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公开(公告)号：KR1020160052143A
公开(公告)日：2016-05-12
申请号：KR1020140151997
申请日：2014-11-04
Applicant: 국민대학교산학협력단
IPC: H01L21/28 , H01L21/768
CPC classification number: H01L21/0272 , H01L21/28141
Abstract: 돌출방지및 컨택개선을위한층상조립층의형성방법에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于形成用于防止突起和接触改善的层叠组装层的方法。 该方法包括以下步骤：制备其上形成图案的基材; 在基材上形成纳米材料层; 在基材上形成弹性层; 消除纳米材料层; 并用金属填充图案的内部。 因此，该方法可以实现优异的导电性。
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公开(公告)号：KR102067626B1
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：KR1020160170524
申请日：2016-12-14
Applicant: 국민대학교산학협력단
IPC: C23C16/48 , C23C16/458 , C23C16/44 , C23C16/16 , C23C16/455 , H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/268
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公开(公告)号：KR101918688B1
公开(公告)日：2018-11-14
申请号：KR1020140151997
申请日：2014-11-04
Applicant: 국민대학교산학협력단
IPC: H01L21/027 , H01L21/28
Abstract: 돌출방지및 컨택개선을위한층상조립층의형성방법에관한것이다.
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公开(公告)号：KR101839212B1
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：KR1020160087176
申请日：2016-07-08
Applicant: 국민대학교산학협력단
IPC: C23C16/48 , C23C16/16 , C23C16/448 , C23C16/52 , C23C16/458
Abstract: 레이저화학기상증착법을사용한코발트막형성방법을제공한다. 본발명에따른코발트막형성방법은기판상에 Co(CO)가스및 캐리어가스를공급하는단계및 기판상에공급된 Co(CO)가스에레이저빔을가하여상기 Co(CO)가스의열분해및/또는광분해통해기판상에코발트막을증착하는단계를포함할수 있다. 본발명에따르면, 특정증착조건에서의레이저화학기상증착공정을통하여우수한전기전도도와순도를가지는 Co(코발트) 박막을증착할수 있다. 또한, 직접적인묘사(writing)가가능한레이저화학기상증착법을통하여보다간단한선택적패턴형성이가능하도록한다. 나아가, 고해상도디스플레이패널에적용이가능한좁은선 폭과낮은비저항을갖는디스플레이패널의수리공정을제공할수 있다.
Abstract translation: 提供了一种使用激光化学气相沉积形成钴膜的方法。 根据本发明的形成钴膜的方法包括以下步骤：将Co（CO）气体和载气提供到基板上，并且将激光束施加到提供在基板上的Co（CO）气体以分解和/ 或通过光解在基底上沉积钴膜。 根据本发明，可以在特定的沉积条件下通过激光化学气相沉积工艺沉积具有优异的导电性和纯度的Co（钴）薄膜。 另外，可以通过激光化学气相沉积来实现更简单的选择性图案形成，这允许直接书写。 此外，可以提供适用于高分辨率显示面板的具有窄线宽和低电阻率的显示面板的修复过程。
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公开(公告)号：KR1020180006603A
公开(公告)日：2018-01-18
申请号：KR1020160087176
申请日：2016-07-08
Applicant: 국민대학교산학협력단
IPC: C23C16/48 , C23C16/16 , C23C16/448 , C23C16/52 , C23C16/458
CPC classification number: C23C16/483 , C23C16/16 , C23C16/4481 , C23C16/4583 , C23C16/52
Abstract: 레이저화학기상증착법을사용한코발트막형성방법을제공한다. 본발명에따른코발트막형성방법은기판상에 Co(CO)가스및 캐리어가스를공급하는단계및 기판상에공급된 Co(CO)가스에레이저빔을가하여상기 Co(CO)가스의열분해및/또는광분해통해기판상에코발트막을증착하는단계를포함할수 있다. 본발명에따르면, 특정증착조건에서의레이저화학기상증착공정을통하여우수한전기전도도와순도를가지는 Co(코발트) 박막을증착할수 있다. 또한, 직접적인묘사(writing)가가능한레이저화학기상증착법을통하여보다간단한선택적패턴형성이가능하도록한다. 나아가, 고해상도디스플레이패널에적용이가능한좁은선 폭과낮은비저항을갖는디스플레이패널의수리공정을제공할수 있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101652339B1
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：KR1020130020469
申请日：2013-02-26
Applicant: 국민대학교산학협력단
IPC: H01L21/027
Abstract: 본원은, 자기조립단분자막에의하여처리된몰드를이용한패턴형성방법에관한것으로서, 기재에포토레지스트를도포하는단계; 패턴된몰드에자기조립단분자막을형성하는단계; 상기자기조립단분자막이형성된몰드와상기포토레지스트가도포된기재를가압하여접촉하는단계; 및, 상기포토레지스트를경화시키는단계를포함한다.
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公开(公告)号：KR101598827B1
公开(公告)日：2016-03-03
申请号：KR1020130021467
申请日：2013-02-27
Applicant: 국민대학교산학협력단
IPC: H01L21/027
Abstract: 본원은, 비접촉방법을이용한미세구조물의선택적패턴형성방법에관한것으로서, 기재에용매및 전사물질을함유한용액을도포하는단계; 및, 상기기재를패턴된몰드와접촉시켜, 상기기재에도포된용액중 용매만이상기몰드에선택적으로흡수되어상기기재상에상기전사물질을잔류시키는단계를포함한다.
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公开(公告)号：KR1020150034332A
公开(公告)日：2015-04-03
申请号：KR1020130114257
申请日：2013-09-26
Applicant: 국민대학교산학협력단
IPC: G01L1/14 , H01L41/193 , H01L41/45 , G01G7/06
CPC classification number: G01L1/14 , G01G7/06 , H01L41/193 , H01L41/45
Abstract: 본원은대전된기재상에형성된제 1 전극; 상기제 1 전극에대향배치되는제 2 전극; 상기제 1 전극및 상기제 2 전극사이에복수층으로형성된유기물층; 및, 상기유기물층상에형성된, 전도성물질및 고분자물질을함유하는혼합물층을포함하는압력센서, 및그의제조방법을제공한다.
Abstract translation: 提供一种压力传感器及其制造方法，其包括：形成在带电衬底上的第一电极; 与第一电极相对布置的第二电极; 形成在第一电极和第二电极之间的多个层中的有机材料层; 以及在包含导电材料和聚合材料的有机材料层上形成的混合层。
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公开(公告)号：KR1020140108438A
公开(公告)日：2014-09-11
申请号：KR1020130021467
申请日：2013-02-27
Applicant: 국민대학교산학협력단
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0273 , B41J2/17
Abstract: The present invention relates to a method for forming a selective pattern of a fine structure using a non-contact printing method, comprising a step for applying solution containing a solvent and a transfer material, to a base material; and a step for leaving the transfer material on the base material as only the solvent from the solution applied on the base material is selectively absorbed into the mold, by contacting the base material with a patterned mold.
Abstract translation: 本发明涉及一种使用非接触印刷法形成精细结构的选择性图案的方法，包括将含有溶剂和转印材料的溶液涂布到基材上的步骤; 以及通过使基材与图案化模具接触，仅将来自施加在基材上的溶液的溶剂选择性地吸收到模具中，将转印材料留在基材上。
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公开(公告)号：KR1020140108394A
公开(公告)日：2014-09-11
申请号：KR1020130020469
申请日：2013-02-26
Applicant: 국민대학교산학협력단
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0273 , G03F7/2012
Abstract: The present invention relates to a method for forming a pattern using a mold treated by a self-assembled monomolecular film, comprising a step for applying photoresist to base material; a step for forming a self-assembled monomolecular film on a patterned mold; a step for contacting the mold where the self-assembled monomolecular film is formed, and the base material where the photoresist is applied, by pressurizing the same; and a step for hardening the photoresist.
Abstract translation: 本发明涉及使用由自组装单分子膜处理的模具形成图案的方法，其包括将光致抗蚀剂施加于基材的步骤; 在图案化模具上形成自组装单分子膜的步骤; 使形成有自组装单分子膜的模具与通过对其施加光致抗蚀剂的基材进行加压的步骤; 以及使光致抗蚀剂硬化的步骤。
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