公开(公告)号：KR100475076B1

公开(公告)日：2005-03-10

申请号：KR1020020029607

申请日：2002-05-28

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 윤광섭 ,  우상균 ,  송기용 ,  최상준

IPC: G03F7/027

CPC classification number: G03F7/0392 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

Abstract: 본 발명에 따른 감광성 폴리머는 하기 화학식의 펜타플루오르 메틸비닐 에테르 유도체 모노머를 포함하는 질량 평균 분자량이 3,000 ∼ 100,000인 감광성 폴리머이다.

식중, R은 알콕시 카르보닐, 알킬실란, 불소원자들이 치환 또는 비치환된 C
3 -C
20 의 알킬 카르보닐，불소원자들이 치환 또는 비치환된 C
3 -C
20 의 고리화 알킬카르보닐기 또는 불소원자들이 치환 또는 비치환된 벤조일기이다. 본 발명에 따른 감광성 폴리머는 펜타플루오르 메틸비닐 에테르 유도체 모노머가 (메타)아크릴산 모노머, (메타)아크릴레이트 모노머, 스티렌 모노머, 노르보넨 모노머, 테트라플루오르 에틸렌 모노머 및 무수 말레인산 모노머로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 하나의 모노머와 중합된 폴리머이다.

公开(公告)号：KR1020040045053A

公开(公告)日：2004-06-01

申请号：KR1020020073051

申请日：2002-11-22

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 윤광섭 ,  송기용

IPC: G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0392 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/108

Abstract: PURPOSE: A fluorine-containing photosensitive polymer, a resist composition containing the polymer and a method for forming a pattern by using the composition are provided, to improve transmittance at F2 excimer laser wavelength (157 nm). CONSTITUTION: The fluorine-containing photosensitive polymer comprises a trifluorovinyl derivative monomer represented by the formula 6 as a repeating unit, and has a weight average molecular weight of 3,000-100,000, wherein X is a fluorine-substituted or unsubstituted alkyl group of C1-C5; R is a primary, secondary and tertiary alkyl group of C1-C10, a tetrahydropyranyl group, tetrahydrofuranyl group or 1-ethoxyethyl group; and n is an integer of 1-5. The composition comprises 100 parts by weight of the photosensitive polymer; 1-15 parts by weight of a photoacid generator; and optionally 0.01-2.0 parts by weight of an organic base.

Abstract translation: 目的：提供含氟感光性聚合物，含有聚合物的抗蚀剂组合物和使用该组合物形成图案的方法，以提高F2准分子激光波长（157nm）下的透射率。 构成：含氟感光性聚合物包含作为重复单元的式6所示的三氟乙烯基衍生物单体，重均分子量为3,000〜1000000，其中X为C1-C5的氟取代或未取代的烷基 ; R是C1-C10，四氢吡喃基，四氢呋喃基或1-乙氧基乙基的伯，仲和叔烷基; n为1-5的整数。 该组合物包含100重量份的光敏聚合物; 1-15重量份光酸发生剂; 和任选的0.01-2.0重量份的有机碱。

公开(公告)号：KR101860710B1

公开(公告)日：2018-05-25

申请号：KR1020110074459

申请日：2011-07-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박병하 ,  황인오 ,  함철 ,  송기용 ,  박수진 ,  박성준 ,  황우택 ,  김명곤 ,  오승택 ,  자허사임

IPC: C09D4/00 ,  C09D183/02 ,  C08G77/04

CPC classification number: C09D183/04 ,  C09D5/1675 ,  G06F3/03547 ,  G06F3/0412 ,  G06F2203/04103

Abstract: 본발명은내지문성코팅조성물에관한것으로, 전자제품의디스플레이화면또는터치패널등의표면에지문이묻더라도눈에잘 띄지않게하고내구성및 슬립성이우수한피막을형성하는코팅조성물및 그의제조방법을제공한다. 이를위해본 발명의일 실시예에따른내지문성코팅조성물은알킬기를포함하는실란화합물과증류수또는산(acid)을혼합하여이루어진다.

公开(公告)号：KR100767938B1

公开(公告)日：2007-10-18

申请号：KR1020030068741

申请日：2003-10-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이상균 ,  송기용

IPC: G03F7/004

Abstract: 본 발명은 컨쥬게이티드 고분자 패턴 형성용 조성물 및 이를 이용한 패턴형성방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 특정 구조의 전구체 고분자 및 광염기 발생제를 포함하는 컨쥬게이티드 고분자 패턴형성용 조성물 및 이를 이용한 패턴형성방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 조성물을 사용할 경우, 간편하고 효율적으로 컨쥬게이티드 고분자를 패턴화할 수 있으며, 상기 패턴화된 컨쥬게이티드 고분자는 메모리소자, 센서, 태양전지(solar cell), 저장 배터리(storage battery), 유기 EL 등의 유기전자소자에서 유용하게 이용될 수 있다.

公开(公告)号：KR100764362B1

公开(公告)日：2007-10-08

申请号：KR1020050103845

申请日：2005-11-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조성헌 ,  송기용 ,  노창호 ,  김진영

IPC: H01L31/04 ,  H01L31/0224 ,  H01L31/18

CPC classification number: H01G9/2031 ,  H01G9/2059 ,  H01L51/445 ,  Y02E10/542 ,  Y02E10/549 ,  Y02P70/521

Abstract: 본 발명은 투명 기판, 상기 투명 기판 상에 형성된 광촉매 화합물로 구성되는 광촉매층, 상기 광촉매층 위에 형성된 금속 메쉬층 및 상기 금속 메쉬층 위에 전도성 물질이 코팅되어 형성된 도전층을 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지용 투명 전극, 그의 제조방법 및 그를 포함하는 반도체 전극에 관한 것이다. 본 발명에서는 기존의 태양전지용 투명 전극 내에 저저항 금속 메쉬층을 복합화시킴으로써 투과도의 저하 없이 저저항 특성을 갖는 투명 전극의 제조가 가능하므로, 본 발명의 투명 전극을 채용하는 태양전지는 고효율 특성을 갖는다.
태양전지, 반도체 전극, 투명 전극, 광촉매층, 금속 메쉬층

公开(公告)号：KR1020060085466A

公开(公告)日：2006-07-27

申请号：KR1020050006349

申请日：2005-01-24

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  삼성에스디아이 주식회사

Inventor： 박상철 ,  남정규 ,  송기용 ,  노창호

IPC: H01L31/04 ,  H01L31/0216 ,  H01L31/18

CPC classification number: H01G9/2027 ,  H01G9/2031 ,  Y02E10/542 ,  Y02E60/13 ,  Y02P70/521

Abstract: 본 발명은 코어쉘 구조의 금속 산화물을 포함하는 광흡수층 및 이를 구비한 태양전지에 관한 것으로, 구체적으로는 전자 이동 경로를 개선하여 광전 효율을 향상시킨 코어쉘 구조의 금속 산화물을 포함하는 광흡수층 및 이를 구비한 태양전지에 관한 것이다.

公开(公告)号：KR1020040051326A

公开(公告)日：2004-06-18

申请号：KR1020020079236

申请日：2002-12-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송기용 ,  김정배

IPC: C08G77/04

Abstract: PURPOSE: A siloxane-based resin and a method for forming a low dielectric pattern layer by using the resin are provided, to omit the processes for forming an insulating layer and a pattern for simplifying the process by using a siloxane-based resin acting as a low dielectric substance and a photoresist. CONSTITUTION: The siloxane-based resin is obtained by hydrolyzing and condensation polymerizing a silane compound represented by SiR1X2X2X3, a silane compound represented by SiR2X1X2X3, and/or a silane compound represented by X3X2X1Si-(R3)-SiX1X2X3 in an organic solvent in the presence of a catalyst and water, wherein R1 is an acid and heat-labile group-substituted alkylate group of C5-C10, cycloalkylate group or arylate group; R2 is H, an alkyl group of C1-C3, a cycloalkyl group of C3-C10 or an aryl group of C6-C15; R3 is an alkyl or oxyalkyl group of C1-C3, a cycloalkyl or oxycycloalkyl group of C3-C10, or an aryl or oxyaryl group of C6-C15; and X1, X2 and X3 are independently H, an alkyl group of C1-C3, an alkoxy group of C1-C4, or a halogen atom, and at least two among them are an alkoxy group of C1-C4 or a halogen atom.

Abstract translation: 目的：提供硅氧烷类树脂和通过使用该树脂形成低电介质图案层的方法，以省略形成绝缘层的工艺和用于简化工艺的图案，其中使用硅氧烷类树脂作为 低介电物质和光致抗蚀剂。 构成：硅氧烷系树脂通过在有机溶剂中在有机溶剂中水解和缩合由SiR 1 X 2 X 2 X 3表示的硅烷化合物，SiR 2 X 1 X 2 X 3表示的硅烷化合物和/或由X3X2X1Si-（R3）-SiX1X2X3表示的硅烷化合物） 的催化剂和水，其中R1是C5-C10，环烷基化基团或芳基化物基团的酸和热不稳定基团取代的烷基化物基团; R2是H，C1-C3的烷基，C3-C10的环烷基或C6-C15的芳基; R3是C1-C3的烷基或烷氧基，C3-C10的环烷基或氧环烷基，或C6-C15的芳基或氧芳基; X1，X2和X3独立地为H，C1-C3的烷基，C1-C4的烷氧基或卤素原子，并且其中至少两个为C1-C4或卤素原子的烷氧基。

公开(公告)号：KR1020030000449A

公开(公告)日：2003-01-06

申请号：KR1020010036227

申请日：2001-06-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 송기용 ,  우상균 ,  이성호 ,  윤광섭 ,  김현우

IPC: G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0392 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/0758

Abstract: PURPOSE: A photosensitive polymer containing a fluorine-substituted cyclic monomer and a resist composition containing the composition are provided, which is transparent to the light less than 193 nm and shows a good adhesive property to a membrane, a large dry etching resistance and a good contrast characteristic. CONSTITUTION: The photosensitive polymer contains a fluorine-substituted cyclic monomer represented by the formula, wherein at least one between X and Z is a fluorocarbon of C1-C3; and Y is a fluorocarbon of C1-C3, O, S, NH, NCH3, Si(CH3)2, Si(C2H5)2, carbonyl, or ester group. The resist composition comprises the photosensitive polymer; 1-15 wt% of a photoacid generator; and optionally 0.01-2.0 wt% of an organic base. Preferably the photoacid generator is selected from the group consisting of a triarylsulfonium salt, a diarylodonium salt, a sulfonate and their mixtures; and the organic base is selected from the group consisting of triethylamine, triisobutylamine, triisooctylamine, triisodecylamine, diethanolamine and their mixtures.

Abstract translation: 目的：提供含有氟取代的环状单体的光敏性聚合物和含有该组合物的抗蚀剂组合物，其对于小于193nm的光是透明的，并且对膜具有良好的粘合性，耐干蚀刻性和良好的 对比度特征。 构成：光敏性聚合物含有下式所示的氟取代环状单体，X和Z中的至少一个为碳数1〜3的碳氟化合物; 并且Y是C1-C3，O，S，NH，NCH3，Si（CH3）2，Si（C2H5）2，羰基或酯基的碳氟化合物。 抗蚀剂组合物包含光敏聚合物; 1-15重量％的光酸发生剂; 和任选的0.01-2.0重量％的有机碱。 优选地，光酸产生剂选自三芳基锍盐，二季铵盐，磺酸盐及其混合物; 有机碱选自三乙胺，三异丁胺，三异辛胺，三十一烷胺，二乙醇胺及其混合物。

公开(公告)号：KR1020160010094A

公开(公告)日：2016-01-27

申请号：KR1020140090949

申请日：2014-07-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 정영민 ,  송기용

IPC: F25B47/00 ,  F25B49/02 ,  F28F9/02

CPC classification number: F25B47/02 ,  F25B49/02 ,  F25B2400/01 ,  F28D1/05366 ,  F28D2021/0068 ,  F28F1/10 ,  F28F9/02 ,  F28F2009/0285

Abstract: 냉각장치및 냉각장치의제어방법에대한것으로냉각장치는폴리머소재를포함하는냉매관및 냉매관의자체발열을위한히팅전원을냉매관에공급하는전원부를포함할수 있다.

Abstract translation: 冷却装置及其控制方法技术领域本发明涉及冷却装置及其控制方法。 冷却装置包括：含有聚合物材料的冷却剂管; 以及向冷却剂管提供用于冷却剂管的自加热的加热电源的电源单元。 提供了冷却装置和通过使冷却剂管能够在没有附加加热单元的情况下自己加热来控制冷却装置来提供高效率的方法。

公开(公告)号：KR1020130062544A

公开(公告)日：2013-06-13

申请号：KR1020110128854

申请日：2011-12-05

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  조상호

Inventor： 박병하 ,  조상호 ,  김명곤 ,  송기용 ,  함철 ,  황인오

IPC: C23C14/08 ,  C23C14/10 ,  B05D1/00 ,  C09D183/04 ,  C23C28/00

CPC classification number: C23C14/081 ,  B05D1/60 ,  B05D2350/60 ,  C09D183/04 ,  C23C14/10 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31663 ,  C23C28/42

Abstract: PURPOSE: A coating structure and a forming method thereof are provided to improve durability and corrosion resistance of a coating layer and to improve the yield of a product by forming an aluminum oxide layer and a silicon dioxide layer between a coating target product and the coating layer. CONSTITUTION: A coating structure(100) comprises an aluminum oxide(Al2O3) layer, a silicon dioxide(SiO2) layer, and a coating composite layer. The aluminum oxide layer is formed to the surface of a product. The silicon dioxide layer is formed on the aluminum oxide layer. The coating composite layer is formed on the silicon dioxide layer. [Reference numerals] (AA) Coating composite layer; (BB) Silicon dioxide layer; (CC) Aluminum oxide layer; (DD) Product

Abstract translation: 目的：提供涂层结构及其形成方法以提高涂层的耐久性和耐腐蚀性，并且通过在涂覆目标产物和涂层之间形成氧化铝层和二氧化硅层来提高产品的产率 。 构成：涂层结构（100）包括氧化铝（Al 2 O 3）层，二氧化硅（SiO 2）层和涂层复合层。 氧化铝层形成在产品的表面。 二氧化硅层形成在氧化铝层上。 涂层复合层形成在二氧化硅层上。 （标号）（AA）涂层复合层; （BB）二氧化硅层; （CC）氧化铝层; （DD）产品