公开(公告)号：KR1019990009662A

公开(公告)日：1999-02-05

申请号：KR1019970032130

申请日：1997-07-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이상훈 ,  고재근 ,  김광수 ,  강호성

IPC: H01L21/66

Abstract: 본 발명은 다수의 N-MOS, P-MOS 및 C-MOS구조가 형성된 반도체장치의 표면분석방법에 관한 것이다.
본 발명은, 다수의 N-MOS, P-MOS 및 C-MOS 구조가 형성된 웨이퍼의 표면을 주사전자현미경을 이용하여 분석하는 반도체장치의 표면분석방법에 있어서, 상기 웨이퍼의 표면분석은, 측정하고자 하는 지역에 따라 콘트라스트(Contrast)를 다르게 조절하여 수행하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 다수의 N-MOS, P-MOS 및 C-MOS가 형성된 웨이퍼에 대해서 용이하게 분석공정을 진행할 수 있는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020070053831A

公开(公告)日：2007-05-28

申请号：KR1020050111522

申请日：2005-11-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이영선 ,  김봉수 ,  김영남 ,  강호성 ,  이이수 ,  곽정호

IPC: H01L21/68

CPC classification number: G03F7/70625 ,  H01L22/12

Abstract: 공정 시간을 단축시키기 위한 기판 표면 검사 방법에 있어서, 우선, 패턴이 샷 단위로 형성된 기판을 기초하여 포토 맵을 획득하고, 상기 포토 맵의 중심 좌표를 검출하고, 상기 중심 좌표를 기준으로 다수의 정렬 좌표들을 설정한다. 또한, 상기 다수의 샷들을 구분하기 위한 구분선들의 교차 좌표들을 등록하여 검사 공정 레서피를 설정한다. 이어서, 반도체 기판을 검사 스테이지 상으로 로딩시키고, 상기 중심 좌표, 정렬 좌표들 및 교차 좌표들을 이용하여 상기 기판의 위치를 인식한다. 상기 정렬 좌표들 및 교차 좌표들을 이용하여 상기 기판의 측정 위치를 검출하여 상기 측정 위치에 해당하는 막 또는 패턴의 두께를 측정한다. 여기서, 상기와 같이 샘플 반도체 기판 없이 포토 맵으로 공정 레서피를 설정함으로써, 공정 레서피 설정 시간을 단축시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR1020050118366A

公开(公告)日：2005-12-19

申请号：KR1020040043474

申请日：2004-06-14

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 배종호 ,  전태승 ,  강호성 ,  이성호

IPC: H01L21/66

CPC classification number: G01N21/8851 ,  G01N21/94 ,  G01N21/9501 ,  G01N2021/8861 ,  G01N2021/888 ,  G01N2021/8887

Abstract: 웨이퍼 상의 파티클을 검출하기 위한 파티클 검출 장치 및 방법에서, 스테이지에 지지되는 웨이퍼 상으로 광원부로부터 레이저 빔이 조사된다. CCD 카메라를 이용하여 상기 웨이퍼 이미지를 얻고, 얼라인부에서 상기 웨이퍼의 위치와 기 설정된 웨이퍼의 기준 위치를 칩 단위로 얼라인한다. 검출부에서 상기 웨이퍼 상의 파티클로부터 산란되는 레이저 빔을 검출하고, 상기 검출된 레이저 빔을 이용하여 상기 파티클의 유무와 위치를 파악한다. 따라서 상기 웨이퍼 상에 존재하는 파티클의 실제 위치를 정확하게 파악할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020050099709A

公开(公告)日：2005-10-17

申请号：KR1020040024882

申请日：2004-04-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강호성

IPC: H01L21/60

CPC classification number: H01L2224/78 ,  H01L2224/78301 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/01024 ,  H01L2224/48 ,  H01L2924/00012

Abstract: 본 발명은 와이어본딩 공정의 캐필러리 세척방법에 관한 것으로, 루비(ruby)계 캐필러리(capillary)를 염산과 질산이 혼합된 왕수(王水)에 담그는 배딩(bathing)단계와, 그 캐필러리를 DI워터(deionized water)에 담그는 클리닝(cleaning)단계와, 그 캐필러리를 건조시키는 건조단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이에 따라, 그 캐필러리 내에 존재하던 와이어 찌끄러기 등의 이물질이 완전히 제거될 수 있으므로, 캐필러리의 재사용이 가능하게 되어 반도체 제조공정의 제조비용이 저감된다.

公开(公告)号：KR1020040070486A

公开(公告)日：2004-08-11

申请号：KR1020030006531

申请日：2003-02-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이병범 ,  전태승 ,  강호성

IPC: H01L21/66

Abstract: PURPOSE: An apparatus for measuring a wafer is provided to prevent a defect of a semiconductor device due to an error of a measurement unit by managing periodically the measurement unit. CONSTITUTION: An object as a measuring target is loaded on a stage(102). A measurement unit(106) measures the object loaded on the stage. A plurality of standard samples are loaded into a standard sample holder(108) in order to identify the accuracy of the measurement unit. A driver(104) is connected to the standard sample holder in order to measure the standard samples loaded on the sample holder by moving horizontally the standard sample holder. A controller(122) is connected to the driver and the measurement unit in order to control operations of the driver and the measurement unit.

Abstract translation: 目的：提供一种用于测量晶片的装置，以通过周期性地管理测量单元来防止由于测量单元的误差导致的半导体器件的缺陷。 构成：作为测量对象的物体被装载在舞台（102）上。 测量单元（106）测量载物台上的物体。 将多个标准样品加载到标准样品架（108）中，以便确定测量单元的精度。 驱动器（104）连接到标准样品架上，以便通过水平移动标准样品架来测量装载在样品架上的标准样品。 控制器（122）连接到驱动器和测量单元，以便控制驾驶员和测量单元的操作。

公开(公告)号：KR1020030055847A

公开(公告)日：2003-07-04

申请号：KR1020010085959

申请日：2001-12-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김용주 ,  강호성

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A wafer holder is provided to enhance the productivity by reducing damages, scratches, particles, and loading errors of a wafer. CONSTITUTION: A wafer holder includes a plate, a plurality of pads, and a plurality of guide pins(104). The pads are adhered on an upper portion of the plate and contacted directly to a bottom face of a wafer. The guide pins are installed on an upper portion of the plate. The guide pins are used for fixing a wafer. The guide pins are formed with plastic material. The guide pin is formed with a screw(110), the first roller(112), and the second roller(114). The screw is coupled to the plate. The first roller is used for surrounding a lower portion of a head portion(110a) of the screw. The second roller is used for surrounding an outer surface of the first roller.

Abstract translation: 目的：提供晶片支架以通过减少晶片的损伤，划痕，颗粒和负载误差来提高生产率。 构成：晶片保持器包括板，多个焊盘和多个引导销（104）。 焊盘粘附在板的上部并直接接触晶片的底面。 引导销安装在板的上部。 引导销用于固定晶片。 引导销用塑料材料制成。 导销由螺钉（110），第一辊（112）和第二辊（114）形成。 螺钉与板连接。 第一辊用于围绕螺钉的头部（110a）的下部。 第二辊用于围绕第一辊的外表面。

公开(公告)号：KR1019990074652A

公开(公告)日：1999-10-05

申请号：KR1019980008369

申请日：1998-03-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강호성 ,  김용주

IPC: H01L21/66

Abstract: 본 발명은 전자현미경의 웨이퍼측정챔버의 도어개폐장치의 개폐시 발생하는 파티클로부터 웨이퍼을 보호할 수 있도록 한 반도체소자 제조용 웨이퍼측정챔버에 관한 것이다.
본 발명에 의한 로더챔버와 인접하며, 웨이퍼 로딩입구가 측면에 형성되어 있으며, 상기 로딩입구의 도어개폐장치가 부착된 반도체소자 제조용 웨이퍼측정챔버는 상기 웨이퍼 로딩입구가 로더챔버에 장착된 웨이퍼 위치보다 낮은 위치에 형성되는 것이 특징이다.
상기 로더챔버와 웨이퍼측정챔버 사이에는 상하운동을 하며, 상기 로더챔버의 웨이퍼홀더로부터 웨이퍼을 상기 웨이퍼측정챔버로 이송시키는 이송척이 형성되어 있으며, 상기 이송척의 상하운동은 유압에 의한다.
따라서, 웨이퍼를 웨이퍼측정챔버에 로딩시 상기 웨이퍼측정챔버의 도어개폐장치의 작동에 의하여 발생하는 파티클로 인하여 웨이퍼가 오염되는 것을 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019990070392A

公开(公告)日：1999-09-15

申请号：KR1019980005204

申请日：1998-02-19

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강호성

IPC: H01L21/66

Abstract: 본 발명은 웨이퍼 검사장비의 시료실 입구를 개폐하는 과정에서 파티클의 발생을 방지하도록 마모방지부재를 구비하여 이루어지는 웨이퍼 검사장비의 시료실 입구 개폐장치에 관한 것이다.
본 발명의 웨이퍼 검사장비의 시료실 입구 개폐장치는 웨이퍼의 검사공정이 진행되는 검사장비의 시료실 입구를 개폐하도록 상하 양방향으로 이동하는 마운팅 플래트와, 상기 시료실 입구의 상단에 돌출되어 고정핀에 의해 회전지지되고, 상기 마운팅 플래트와 접촉하며 상기 마운팅 플래트의 상승력으로 회전하여 상기 마운팅 플래트를 상기 시료실 입구의 주변 본체벽과 밀착시키는 로울러 및 상기 마운팅 플래트와 상기 로울러의 접촉에 의한 파티클의 발생을 방지하도록 상기 로울러의 곡면을 따라 형성되어 있는 마모방지부재를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서, 웨이퍼에 치명적인 영향을 미치는 파티클의 발생을 방지하고 웨이퍼 검사공정의 정밀도와 안정성을 높게 하는 효과를 갖는다.

公开(公告)号：KR1020090015600A

公开(公告)日：2009-02-12

申请号：KR1020070080056

申请日：2007-08-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강호성 ,  김봉수 ,  김영남

IPC: H01L21/66

Abstract: A method of inspecting a wafer and apparatus for performing the same is provided to minimize damage to wafer due to ARC by continually detecting whether arc was generated in wafer or not and controlling electron beam irradiation to wafer. In a method of inspecting a wafer and apparatus for performing the same, the electron beam is irradiated from the electron beam radiation unit to the wafer(S210). At that, the electron beam is irradiated to the surface of the wafer mounted the stage vertically down. The electron beam is passed through an iris straightly and is controlled to a desired direction through a deflection member. The arc detecting unit detects whether arc is generated due to the electron beam in wafer or not(S220). The arc generation is detected by the ARC detection unit measuring the current variance of the between the electrode and the stage. The ARC detection unit discontinues the operation of the power supply when arc is detected by the arc detecting unit(S230). The electron beam is irradiated to the wafer from the electron gun when arc is not detected by the ARC detection unit(S240). Faults generated in wafer are detected by the fault detecting unit detecting the secondary electrons emitted from the wafer(S250).

Abstract translation: 提供检查晶片的方法及其执行装置，以通过连续检测是否在晶圆中产生电弧以及控制对晶片的电子束照射来最小化ARC导致的对晶片的损伤。 在检查晶片的方法和执行该晶片的设备的方法中，电子束从电子束辐射单元照射到晶片（S210）。 此时，电子束被照射到安装在舞台上的晶片的垂直向下的表面。 电子束直线通过虹膜，并通过偏转构件被控制到期望的方向。 电弧检测单元检测由于晶片中的电子束是否产生电弧（S220）。 电弧产生由ARC检测单元检测，测量电极和电极之间的电流方差。 当由电弧检测单元检测到电弧时，ARC检测单元停止电源的操作（S230）。 当ARC检测单元未检测到电弧时，电子束从电子枪照射到晶片上（S240）。 故障检测部检测从晶片发出的二次电子，检测晶片中产生的故障（S250）。

公开(公告)号：KR100583641B1

公开(公告)日：2006-05-26

申请号：KR1019990015085

申请日：1999-04-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 강선진 ,  강호성

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 카세트와 챔버 사이에서 반도체 웨이퍼를 이송시키기 위한 반도체 웨이퍼 이송장치에 관한 것이다. 본 발명의 반도체 웨이퍼 이송장치는 베이스, 레일, 아암 그리고 파인더를 구비한다. 상기 레일은 상기 베이스의 윗면에 설치되고, 한 방향으로 일정한 길이를 갖는다. 상기 아암은 상기 레일상에서 이동되고, 상기 반도체 웨이퍼를 이송시키기 위한 역할을 한다. 상기 파인더는 상기 레일의 길이 방향과 동일선상에 위치되도록 상기 베이스의 윗면에 설치되고, 상기 아암에 의해서 로딩된 반도체 웨이퍼의 중심과 플랫 존을 검출한다. 이와 같은 구성을 갖는 반도체 웨이퍼 이송장치는, 반도체 웨이퍼가 측정장치에 로딩되는 시간을 단축시킬 수 있으므로, 공정진행 시간이 절약되어 생산공정의 효율이 향상된다.