公开(公告)号：KR101258350B1

公开(公告)日：2013-04-30

申请号：KR1020110053341

申请日：2011-06-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카요시츠구 ,  하토리가즈나리 ,  가사하라도시히로

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

Abstract: 본 발명의 목적은, 진공 반송실에, 기판을 처리하기 위한 복수의 처리실을 접속한 기판 처리 장치로서, 장치의 대형화를 억제하여, 설치면적의 증대를 억제하는 기술을 제공하는 것이다.
진공 분위기로 유지된 진공 반송실(13)의 주위에, 기판에 대하여 진공 처리가 행해지는 복수의 처리실(30)을 마련한다. 상기 처리실(30)은, 용기 본체(31)의 상부 개구를 덮개(32)로 개폐하도록 구성되어 있다. 덮개 개폐 기구(6)를, 복수의 처리실(30)의 각각의 덮개(32)의 개폐 위치를 통과하면서 상기 진공 반송실(13)의 외주를 따라서 이동하도록 설치한다. 상기 덮개(32)에는 피유지부(5)가 설치되어 있고, 덮개 개폐 기구(6)에 설치된 덮개 유지 기구(7)를 상기 개폐 위치에서 상승시키는 것에 의해, 처리실(30)로부터 덮개(32)를 들어올린다.

Abstract translation: 本发明的一个目的，该真空转移室，连接多个上述处理室的用于处理基板的基板处理装置中，为了抑制在该装置的尺寸的增加，以提供抑制安装面积的增加的技术。

公开(公告)号：KR1020110139111A

公开(公告)日：2011-12-28

申请号：KR1020110058551

申请日：2011-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카요시투구 ,  하토리가즈나리 ,  가사하라도시히로

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/02 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/67742 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/68707

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to suppress the increase of a device due to separation of a process chamber cover by sharing a cover holding mechanism. CONSTITUTION: In a substrate processing apparatus, a rotary table(721) is installed on the support surface formed on the vacuum transfer chamber. A circular arm(7) is installed in the rotary table. A cover holding mechanism(741) is installed in the end part of the circular arm. The cover holding mechanism is passed through the upper part of a process chamber while maintaining covers. A rack gear is rotated around the peripheral direction of the rotary table.

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，以通过共用盖保持机构来抑制由于处理室盖的分离而引起的装置的增加。 构成：在基板处理装置中，旋转台（721）安装在形成在真空传送室上的支撑面上。 圆形臂（7）安装在旋转台中。 在圆臂的端部安装有盖保持机构（741）。 盖保持机构在保持盖的同时通过处理室的上部。 齿条围绕旋转台的圆周方向旋转。

公开(公告)号：KR101326992B1

公开(公告)日：2013-11-13

申请号：KR1020110058552

申请日：2011-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카요시투구 ,  하토리가즈나리 ,  가사하라도시히로

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 진공 반송실에, 기판을 처리하기 위한 복수의 처리실을 접속한 기판 처리 장치에 있어서, 장치의 대형화를 억제하며, 풋프린트의 증대를 억제하는 기술을 제공하는 것을 과제로 한다.
진공 반송실(13)의 주위에, 기판에 대하여 처리가 실시되는 복수의 처리실(30)을 설치한다. 상기 진공 반송실(13)의 상방측에 회전 테이블(6)을 사이에 두고 제1 가이드 레일(54)을 설치하며, 상기 회전 테이블(6)이 대응하는 위치에 정지하였을 때에 상기 가이드 레일(54)의 연장선상에 위치하도록 제2 가이드 레일(52)을 설치한다. 이동체(71)를, 제1 및 제2 가이드 레일(52, 54)을 따라, 처리실(30)의 상방측으로 이동시키고, 이동체(71)에 설치된 덮개 유지 기구(8)를 상승시킴으로써, 덮개(32)에 설치된 피유지부(5)를 들어올려, 처리실(30)로부터 덮개(32)를 개방한다.

公开(公告)号：KR101234456B1

公开(公告)日：2013-02-18

申请号：KR1020110048582

申请日：2011-05-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카요시츠구 ,  하토리가즈나리 ,  가사하라도시히로

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명은, 처리실의 덮개를 안정적으로 유지하고, 반전시키는 것이 가능한 덮개 유지 지그를 제공한다.
처리실(81)의 상부에 설치된 덮개(83)를, 상기 처리실(81)로부터 제거된 상태로 유지하는 덮개 유지 지그(1)로서, 반전 프레임(2)은 덮개(83)의 둘레 가장자리부를 유지하고, 기체(31, 34, 53)는, 상기 반전 프레임(2)에 유지된 덮개(83)를 반전시키기 위해 상기 반전 프레임(2)을 수평한 회전축(52) 둘레에서 회전 가능하게 지지한다. 고정 기구(4)는, 상기 반전 프레임(2)에 대하여 덮개(83)를 고정하는 고정 위치와, 상기 덮개(83)의 고정이 해제되는 해제 위치의 사이에서 록샤프트(44)를 이동시킨다.

公开(公告)号：KR101241644B1

公开(公告)日：2013-03-11

申请号：KR1020110058551

申请日：2011-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카요시투구 ,  하토리가즈나리 ,  가사하라도시히로

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/02 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

Abstract: 본 발명은 기판에 대하여 처리를 실시하기 위한 처리실을 진공 반송실에 복수개 접속한 기판 처리 장치에 있어서, 처리실의 덮개의 착탈에 따른 장치의 대형화를 억제하여 풋프린트의 증대를 억제할 수 있는 기술을 제공하는 것을 과제로 한다.
덮개(52)를 유지하여 착탈(개폐)하기 위한 덮개 유지 기구(741)를 공통화한다. 그리고, 진공 반송실(4) 위의 회전 테이블(721)로부터 신장되는 선회 아암(7)에 덮개 유지 기구(741)를 설치하고, 처리실(5) 또는 로드록실(3)의 덮개(52)를 유지한 상태로 진공 반송실(4)의 둘레 방향을 따라 처리실(5)의 상방 영역을 덮개 유지 기구(741)가 통과하여 선회할 수 있도록 구성한다.

Abstract translation: 本发明根据在除去处理室盖，能够抑制足迹的增加的技术涉及一种用于在连接到多个真空传送腔室的基板处理装置的基板进行处理的处理室，通过抑制装置的大型化 本发明提供了

公开(公告)号：KR1020110140084A

公开(公告)日：2011-12-30

申请号：KR1020110058552

申请日：2011-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카요시투구 ,  하토리가즈나리 ,  가사하라도시히로

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to detachably install a cover of a plurality of processing chambers with a cover maintenance device, thereby suppressing an increase in the size of an installation area. CONSTITUTION: A plurality of processing chambers is installed around a vacuum transfer chamber(13) in which a processing process is performed with respect to a substrate. A first guide rail(54) is installed by placing a rotation table between the first guide rail and the upper side of the vacuum transfer chamber. A second guide rail(52) is installed in order to be placed on an extended line of a guide rail when the rotation table is stopped at a corresponding position. A moving body is moved to the upper side of the processing chamber along the first and second guide rails and raises a cover maintenance device installed in the moving body. The cover maintenance device(5) raises a maintained part installed in a cover and opens the cover from the processing chamber.

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，用于通过盖维护装置可拆卸地安装多个处理室的盖，从而抑制了安装面积的增大。 构成：在真空传送室（13）周围安装有多个处理室，其中相对于基板执行处理处理。 通过在第一导轨和真空传送室的上侧之间放置旋转台来安装第一导轨（54）。 当旋转台停在相应的位置时，安装第二导轨（52）以便放置在导轨的延伸线上。 移动体沿着第一和第二导轨移动到处理室的上侧，并且升高安装在移动体中的盖维护装置。 盖维护装置（5）升起安装在盖中的保持部分，并从处理室打开盖。

公开(公告)号：KR1020110132241A

公开(公告)日：2011-12-07

申请号：KR1020110048582

申请日：2011-05-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카요시츠구 ,  하토리가즈나리 ,  가사하라도시히로

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67772 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/6719

Abstract: PURPOSE: A cover maintaining jig is provided to improve workability when executing maintenance by including a maintenance unit which is supported to be able to rotate in the horizontal rotation axis circumference in order to reverse a cover. CONSTITUTION: A reversal frame(2) keeps circumference edge part of a cover(83). Gases(31,34,53) supports the reversal frame to be able to rotate in the horizontal rotation axis circumference in order to reverse the cover which is kept in the reversal frame. A lock mechanism is installed in a maintenance unit and has a fixing member. The lock mechanism transfers a lock shaft in the interval between a sixing location which fixes the cover about the reversal frame and a lifting location in which a fixed state of the cover is lifted.

Abstract translation: 目的：提供一种盖保持夹具，以通过包括维持单元来提高执行维护时的可操作性，该维护单元被支撑以能够在水平旋转轴线周向旋转以便翻转盖。 构成：反转框架（2）保持盖子的周边部分（83）。 气体（31,34,53）支撑反转框架能够在水平旋转轴圆周上旋转，以便反转保留在反转框架中的盖子。 锁定机构安装在维护单元中并具有固定构件。 锁定机构在将覆盖物围绕反转框架固定的六角位置与提升固定状态的提升位置之间的间隔中传送锁定轴。

公开(公告)号：KR1020110134283A

公开(公告)日：2011-12-14

申请号：KR1020110053341

申请日：2011-06-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카요시츠구 ,  하토리가즈나리 ,  가사하라도시히로

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/67772 ,  H01L21/02 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67196

Abstract: PURPOSE: A substrate processing device is provided to move a cover maintaining machine to an upper area of a processing chamber by heat, thereby eliminating a horizontal space of a vacuum processing chamber when a cover is attached/detached. CONSTITUTION: A load lock chamber(12) and a vacuum returning chamber(13) are installed in a carrier arranging unit(1A,1B). A substrate returning unit(21) transfers a substrate onto a support stand(14). The substrate returning unit includes vertically installed two arms(22) and a base(23) supporting the arms. A buffer rack for supporting the substrate is arranged in the load lock chamber. A plurality of processing chambers(30) is arranged on a side of the vacuum returning chamber.

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，用于通过加热将盖保持机移动到处理室的上部区域，从而在盖被拆卸时消除真空处理室的水平空间。 构成：载体锁定室（12）和真空返回室（13）安装在载体排列单元（1A，1B）中。 基板返回单元（21）将基板传送到支撑台（14）上。 基板返回单元包括垂直安装的两个臂（22）和支撑臂的基座（23）。 用于支撑衬底的缓冲架布置在负载锁定室中。 多个处理室（30）设置在真空返回室的一侧。