公开(公告)号：KR100390545B1

公开(公告)日：2003-09-26

申请号：KR1019960062257

申请日：1996-12-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 신도나오키 ,  가미카와유지 ,  모쿠오쇼리 ,  구마가이요시오

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67028 ,  Y10S134/902

Abstract: A substrate washing and drying apparatus comprising a processing section for holding wafers, to which process solution to wash and vapor for drying the wafers are introduced, a supply/discharge port for introducing solution to the process section, and discharging the solution from the process section, a solution supply mechanism for selecting one from a plurality of kinds of solution, a drying vapor generation section having a heater for generation vapor for drying, a discharging solution mechanism having an opening for rapidly discharging the solution from the processing section, resistivity detecting means for detecting a resistivity value of the process solution, and a controller for controlling the supply of solution to the process section based on the resistivity value detected by the resistivity detecting means.

Abstract translation: 1。一种基板清洗干燥装置，其特征在于，具备：导入晶片的处理部，其导入清洗处理液和干燥晶片的蒸气;供给排出口，用于向处理部导入溶液;排出处理部的溶液 ，用于从多种溶液中选择一种溶液的溶液供应机构，具有用于产生干燥用蒸气的加热器的干燥蒸气产生部，具有用于从处理部快速排出溶液的开口的排出溶液机构，电阻率检测部件 用于检测处理溶液的电阻率值;以及控制器，用于基于由电阻率检测装置检测的电阻率值来控制向处理部分的溶液供应。

公开(公告)号：KR100846813B1

公开(公告)日：2008-07-17

申请号：KR1020010023079

申请日：2001-04-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모쿠오쇼리

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 액면검출장치 및 방법에 관한 것으로, 검출수단에 드리프트가 일어나도, 정확하게 처리액의 액면을 검출할 수 있는 액면검출장치를 제공한다.
액면검출장치(70)는, HPM의 액면이 소정위치(M)에 도달하기까지는 일정 수준의 신호레벨로 유지되고, 그 후는 액면의 상승에 동반하여 신호레벨이 상승하는 압력검출신호(S0)를 출력하는 압력센서(73)와, 액면의 높이가 소정위치(M)에 도달했는지 아닌지를 검출하는 유무검출회로(93)와, 액면의 높이를 검출하는 액면검출회로(94)를 구비하고 있다. 액면검출회로(94)에서는, 압력검출신호(S0)를 증폭하여 로우패스 ·필터(97)에 통과시켜 얻은 압력검출신호(S4)와, 신호홀드기(98)에서 출력되는 보정신호(△S)의 차이를 연산한다.

公开(公告)号：KR1020030071649A

公开(公告)日：2003-09-06

申请号：KR1020030012797

申请日：2003-02-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 카미카와유지 ,  모쿠오쇼리

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67781 ,  Y10S134/902

Abstract: 본 발명은, 액처리장치 및 액처리방법에 관한 것으로 세정처리장치(1)는 복수의 웨이퍼(W)가 일정피치(노멀 피치)로 수용되어 있는 후프(F)를 재치하는 후프 반입출부(2)와, 노멀 피치 반분의 피치(하프 피치)로 복수의 웨이퍼(W)를 대략 평행하게 유지가능한 로터(34)와, 후프(F)와 로터(34)간에서 웨이퍼(W)를 반송하는 웨이퍼 반송장치(11) 및 웨이퍼 자세변환장치(20a ·20b) 및 웨이퍼 승강기구(40)와, 로터(34)를 회전시키는 모터(31)와 로터(34)를 수용하는 외측 챔버(71a) 및 내측 챔버(71b)와, 웨이퍼(W)에 세정액을 공급하는 세정액토출노즐(53 ·55)을 구비한다. 로터(34)에 1유지 피치마다 또는 복수유지피치의 임의의 피치로 웨이퍼(W)를 유지하고, 세정처리를 하고, 2개의 용기에 수용되어 있는 기판을 1배치로 처리할 수 있는 기술을 제시한다.

公开(公告)号：KR1020010099759A

公开(公告)日：2001-11-09

申请号：KR1020010023079

申请日：2001-04-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모쿠오쇼리

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 액면검출장치 및 방법에 관한 것으로, 검출수단에 드리프트가 일어나도, 정확하게 처리액의 액면을 검출할 수 있는 액면검출장치를 제공한다.
액면검출장치(70)는, HPM의 액면이 소정위치(M)에 도달하기까지는 일정 수준의 신호레벨로 유지되고, 그 후는 액면의 상승에 동반하여 신호레벨이 상승하는 압력검출신호(S0)를 출력하는 압력센서(73)와, 액면의 높이가 소정위치(M)에 도달했는지 아닌지를 검출하는 유무검출회로(93)와, 액면의 높이를 검출하는 액면검출회로(94)를 구비하고 있다. 액면검출회로(94)에서는, 압력검출신호(S0)를 증폭하여 로우패스 ·필터(97)에 통과시켜 얻은 압력검출신호(S4)와, 신호홀드기(98)에서 출력되는 보정신호(△S)의 차이를 연산한다.

公开(公告)号：KR1019980024188A

公开(公告)日：1998-07-06

申请号：KR1019970041360

申请日：1997-08-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모쿠오쇼리 ,  다구치게이지 ,  기타하라시게노리

IPC: H01L21/304

Abstract: 반도체 웨이퍼(W) 및 순수(1)를 수용하는 세정조(10)와, 이 세정조(10)에 장치되는 복수의 진동판(40a,40b)을 구비하는 초음파세정장치에 있어서, 각 진동판(40a,40b)의 발진기(60a,60b)의 출력의 위상을 동일한 발진원(50)에 의해 제어함으로써, 발진원(50)의 출력의 위상을 맞출 수 있고, 균일한 음압분포를 얻을 수 있다. 이에 따라, 진동판간의 초음파의 간섭을 없애고, 균일한 음압분포에 의해 파티클(particle)의 제거율을 균일하게 하여 세정효율의 향상을 도모할 수 있다.