公开(公告)号：KR101326992B1

公开(公告)日：2013-11-13

申请号：KR1020110058552

申请日：2011-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카요시투구 ,  하토리가즈나리 ,  가사하라도시히로

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 진공 반송실에, 기판을 처리하기 위한 복수의 처리실을 접속한 기판 처리 장치에 있어서, 장치의 대형화를 억제하며, 풋프린트의 증대를 억제하는 기술을 제공하는 것을 과제로 한다.
진공 반송실(13)의 주위에, 기판에 대하여 처리가 실시되는 복수의 처리실(30)을 설치한다. 상기 진공 반송실(13)의 상방측에 회전 테이블(6)을 사이에 두고 제1 가이드 레일(54)을 설치하며, 상기 회전 테이블(6)이 대응하는 위치에 정지하였을 때에 상기 가이드 레일(54)의 연장선상에 위치하도록 제2 가이드 레일(52)을 설치한다. 이동체(71)를, 제1 및 제2 가이드 레일(52, 54)을 따라, 처리실(30)의 상방측으로 이동시키고, 이동체(71)에 설치된 덮개 유지 기구(8)를 상승시킴으로써, 덮개(32)에 설치된 피유지부(5)를 들어올려, 처리실(30)로부터 덮개(32)를 개방한다.

公开(公告)号：KR101234456B1

公开(公告)日：2013-02-18

申请号：KR1020110048582

申请日：2011-05-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카요시츠구 ,  하토리가즈나리 ,  가사하라도시히로

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명은, 처리실의 덮개를 안정적으로 유지하고, 반전시키는 것이 가능한 덮개 유지 지그를 제공한다.
처리실(81)의 상부에 설치된 덮개(83)를, 상기 처리실(81)로부터 제거된 상태로 유지하는 덮개 유지 지그(1)로서, 반전 프레임(2)은 덮개(83)의 둘레 가장자리부를 유지하고, 기체(31, 34, 53)는, 상기 반전 프레임(2)에 유지된 덮개(83)를 반전시키기 위해 상기 반전 프레임(2)을 수평한 회전축(52) 둘레에서 회전 가능하게 지지한다. 고정 기구(4)는, 상기 반전 프레임(2)에 대하여 덮개(83)를 고정하는 고정 위치와, 상기 덮개(83)의 고정이 해제되는 해제 위치의 사이에서 록샤프트(44)를 이동시킨다.

公开(公告)号：KR1020110097679A

公开(公告)日：2011-08-31

申请号：KR1020110015879

申请日：2011-02-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사하라도시히로

IPC: C21D1/38 ,  F27D7/06 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/3065

Abstract: 본 발명의 과제는 취급이 용이하고 파티클 원인으로 되지 않고, 대형의 처리 용기에도 적용 가능한 방열 방지 구조를 구비한 처리 용기를 제공하는 것이다.
방열 억제 유닛(105)은 처리 용기(101)의 각 측벽(101b)의 외벽면의 일부분 혹은 대략 전체면을 덮도록 측벽(101b)을 따라서 배치되어 있다. 방열 억제 유닛(105)은 복수의 플레이트재(106)에 의해 구성되고, 각 플레이트재(106)는 처리 용기(101)의 측벽(101b)의 외벽면에 배치된 스페이서(107)에 장착된다. 각 플레이트재(106)는 스페이서(107)를 개재시킴으로써, 처리 용기(101)와 이격하여 장착되고, 사이에 공기 단열부(180)가 형성되어 있다.

Abstract translation: 本发明提供一种处理装置，其易于操作并且不产生微粒，并且可以应用于大型处理容器和防散热构造。 散热抑制单元（105）沿着处理容器（101）的侧壁（101b）布置，并且至少部分地覆盖处理容器（101）的侧壁（101b）的外壁表面。 散热抑制单元（105）由安装在处理容器（101）的侧壁（101b）的外壁表面上的隔离器（107）上的多个板（106）构成。 板（106）分别安装并与处理容器（101）分离并具有插入隔离件（107），以在它们之间形成空气隔离部分（180）。

公开(公告)号：KR1020110040807A

公开(公告)日：2011-04-20

申请号：KR1020110025704

申请日：2011-03-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사하라도시히로

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/302

CPC classification number: H01J37/32458 ,  H01J37/3244

Abstract: PURPOSE: A vacuum container and plasma processing apparatus are provided to have sufficient mechanical strength and a light weight and drastically save material costs and processing costs. CONSTITUTION: A lower container(1) includes one bottom wall(1a) and four side walls(1b). An insulating member(3) is arranged on the bottom part of the lower container. The insulating member has a frame shape. A susceptor(5) on which a substrate is mounted is installed on the insulating member. The gap between the insulating member and the bottom wall of the container is sealed by a sealing member(14). An O ring(19) is arranged in the bonding part between an upper container(10) and the side walls as a sealing member.

Abstract translation: 目的：提供真空容器和等离子体处理装置，以具有足够的机械强度和重量轻，并大大节省材料成本和加工成本。 构成：下容器（1）包括一个底壁（1a）和四个侧壁（1b）。 绝缘构件（3）设置在下部容器的底部。 绝缘构件具有框架形状。 在其上安装有基板的感受体（5）安装在绝缘构件上。 绝缘构件与容器的底壁之间的间隙由密封构件（14）密封。 在上部容器（10）和侧壁​​之间的接合部分中设置有O形环（19）作为密封构件。

公开(公告)号：KR100884107B1

公开(公告)日：2009-02-17

申请号：KR1020070052767

申请日：2007-05-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사하라도시히로

IPC: G02F1/13 ,  H01L21/00

Abstract: 본 발명의 과제는 플랫 패널 디스플레이용 기판의 플라즈마 처리의 종류나 처리 조건에 따라 최적의 처리 가스의 공급을 실행하는 것이다. 처리실(200) 내에 배치되는 상부 전극(300)은, 하부 전극(212)에 대향하는 전극판(310)과, 전극판을 지지하는 전극 지지체(320)와, 전극 지지체에 있어서 전극판과의 사이에 형성되고, 처리 가스가 도입되는 버퍼실(330)과, 버퍼실(330)을 복수의 실로 구획하기 위한 루프 형상의 구획 벽(350)을 구비하고, 구획 벽은 전극 지지체와 전극판 사이에 끼워서 유지되는 것을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR102214790B1

公开(公告)日：2021-02-09

申请号：KR1020190144823

申请日：2019-11-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사토료 ,  야마시나이사쿠 ,  가사하라도시히로 ,  츠카모토히로키

IPC: H01J37/32

Abstract: [과제] 불안정한방전을억제하는기술을제공하는것. [해결수단] 플라즈마처리장치는, 기판이탑재되는탑재대가내부에마련되고, 기판에대한플라즈마처리가실시되는처리실과, 탑재대에바이어스용의고주파전력을인가하는고주파전원과, 도전성재료로이루어지고, 접지전위에접속되고, 처리실의내면에배치된복수의판 형상부재를갖는다.

公开(公告)号：KR1020180000313A

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：KR1020170077838

申请日：2017-06-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카다카유키 ,  가사하라도시히로 ,  야마다요우헤이

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01L21/3065 ,  C23C16/45563 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32477 ,  H01J37/32522

Abstract: 소망의경량화를도모할수 있는보강구조체, 그러한보강구조체를갖는진공챔버, 및플라스마처리장치를제공한다. 기판에소정의처리를실시하기위한진공챔버의덮개체를보강하기위해서덮개체의상면에마련된, 복수의비임부재의조합으로이루어지는보강구조체(4)로서, 덮개체의상면(천정벽(3a)의상면)의중앙부에비임부재(중앙부(41a), 중앙부(42a))가환상으로형성되어이루어지는환상부(44)와, 환상부(44)로부터비임부재(단부(41b), 단부(42b), 제 3 비임부재(43))가복수, 방사상으로연장되도록형성된방사상부(45)를갖는다.

Abstract translation: 一种能够实现期望的轻量化的加强结构，具有这种加强结构的真空室以及等离子体处理装置。 作为增强结构（4），包括多个在以加强真空室用于执行预定的处理，以在基板的盖体设置在盖子的上表面上光束bujaeui组合的，顶表面（上壁（3a）的服装盖体 （端部41b，端部42b和端部42b）与环状部44分离。环状部44通过环状地形成中央部41a， 第三非孕妇构件43）以及形成为径向延伸的径向上部45。

公开(公告)号：KR1020170092135A

公开(公告)日：2017-08-10

申请号：KR1020170092463

申请日：2017-07-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사하라도시히로

IPC: H05H1/24 ,  H05H1/46 ,  H01L21/205 ,  H01L21/31

CPC classification number: H05H1/24 ,  H01L21/205 ,  H01L21/31 ,  H05H1/46

Abstract: (과제) 유도결합플라즈마처리장치를비롯한플라즈마처리장치에있어서, 열에의한덮개부재의변형을억제한다. (해결수단) 유도결합플라즈마처리장치(1)의본체용기(2A)와상부용기(2B)의접속부분에는, 전체둘레에걸쳐, O링(51), 단열부재(52) 및스파이럴실드(53)가구비되어있다. 단열부재(52)는, 단열부재용홈(62) 내에끼워져있다. 단열부재(52)는, 리드형상의복수의단열시트(54)에의해구성되어있다. 단열부재(52)에의해, 본체용기(2A)와상부용기(2B)의사이에는, 극간 CL이마련되어있다. 단열부재(52)에의해, 본체용기(2A)와상부용기(2B)가열적으로분리되고, 상부용기(2B)가열에의해변형한경우에도, 그변형량을흡수할수 있다.

Abstract translation: （问题）在包括感应耦合型等离子体处理装置的等离子体处理装置中，抑制由热引起的盖部件的变形。 在感应耦合型等离子体处理装置1的主容器2A与上部容器2B的连接部分形成有O形环51，绝热部件52以及螺旋护罩53（未图示） ）家具可用。 绝热部件52嵌入绝热部件槽62。 绝热部件52由多个引线状的绝热片54构成。 在主容器2A和上部容器2B之间通过隔热构件52设置间隙CL。 主容器2A和上部容器2B由绝热部件52彼此热分离，并且即使在由于上部容器2B的加热而变形的情况下也能够吸收变形。

公开(公告)号：KR1020170015404A

公开(公告)日：2017-02-08

申请号：KR1020170010500

申请日：2017-01-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사하라도시히로

IPC: H01J37/32 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/32477 ,  H01J37/3211 ,  H01J37/32119 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32495 ,  H05H1/46

Abstract: 본발명의과제는, 유전체커버에덮인다른구성부재가손상되는것을방지하는동시에, 퇴적물이기판에부착되는것을방지할수 있는플라즈마처리장치를제공하는것이다. 플라즈마처리장치(10)는, 플라즈마가발생하는처리실(3)과, 상기처리실(3) 내에있어서플라즈마에노출되는기판(S)과대향하여배치되는유전체커버(12)를구비하고, 유전체커버(12)는복수의분할소편(13)이조합되어구성되고, 인접하는 2개의분할소편(13)의경계선에형성된간극(27)은커버플레이트(17)에의해덮이고, 각분할소편(13)은커버플레이트(17)에의해지지된다.

Abstract translation: 本发明提供一种等离子体处理装置，其能够防止由电介质盖覆盖的其它构成构件的损伤，并防止沉积物附着于基板。 等离子体处理装置（10）包括处理室（3）和电介质盖（12），其中处理室（3）用于产生等离子体，并且电介质盖（12）相对地配置有基板暴露 到处理室（3）中的等离子体。 电介质盖（12）由多个分割片（13）组合，形成在相邻分割片的交界处的间隙由盖（17）覆盖，分隔片（13）由盖（17）支撑。

公开(公告)号：KR101429800B1

公开(公告)日：2014-08-12

申请号：KR1020110025704

申请日：2011-03-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가사하라도시히로

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/302

Abstract: 진공 용기로서 충분한 기계적 강도를 유지하면서, 경량화를 도모하는 동시에 그 재료비 및 가공비를 대폭 경감할 수 있는 진공 용기를 제공한다.
플라즈마 처리 용기(100a)는 각통(角筒) 형상으로 성형된 하부 용기(1)와, 이 하부 용기(1)에 조합되는 상부 용기(10)를 갖고 있다. 상부 용기(10)는 프레임체(21)와, 이 프레임체(21)에 절연 부재(23)를 거쳐 연결된 샤워헤드(25)와, 이들 프레임체(21) 및 샤워헤드(25)의 상방에 배치하여 마련된 비임 구조체(27)를 구비하고, 샤워헤드(25)를 구성하는 베이스판(31)은 대기압의 외부 공간에 노출하고 있다.