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公开(公告)号：KR1020170113473A
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：KR1020170043260
申请日：2017-04-03
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본개시는 4G 시스템이후보다높은데이터전송률을지원하기위한 5G 통신시스템을 IoT 기술과융합하는통신기법및 그시스템에관한것이다. 본개시는 5G 통신기술및 IoT 관련기술을기반으로지능형서비스 (예를들어, 스마트홈, 스마트빌딩, 스마트시티, 스마트카 혹은커넥티드카, 헬스케어, 디지털교육, 소매업, 보안및 안전관련서비스등)에적용될수 있다. 본개시는이동통신시스템에서기기간 통신과셀룰라통신의공존방법및 장치를제공한다.
Abstract translation: 本公开涉及一种通信技术及其系统，其融合具有IoT技术的5G通信系统以支持比4G系统更高的数据速率。 本实用新型是针对智能服务（例如，基于5G的技术和物联网相关技术，智能家居，智能楼宇，智能城市，智能卡，或连接汽车，医疗，数字教育，零售，保安和安全服务， ），它可以被应用。 本公开提供了一种用于在移动通信系统中共存设备间通信和蜂窝通信的方法和设备。
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公开(公告)号：KR1020160140217A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：KR1020150076555
申请日：2015-05-29
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: H04W72/1289 , H04L1/1812 , H04L5/0057 , H04W28/20 , H04W72/04 , H04W72/042 , H04W72/0453 , H04W72/12
Abstract: 본개시는 4G 시스템이후보다높은데이터전송률을지원하기위한 5G 통신시스템을 IoT 기술과융합하는통신기법및 그시스템에관한것이다. 본개시는 5G 통신기술및 IoT 관련기술을기반으로지능형서비스 (예를들어, 스마트홈, 스마트빌딩, 스마트시티, 스마트카 혹은커넥티드카, 헬스케어, 디지털교육, 소매업, 보안및 안전관련서비스등)에적용될수 있다. 본개시는광대역송수신을지원하는이동통신시스템에서기지국의데이터스케쥴링방법을제공함으로써, 무선자원의효율적인사용을지원하도록한다. 본개시의실시예에따른무선통신시스템에서단말의통신방법은, 광대역전송모드에상응하는제어정보를제 1 대역폭을통해수신하는단계, 및상기제어정보에기반하여, 상기제 1 대역폭에서제 2 대역폭만큼확장된대역폭을최대대역폭으로하는하향링크데이터를수신하는단계를포함할수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于与IoT技术相结合的用于支持比4G系统的数据传输速率更高的数据传输速率的5G通信系统的通信技术及其系统。 本发明可以应用于智能服务（例如，智能家居，智能建筑，智能城市，智能车或连接车，医疗保健，数字教育，零售业务，安全和安全相关服务等） 5G通信技术和IoT相关技术的基础。 本发明提供了支持宽带发送/接收的移动通信系统中的基站的数据调度方法，从而支持无线资源的有效利用。 根据本发明的实施例的无线通信系统中的终端的通信方法可以包括以下步骤：通过第一带宽接收对应于宽带传输模式的控制信息; 以及基于所述控制信息接收具有从所述第一带宽扩展到第二带宽的带宽的最大带宽的下行链路数据。
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13.发明授权반사형 레티클 척, 그것을 포함하는 반사형 조명 시스템, 그것을 이용한 반사형 레티클의 평탄성을 개선하는 방법 및 반도체 소자를 제조하는 방법 有权反射式光栅卡盘和反射照明系统，包括提高反光掩模版的平坦度的相同方法和使用其的制造半导体器件
公开(公告)号：KR101640766B1
公开(公告)日：2016-07-20
申请号：KR1020090118034
申请日：2009-12-01
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/707 , G03F7/70708 , G03F7/70783
Abstract: 반사형레티클척, 그것을포함하는반사형조명시스템, 그것을이용한반사형레티클의평탄성을개선하는방법및 반도체소자를제조하는방법들이소개된다. 본발명의기술적사상에의한반사형레티클척은비유동부및 유동부를포함한다.
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公开(公告)号：KR1020140096750A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：KR1020130009728
申请日：2013-01-29
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: H01L21/0274 , G03F7/2022 , G03F7/213
Abstract: An exposing method comprises the steps of: radiating a first light having first energy to a first exposed region of a photoresist film through a first shot region of a mask; and radiating a second light having second energy to the first exposed region of the photoresist film through a second shot region of the mask. Thus, total energy required to expose the exposed region of the photoresist film is equally divided, and the divided energy is provided to a plurality of lights. Each light is radiated to a same exposed region through multiple shot regions of the mask. Therefore, an exposed region exposed by the total energy has an average shape of the multiple shot regions.
Abstract translation: 曝光方法包括以下步骤：通过掩模的第一射出区域将具有第一能量的第一光照射到光致抗蚀剂膜的第一曝光区域; 以及通过所述掩模的第二射出区域将具有第二能量的第二光辐射到所述光致抗蚀剂膜的所述第一曝光区域。 因此，曝光光致抗蚀剂膜的曝光区域所需的总能量被等分，并且将分割的能量提供给多个光。 每个光通过掩模的多个射出区域辐射到相同的曝光区域。 因此，通过总能量曝光的曝光区域具有多个拍摄区域的平均形状。
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15.发明公开반사형 레티클 척, 그것을 포함하는 반사형 조명 시스템, 그것을 이용한 반사형 레티클의 평탄성을 개선하는 방법 및 반도체 소자를 제조하는 방법 有权反射镜和反射照明系统，包括它们的反射照明系统的改进方法和使用它的制造半导体器件的方法
公开(公告)号：KR1020110061403A
公开(公告)日：2011-06-09
申请号：KR1020090118034
申请日：2009-12-01
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/707 , G03F7/70708 , G03F7/70783 , G03F7/702
Abstract: PURPOSE: A reflective reticle chuck and a reflective illumination system including the same, a method for increasing the flatness of a reflective reticle, and a method for manufacturing a semiconductor device are provided to accurately control the flatness of the reflective reticle, thereby increasing productivity. CONSTITUTION: A reflective reticle chuck includes a non fluid flowing part(141) and a fluid flowing part(145). The non fluid flowing part is an outer area and the fluid flowing part is a central area. The fluid flowing part is made of cells. A flat frame is fixed to an edge area. Cells comprise an elevator. Some frames are expanded between cells.
Abstract translation: 目的：提供一种反射型掩模版卡盘及其反射照明系统，提高反射型掩模版的平坦度的方法及半导体装置的制造方法，以精确地控制反射型掩模版的平坦度，提高生产率。 构成：反射式光罩卡盘包括非流体流动部分（141）和流体流动部分（145）。 非流体流动部分是外部区域，流体流动部分是中心区域。 流体流动部分由电池制成。 平面框架固定在边缘区域。 细胞包括电梯。 一些帧在单元之间展开。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020100130654A
公开(公告)日：2010-12-14
申请号：KR1020090048205
申请日：2009-06-01
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G06T7/60 , G06T7/0006 , G06T7/73 , G06T2207/10061
Abstract: PURPOSE: A method for processing image data is provided to measure the linewidth of a bar pattern by using an automatic rotation angle correction algorithm. CONSTITUTION: Image data including at least one bar pattern is obtained(S100). The coordinates of an edge of a bar pattern are detected(S200). The outline curve of the bar pattern is extracted(S300). A major axial direction is set by differentiating the outline curve of the bar pattern. The image data is rotated so that the major axis coincides with the reference axis(S400). The information of the bar pattern is extracted by processing the bar pattern of the image data.
Abstract translation: 目的：提供一种处理图像数据的方法，通过使用自动旋转角度校正算法来测量条形图案的线宽。 构成：获得包括至少一个条形图案的图像数据（S100）。 检测条形图案的边缘的坐标（S200）。 提取条形图案的轮廓曲线（S300）。 通过区分条形图案的轮廓曲线来设定主轴向。 旋转图像数据使得长轴与参考轴重合（S400）。 通过处理图像数据的条形图案来提取条形图案的信息。
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公开(公告)号：KR1019990025201A
公开(公告)日：1999-04-06
申请号：KR1019970046740
申请日：1997-09-11
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 아들자와 어미자로 구성된 오버레이키의 정렬 정밀도 측정 방법에 있어서, 상기 오버레이키의 정렬 정밀도 측정은 사입사 조명계를 이용하여 수행한다. 본 발명은 노광장비에 적용되어 개선 효과를 본 사입사 조명은 오버레이에 도입하여 적은 비용과 노력으로 오버레이 측정한계를 극복할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1019970017951A
公开(公告)日：1997-04-30
申请号：KR1019950031818
申请日：1995-09-26
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 동일한 리티클을 사용하여 반도체기판상에 복수의 패턴을 형성하는 반도체장치의 제조방법에 관한 것으로서, 그 방법은 상기 반도체기판상에 층간절연막을 도포하는 공정과; 리터클을 사용하여 소정패턴의 제1감광막을 형성하는 공정과; 상기 소정패턴의 감광막패턴을 마스크로 사용하여 상기 층간절연막을 선택적으로 제거하여 콘택홀을 형성하는 공정과; 상기 콘택홀을 충진하면서 상기 층간절연막상에 패턴대상막을 도포하는 공정과; 상기 동일한 리티클을 사용하여 소정패턴의 제2감광막을 형성하는 공정과, 상기 소정패턴의 제2감광막패턴을 마스크로 사용하여 상기 패턴대상막을 선택적으로 제거하는 공정을 포함한다. 본 발명의 패턴형성방법에 의하면 동일한 리티클을 사용하여 복수의 패턴을 형성할 수 있기 때문에 많은 리티클을 사용할 필요가 없을 뿐만 아니라, 적층에 대한 층대층의 오정렬을 방지할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020170137124A
公开(公告)日：2017-12-12
申请号：KR1020177031074
申请日：2016-04-08
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H04B7/06 , H04B7/0426 , H04W52/42
CPC classification number: H04W52/0245 , H04B7/04 , H04B7/0426 , H04B7/0456 , H04B7/06 , H04B7/0608 , H04B7/0626 , H04W52/42
Abstract: 본발명은 LTE와같은 4G 통신시스템이후보다높은데이터전송률을지원하기위한 5G 또는 pre-5G 통신시스템에관련된것으로서, 특히다중안테나를이용하는무선통신시스템의기지국에서수행되는송신전력제어방법및 장치에대한것이다. 상기송신전력제어방법은, 안테나배열을통해기준신호를서로다른복수의수직각도들로송신하는과정과, 상기기준신호를수신하여채널상태를측정한단말로부터송신신호의빔 형성과관련된채널상태정보를수신하는과정과, 상기채널상태정보에대응되는송신전력으로상기단말에게상기송신신호를전송하는과정을포함한다.
Abstract translation: 有关5G或预5G通信系统的本发明，以支持比相同4G通信系统和LTE后更高的数据速率，特别是用于在所述无线通信系统中使用多天线的基站进行的发送功率控制方法和装置 会的。 发送功率控制方法包括：通过天线阵列以多个不同的垂直角发送参考信号;接收与来自终端的发送信号的波束成形有关的信道质量信息， 并且以与信道状态信息对应的发送功率将发送信号发送到终端。
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