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    유도 결합 플라스마 처리 장치
    2.
    发明公开
    유도 결합 플라스마 처리 장치 审中-实审
    电感耦合等离子体加工设备

    公开(公告)号：KR1020150009445A

    公开(公告)日：2015-01-26

    申请号：KR1020140087385

    申请日：2014-07-11

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 가사하라도시히로 ,  야마다요우헤이 ,  사사키가즈오

    IPC: H05H1/46 ,  H01L21/3065 ,  C23C16/505

    CPC classification number: H05H1/46 ,  C23C16/505 ,  H01J37/32 ,  H01L21/3065

    Abstract: 본 발명의 과제는 분할 타입의 금속창을 갖고 있어도, 처리실의 내부에 균일한 플라스마를 생성하는 것이 가능한 유도 결합 플라스마 처리 장치를 제공하는 것이다.
    해결 수단으로서, 본체 용기(1)와, 본체 용기(1)를, 피처리체(G)를 수용하고, 수용한 피처리체(G)에 유도 결합 플라스마 처리를 실시하는 처리실(4)과, 처리실(4) 내에 유도 결합 플라스마를 생성하기 위한 고주파 안테나(11)를 수용하는 안테나실(3)에 구획하는 도전성을 가진 직사각 형상의 금속 창(2)을 구비하고, 고주파 안테나(11)는, 안테나실(3)의 내부에, 직사각 형상의 금속 창(2)에 대응하는 면 내를 주회하도록 마련되며, 직사각 형상의 금속 창(2)은, 서로 전기적으로 절연된 복수의 분할편(2a 내지 2d)으로 분할되며, 분할편(2a 내지 2d)은 각각, 다른 부재에 놓이는 일 없이, 매달림 부재(8)에 의해서 안테나실(3)의 천판부(3b)로부터 매달려 있다.

    Abstract translation: 本发明提供了一种电感耦合等离子体处理装置，即使在包括分割型金属窗时也能在处理室中产生均匀的等离子体。 对于上述，电感耦合等离子体处理装置包括：主体容器（1）; 处理室（4），其容纳处理体（G），并在所容纳的处理体（G）中进行电感耦合等离子体处理; 以及具有导电性的矩形的金属窗（2），其布置在天线室（3）中，所述天线室容纳用于在所述处理室（4）中产生电感耦合等离子体的高频天线（11）。 高频天线（11）布置成缠绕在对应于天线室（3）中的矩形金属窗（2）的表面中。 矩形金属窗（2）被分割为彼此电绝缘的多个分割片（2a至2d）。 分割片（2a至2d）通过悬挂构件（8）从天线室（3）的顶板（3b）悬挂而不分别放置在不同的构件上。

    기판 처리 장치
    3.
    发明授权
    기판 처리 장치 失效
    基板处理设备

    公开(公告)号：KR101241644B1

    公开(公告)日：2013-03-11

    申请号：KR1020110058551

    申请日：2011-06-16

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 다나카요시투구 ,  하토리가즈나리 ,  가사하라도시히로

    IPC: H01L21/677 ,  H01L21/02 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

    Abstract: 본 발명은 기판에 대하여 처리를 실시하기 위한 처리실을 진공 반송실에 복수개 접속한 기판 처리 장치에 있어서, 처리실의 덮개의 착탈에 따른 장치의 대형화를 억제하여 풋프린트의 증대를 억제할 수 있는 기술을 제공하는 것을 과제로 한다.
    덮개(52)를 유지하여 착탈(개폐)하기 위한 덮개 유지 기구(741)를 공통화한다. 그리고, 진공 반송실(4) 위의 회전 테이블(721)로부터 신장되는 선회 아암(7)에 덮개 유지 기구(741)를 설치하고, 처리실(5) 또는 로드록실(3)의 덮개(52)를 유지한 상태로 진공 반송실(4)의 둘레 방향을 따라 처리실(5)의 상방 영역을 덮개 유지 기구(741)가 통과하여 선회할 수 있도록 구성한다.

    Abstract translation: 本发明根据在除去处理室盖，能够抑制足迹的增加的技术涉及一种用于在连接到多个真空传送腔室的基板处理装置的基板进行处理的处理室，通过抑制装置的大型化 本发明提供了

    기판 처리 장치
    4.
    发明公开
    기판 처리 장치 失效
    基板加工设备

    公开(公告)号：KR1020110140084A

    公开(公告)日：2011-12-30

    申请号：KR1020110058552

    申请日：2011-06-16

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 다나카요시투구 ,  하토리가즈나리 ,  가사하라도시히로

    IPC: H01L21/68

    Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to detachably install a cover of a plurality of processing chambers with a cover maintenance device, thereby suppressing an increase in the size of an installation area. CONSTITUTION: A plurality of processing chambers is installed around a vacuum transfer chamber(13) in which a processing process is performed with respect to a substrate. A first guide rail(54) is installed by placing a rotation table between the first guide rail and the upper side of the vacuum transfer chamber. A second guide rail(52) is installed in order to be placed on an extended line of a guide rail when the rotation table is stopped at a corresponding position. A moving body is moved to the upper side of the processing chamber along the first and second guide rails and raises a cover maintenance device installed in the moving body. The cover maintenance device(5) raises a maintained part installed in a cover and opens the cover from the processing chamber.

    Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，用于通过盖维护装置可拆卸地安装多个处理室的盖，从而抑制了安装面积的增大。 构成：在真空传送室（13）周围安装有多个处理室，其中相对于基板执行处理处理。 通过在第一导轨和真空传送室的上侧之间放置旋转台来安装第一导轨（54）。 当旋转台停在相应的位置时，安装第二导轨（52）以便放置在导轨的延伸线上。 移动体沿着第一和第二导轨移动到处理室的上侧，并且升高安装在移动体中的盖维护装置。 盖维护装置（5）升起安装在盖中的保持部分，并从处理室打开盖。

    덮개 유지 지그
    5.
    发明公开
    덮개 유지 지그 有权
    JIG用于保留LID

    公开(公告)号：KR1020110132241A

    公开(公告)日：2011-12-07

    申请号：KR1020110048582

    申请日：2011-05-23

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 다나카요시츠구 ,  하토리가즈나리 ,  가사하라도시히로

    IPC: H01L21/02

    CPC classification number: H01L21/67772 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/6719

    Abstract: PURPOSE: A cover maintaining jig is provided to improve workability when executing maintenance by including a maintenance unit which is supported to be able to rotate in the horizontal rotation axis circumference in order to reverse a cover. CONSTITUTION: A reversal frame(2) keeps circumference edge part of a cover(83). Gases(31,34,53) supports the reversal frame to be able to rotate in the horizontal rotation axis circumference in order to reverse the cover which is kept in the reversal frame. A lock mechanism is installed in a maintenance unit and has a fixing member. The lock mechanism transfers a lock shaft in the interval between a sixing location which fixes the cover about the reversal frame and a lifting location in which a fixed state of the cover is lifted.

    Abstract translation: 目的：提供一种盖保持夹具，以通过包括维持单元来提高执行维护时的可操作性，该维护单元被支撑以能够在水平旋转轴线周向旋转以便翻转盖。 构成：反转框架（2）保持盖子的周边部分（83）。 气体（31,34,53）支撑反转框架能够在水平旋转轴圆周上旋转，以便反转保留在反转框架中的盖子。 锁定机构安装在维护单元中并具有固定构件。 锁定机构在将覆盖物围绕反转框架固定的六角位置与提升固定状态的提升位置之间的间隔中传送锁定轴。

    기판 처리 장치
    7.
    发明授权
    기판 처리 장치 失效
    基板处理设备

    公开(公告)号：KR101258350B1

    公开(公告)日：2013-04-30

    申请号：KR1020110053341

    申请日：2011-06-02

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 다나카요시츠구 ,  하토리가즈나리 ,  가사하라도시히로

    IPC: H01L21/02 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

    Abstract: 본 발명의 목적은, 진공 반송실에, 기판을 처리하기 위한 복수의 처리실을 접속한 기판 처리 장치로서, 장치의 대형화를 억제하여, 설치면적의 증대를 억제하는 기술을 제공하는 것이다.
    진공 분위기로 유지된 진공 반송실(13)의 주위에, 기판에 대하여 진공 처리가 행해지는 복수의 처리실(30)을 마련한다. 상기 처리실(30)은, 용기 본체(31)의 상부 개구를 덮개(32)로 개폐하도록 구성되어 있다. 덮개 개폐 기구(6)를, 복수의 처리실(30)의 각각의 덮개(32)의 개폐 위치를 통과하면서 상기 진공 반송실(13)의 외주를 따라서 이동하도록 설치한다. 상기 덮개(32)에는 피유지부(5)가 설치되어 있고, 덮개 개폐 기구(6)에 설치된 덮개 유지 기구(7)를 상기 개폐 위치에서 상승시키는 것에 의해, 처리실(30)로부터 덮개(32)를 들어올린다.

    Abstract translation: 本发明的一个目的，该真空转移室，连接多个上述处理室的用于处理基板的基板处理装置中，为了抑制在该装置的尺寸的增加，以提供抑制安装面积的增加的技术。

    커버 고정구 및 유도 결합 플라즈마 처리 장치
    8.
    发明公开
    커버 고정구 및 유도 결합 플라즈마 처리 장치 无效
    盖固定构件和感应耦合等离子体处理装置

    公开(公告)号：KR1020120036331A

    公开(公告)日：2012-04-17

    申请号：KR1020120024178

    申请日：2012-03-09

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 가사하라도시히로

    IPC: H05H1/46 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

    CPC classification number: H01J37/3244 ,  H01J37/3211 ,  H01J37/32513 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/4667

    Abstract: PURPOSE: A cover fixing member and an apparatus for processing inductance coupling plasma are provided to reduce the number of components, damage to a cover, and the generation of particle by fixing the cover without a plurality of through holes. CONSTITUTION: A dielectric cover fixing member(18) comprises a supporting unit(18a) and a base unit(18b) supporting a part of a first part cover(12A) and a part of a second part cover(12B). A top of the base unit has a convex unit(18b1) projected in a cylindrical shape. A screw thread(18b2) is formed around the convex unit. A gas inlet passage is connected to another gas inlet passage(21b) inside the convex unit on the base unit. The gas inlet passage constitutes one part of a gas flow path. The inside of a process chamber and the gas inlet passage is communicated. A gas vent(101a) is formed passing through a low wall of the base unit.

    Abstract translation: 目的：提供盖固定构件和用于处理电感耦合等离子体的装置，以通过固定盖而不用多个通孔来减少部件数量，损坏盖子和产生颗粒。 构成：电介质盖固定构件（18）包括支撑单元（18a）和支撑第一部分盖（12A）的一部分和第二部分盖（12B）的一部分的基座单元（18b）。 基部单元的顶部具有以圆筒形状突出的凸形单元（18b1）。 在凸部周围形成螺纹（18b2）。 气体入口通道连接到基座单元上的凸起单元内的另一气体入口通道（21b）。 气体入口通道构成气体流路的一部分。 处理室的内部和气体入口通道连通。 形成通过基座单元的低壁的排气口（101a）。

    플라즈마 처리 용기 및 플라즈마 처리 장치
    10.
    发明公开
    플라즈마 처리 용기 및 플라즈마 처리 장치 审中-实审
    等离子体处理容器和等离子体处理装置

    公开(公告)号：KR1020140086836A

    公开(公告)日：2014-07-08

    申请号：KR1020130156165

    申请日：2013-12-16

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 가사하라도시히로

    IPC: H05H1/24 ,  H05H1/46

    CPC classification number: H05H1/24 ,  H01L21/205 ,  H01L21/31 ,  H05H1/46

    Abstract: The purpose of the present invention is to suppress deformation of a cover member caused by heat in a plasma processing apparatus including an inductively coupled plasma processing apparatus. An O-ring (51), an insulating member (52), and a spiral shield (53) are provided across the whole circumference of an interfacing portion between a body container (2A) and an upper container (2B) of an inductively coupled plasma processing apparatus (1). The insulating member (52) is inserted into an insulating member groove (62). The insulating member (52) is formed with a plurality of lid-shaped insulating sheets (54). Between the body container (2A) and the upper container (2B), a crevice (CL) is provided by the insulating member (52). By the insulating member (52), the body container (2A) and the upper container (2B) are thermally separated from each other and deformation can be absorbed even if the upper container (2B) is deformed by heat.

    Abstract translation: 本发明的目的是在包括电感耦合等离子体处理装置的等离子体处理装置中抑制由热引起的盖构件的变形。 在身体容器（2A）和感应耦合的上部容器（2B）之间的接口部分的整个圆周上设置有O形环（51），绝缘构件（52）和螺旋形屏蔽件（53） 等离子体处理装置（1）。 绝缘构件（52）插入到绝缘构件槽（62）中。 绝缘构件（52）形成有多个盖状绝缘片（54）。 在身体容器（2A）和上部容器（2B）之间，由绝缘构件（52）提供缝隙（CL）。 通过绝缘构件（52），身体容器（2A）和上部容器（2B）彼此热分离，即使上部容器（2B）由于热而变形，也可以吸收变形。

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