,其中第一检查设备(1)基于通过用X射线照射样本(11)获得的X射线测量数据来检查样本(11),并且第二检查设备(2)通过使用不采用X射线的测量技术来检查样本(11)。由第一检查设备(1)获得的X射线测量数据或X射线测量数据的分析结果被输出到第二检查设备(2)。此外,第二检查设备(2)利用从第一检查设备(1)输入的X射线测量数据或X射线测量数据的分析结果来分析样本(11)的结构。

    射束生成单元以及小角度X射线散射装置

    公开(公告)号:CN106062542B

    公开(公告)日:2019-06-07

    申请号:CN201580011600.0

    申请日:2015-02-02

    Abstract: 本发明提供以紧凑的结构及高信号背景比同时获得各向异性的像的微小射束生成单元以及小角度X射线散射装置。微小射束生成单元(110)生成向试样照射的束斑尺寸微小的X射线,以便利用一维检测器或者二维检测器检测衍射X射线,所述微小射束生成单元具备:狭缝(115),其设置在X射线光路上,将X射线修整为平行射束;以及两个切槽晶体单色器(117、118),它们配置为(+,‑,‑,+),除去利用狭缝修整后的平行射束的寄生散射。由此,能够以紧凑的结构及高信号背景比同时获得各向异性的像。

    混合检查系统
    20.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109416330A

    公开(公告)日:2019-03-01

    申请号:CN201780042408.7

    申请日:2017-07-14

    Abstract: 该混合检查系统是包括第一检查设备(1)和第二检查设备(2)的检查系统,其中第一检查设备(1)基于通过用X射线照射样本(11)获得的X射线测量数据来检查样本(11),并且第二检查设备(2)通过使用不采用X射线的测量技术来检查样本(11)。由第一检查设备(1)获得的X射线测量数据或X射线测量数据的分析结果被输出到第二检查设备(2)。此外,第二检查设备(2)利用从第一检查设备(1)输入的X射线测量数据或X射线测量数据的分析结果来分析样本(11)的结构。

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