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公开(公告)号：CN111304715B
公开(公告)日：2021-01-26
申请号：CN202010257887.8
申请日：2016-08-23
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种使镀覆于多边形基板的膜的面内均匀性提高的镀覆装置、镀覆方法、及基板保持器，其具有：阳极保持器，该阳极保持器被构成为保持阳极；基板保持器，该基板保持器被构成为保持多边形基板；镀覆槽，该镀覆槽用于收容所述阳极保持器及所述基板保持器，并将所述阳极及所述基板浸渍于镀覆液；及控制装置，该控制装置用于控制在所述阳极与所述基板之间流动的电流。所述基板保持器具有多个供电部件，该多个供电部件沿着所述多边形基板的各边而配置。所述控制装置被构成为，能够以可同时对所述多个供电部件供给至少2个不同值的电流的方式来控制电流。
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公开(公告)号：CN105525333B
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201510672788.5
申请日：2015-10-16
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D17/06
Abstract: 本发明提供一种保持晶片等基板的基板支架。基板支架(7)具有：密封环(31)，与基板W的周缘部接触；支承环(33)，支承密封环(31)；以及固定环(40)，将密封环(31)按压于支承环(33)。固定环(40)具有：环状部(42)，具有由锥面构成的内周面(42a)和外周面(42b)；密封环按压部(43)，与环状部(42)连接；以及调节环(45)，从密封环按压部(43)向半径方向内侧突出，调节环(45)具有比密封环(31)的内径小的内径。
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公开(公告)号：CN105525333A
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201510672788.5
申请日：2015-10-16
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D17/06
Abstract: 本发明提供一种保持晶片等基板的基板支架。基板支架(7)具有：密封环(31)，与基板W的周缘部接触；支承环(33)，支承密封环(31)；以及固定环(40)，将密封环(31)按压于支承环(33)。固定环(40)具有：环状部(42)，具有由锥面构成的内周面(42a)和外周面(42b)；密封环按压部(43)，与环状部(42)连接；以及调节环(45)，从密封环按压部(43)向半径方向内侧突出，调节环(45)具有比密封环(31)的内径小的内径。
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公开(公告)号：CN104878435A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201510089989.2
申请日：2015-02-27
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: C25D17/06 , C25D17/001 , C25D17/005
Abstract: 本发明提供能够对多个种类的基板供电的基板保持架、以及具备该基板保持架的电镀装置。本发明的基板保持架具有构成为能够对具有不同特征的基板供电的第一供电部件以及第二供电部件。第一供电部件具有朝向基板保持面的内侧延伸并且配置在基板保持面的第一位置上的第一供电部件端部。第二供电部件具有朝向基板保持面的内侧延伸并且配置在基板保持面的第二位置上的第二供电部件端部。第一位置相对于第二位置位于基板保持面的中心侧。
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公开(公告)号：CN118756273A
公开(公告)日：2024-10-11
申请号：CN202410826087.1
申请日：2022-04-28
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供对基板高效地进行前置处理的预湿模块、脱气液循环系统和预湿方法。预湿模块(200)包括：脱气槽(210)，其收容脱气液；处理装置(258)，其包括喷嘴(268)，其对被处理面向上的基板的被处理面供给清洗液；基板保持架(220)，其具有配置于脱气槽与处理装置之间且保持第1基板的第1保持构件(222)和保持第2基板的第2保持构件(224)；以及驱动机构(230)，其使基板保持架旋转和升降，驱动机构(230)包括：旋转机构(240)，其使基板保持架在使第1基板的被处理面与脱气槽内的脱气液相向的第1状态和使第2基板的被处理面与脱气槽内的脱气液相向的第2状态之间旋转；和升降机构(248)，其使基板保持架升降。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117716481B
公开(公告)日：2024-09-20
申请号：CN202280041240.9
申请日：2022-08-08
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 矢作光敏
Abstract: 实现能够进行不同的前处理的小型的预湿模块。预湿模块(200)包括：工作台(220)，其构成为对使被处理面(WF‑a)向上的基板(WF)的背面进行保持；旋转机构(224)，其构成为使工作台(220)旋转；清洗液供给部件(260)，其构成为具有配置于工作台(220)的上方的喷嘴(262)，经由喷嘴(262)向工作台(220)的方向供给清洗液；以及脱气液供给部件(250)，其构成为对被工作台(220)保持的基板(WF)的被处理面(WF‑a)供给脱气液，该脱气液供给部件(250)构成为能够在喷嘴(262)与基板(WF)的被处理面(WF‑a)之间的供给位置以及从喷嘴(262)与基板(WF)的被处理面(WF‑a)之间退避的退避位置之间移动。
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公开(公告)号：CN117716481A
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202280041240.9
申请日：2022-08-08
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 矢作光敏
Abstract: 实现能够进行不同的前处理的小型的预湿模块。预湿模块(200)包括：工作台(220)，其构成为对使被处理面(WF‑a)向上的基板(WF)的背面进行保持；旋转机构(224)，其构成为使工作台(220)旋转；清洗液供给部件(260)，其构成为具有配置于工作台(220)的上方的喷嘴(262)，经由喷嘴(262)向工作台(220)的方向供给清洗液；以及脱气液供给部件(250)，其构成为对被工作台(220)保持的基板(WF)的被处理面(WF‑a)供给脱气液，该脱气液供给部件(250)构成为能够在喷嘴(262)与基板(WF)的被处理面(WF‑a)之间的供给位置以及从喷嘴(262)与基板(WF)的被处理面(WF‑a)之间退避的退避位置之间移动。
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公开(公告)号：CN105980612B
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201580007863.4
申请日：2015-02-05
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种防止配置有阳极的内部空间与外部空间之间的添加剂及黑膜(Black film)扩散的阳极保持器及具备该阳极保持器的镀覆装置。本发明的阳极保持器(60)具有：用于收容阳极的内部空间(61)；以覆盖内部空间(61)前面的方式构成的隔膜；形成于阳极保持器的外表面，并与内部空间(61)连通的孔(71)；及用于密封孔(71)的阀门(91)。
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公开(公告)号：CN104878435B
公开(公告)日：2018-09-04
申请号：CN201510089989.2
申请日：2015-02-27
Applicant: 株式会社荏原制作所
CPC classification number: C25D17/06 , C25D17/001 , C25D17/005
Abstract: 本发明提供能够对多个种类的基板供电的基板保持架、以及具备该基板保持架的电镀装置。本发明的基板保持架具有构成为能够对具有不同特征的基板供电的第一供电部件以及第二供电部件。第一供电部件具有朝向基板保持面的内侧延伸并且配置在基板保持面的第一位置上的第一供电部件端部。第二供电部件具有朝向基板保持面的内侧延伸并且配置在基板保持面的第二位置上的第二供电部件端部。第一位置相对于第二位置位于基板保持面的中心侧。
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