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公开(公告)号：KR1019990033250A
公开(公告)日：1999-05-15
申请号：KR1019970054559
申请日：1997-10-23
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: 본 발명은 캐리어를 이용한 웨이퍼의 이송시 캐리어에 적재된 웨이퍼의 유동을 방지할 수 있는 반도체장치 이송용 캐리어에 관한 것이다.
본 발명의 캐리어는, 다수매의 웨이퍼를 적재하는 캐리어에 상기 웨이퍼를 낱장으로 분리시켜 적재할 수 있도록 상기 캐리어의 양측부에 연속적으로 형성되는 슬롯; 및 상기 웨이퍼의 적재시 상기 웨이퍼가 고정되도록 상기 슬롯과 상기 슬롯에 인접하는 슬롯사이에서 가변할 수 있도록 형성되는 가변고정부를 구비하여 이루어짐을 특징으로 한다.
따라서, 캐리어를 이용한 웨이퍼의 이송시 웨이퍼의 유동으로 인해 웨이퍼가 손상되는 상황 등을 방지할 수 있어 생산성이 향상되는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1019970067670A
公开(公告)日：1997-10-13
申请号：KR1019960007387
申请日：1996-03-19
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304
Abstract: 본 발명은 반도체의 제조 라인에서 사용되는 웨이퍼 캐리어의 건식 세정장치에 관한 것으로서, 외측 상면에 테이블을 갖는 함체와, 상기 함체의 테이블에 웨이퍼 캐리어 박스 및 덮개를 개방된 상태로 각 각 분할 지지한 후 소정의 분사 가스의 분출력에 의하여 동시에 세정할 수 있도록 설치된 세정 수단과, 상기 함체 내부에 캐리어 박스 및 덮개로부터 탈락된 미세 입자를 진공력으로 수집한 후 배기관을 통하여 배출시킬 수 있도록 내장 설치된 배기 덕트와, 상기 세정 수단을 통하는 가스 유입관에 가스 공급 수단으로부터 유입되는 가스를 정화시킬 수 있도록 부설되는 가스 정화 수단과, 공급가스의 공급량을 조절하고 세정시간을 셋팅할 수 있는 제어 수단으로 구비된 것을 특징으로 하여, 일 회의 세정 작동으로 웨이퍼 캐리어의 상, 하부를 동시에 세정할 수 있으므로 작업의 효율성이 더욱 향상되는 등 반도체 생성 라인에서 웨이퍼의 이동이나 보관 등에 수반되는 파티클의 발생을 효율적으로 저지할 수 있으므로 제조 수율 및 신뢰성의 향상에 기여하는 바가 매우 큰 것이다.
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公开(公告)号：KR100479302B1
公开(公告)日：2005-07-05
申请号：KR1019970054559
申请日：1997-10-23
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: 본 발명은 캐리어를 이용한 웨이퍼의 이송시 캐리어에 적재된 웨이퍼의 유동을 방지할 수 있는 반도체장치 이송용 캐리어에 관한 것이다. 본 발명의 캐리어는, 다수매의 웨이퍼를 적재하는 캐리어에 상기 웨이퍼를 낱장으로 분리시켜 적재할 수 있도록 상기 캐리어의 양측부에 연속적으로 형성되는 슬롯; 및 상기 웨이퍼의 적재시 상기 웨이퍼가 고정되도록 상기 슬롯과 상기 슬롯에 인접하는 슬롯사이에서 가변할 수 있도록 형성되는 가변고정부를 구비하여 이루어짐을 특징으로 한다. 따라서, 캐리어를 이용한 웨이퍼의 이송시 웨이퍼의 유동으로 인해 웨이퍼가 손상되는 상황 등을 방지할 수 있어 생산성이 향상되는 효과가 있다.
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公开(公告)号：KR1020020003012A
公开(公告)日：2002-01-10
申请号：KR1020000037396
申请日：2000-06-30
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/68
Abstract: PURPOSE: An electrostatic chuck is provided to decrease a temperature deviation in a center portion and an edge portion of a wafer occurred upon manufacturing a semiconductor memory device by aiding a diffusion of Helium and by increasing a space between the wafer and the chuck for fixing the wafer. CONSTITUTION: An electrostatic chuck in which a wafer is secured, has not less than 6 Helium supply line(34). The Helium supply lines(34) are placed in radial and connected form a center hole portion(31) of the electrostatic chuck to an edge hole portion(32). A width and a depth of the helium supply line(34) is no less than 2 mm. A step in the edge portion of a top of the chuck is 10μm through 40μm.
Abstract translation: 目的：提供一种静电卡盘，用于通过帮助氦气扩散制造半导体存储器件并通过增加晶片和卡盘之间的空间来降低晶片的中心部分和边缘部分的温度偏差，从而固定 晶圆。 构成：其中固定有晶片的静电卡盘具有不少于6个氦气供应管线（34）。 氦气供应管线（34）径向放置并连接到静电吸盘的中心孔部分（31）到边缘孔部分（32）。 氦气供给管线（34）的宽度和深度不小于2mm。 卡盘顶部的边缘部分的台阶为10μm至40μm。
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公开(公告)号：KR1020000060413A
公开(公告)日：2000-10-16
申请号：KR1019990008671
申请日：1999-03-15
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/00
Abstract: PURPOSE: A sterilizing method of a semiconductor ultra-pure water system is provided to prevent the microorganism from propagating by using a polisher resin tower. CONSTITUTION: A heating water heated by a heater(200) is provided such that a resin in a polisher resin tower(202) can not be damaged by the heating water. The polisher resin tower(202) removes ions of city water. The heating water is supplied into the polisher resin tower(202) through a supplying pipe(212). The heating water supplied into the polisher resin tower(202) is flowing through the polisher resin tower(202). Then, the heating water is exhausted into the exterior through an exhaust port(210). The temperature of the heating water is in the range of 50 to 60°C.
Abstract translation: 目的：提供半导体超纯水系统的灭菌方法，以防止微生物通过使用抛光树脂塔传播。 构成：由加热器（200）加热的加热水被设置成使得抛光树脂塔（202）中的树脂不会被加热水损坏。 抛光树脂塔（202）去除城市水的离子。 加热水通过供给管（212）供给至抛光树脂塔（202）。 供给到抛光树脂塔（202）的加热水流过抛光树脂塔（202）。 然后，加热水通过排气口（210）排出到外部。 加热水的温度在50〜60℃的范围内。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100237831B1
公开(公告)日：2000-01-15
申请号：KR1019970066719
申请日：1997-12-08
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: A41D13/00
CPC classification number: A41D13/1263 , A41D13/02 , A41D27/28 , Y10S2/01
Abstract: 본 발명은 청정실 내에서 작업하는 작업자의 인체로부터 발생된 각종 파티클이 유출되어 작업대상체가 오염 또는 손상되는 것을 방지하도록 하는 청정실용 방진복에 관한 것이다.
본 발명은 공기의 흐름이 하향 수직층류 타입으로 이루어진 청정실 내에 작업자가 착용하는 청정실용 방진복에 있어서, 인체의 허리 상측 소정 부위를 커버하는 상의와 상기 허리 하측 소정 부위를 커버하는 하의가 일체형으로 제작되고, 상기 허리 부위를 중심으로 상의 내측과 하의 내측을 상호 연통하도록 연결하는 통풍관이 형성되며, 상기 하의 소정 위치에 내측의 공기가 배출 가능하도록 배출부가 형성됨을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 의하면, 허리 부위에 형성된 통풍관과 하의 하측에 형성된 배출부를 통해 청정실용 방진복 내부의 공기를 외측으로 배출함에 따라 내측의 파티클 유출을 방지하게 되어 인체로부터 발생되는 파티클에 의한 작업대상체의 오염 및 손상이 방지되는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR100236717B1
公开(公告)日：2000-01-15
申请号：KR1019970073508
申请日：1997-12-24
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G01N15/02
Abstract: 본 발명은 크린룸용 방진복의 파티클발생 분석장치 및 이를 이용한 파티클 분석방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 방진복 분석장치는, 방진복이 착용가능한 인체모형기, 상기 인체모형기에 부착되며, 상기 인체모형기에서 에어를 방출시킬 수 있는 에어공급수단 및 상기 인체모형기에 부착되며, 상기 인체모형기에서 파티클을 방출시킬 수 있는 파티클공급수단을 구비하여 이루어지며, 본 발명에 따른 방진복 분석방법은, 상기 방진복을 세정하는 단계, 상기 방진복에서 발생되는 파티클의 개수를 측정하는 단계, 상기 인체모형기에 상기 방진복을 착용시키는 단계, 상기 에어공급수단에 의해서 방진복 내부에 에어를 방출하고, 상기 파티클공급수단에 의해서 방진복 내부에 파티클을 소정개수 방출하는 단계 및 상기 방진복 외부에서 파티클의 개수를 측정하는 단계를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서, 방진복을 용이하게 분석할 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR100213437B1
公开(公告)日：1999-08-02
申请号：KR1019970014264
申请日：1997-04-17
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G01N33/367
Abstract: 방진원단의 여과효율 측정장치 및 그 측정방법은 작업자 인체에 의한 청정실 오염을 방지하기 위해 정전기가 없고 청정실과 같은 습도의 조건에서 방진원단의 여과효율을 정확히 측정하고 방진원단의 사용기한을 결정하는데 그 목적이 있다.
방진원단의 여과효율 측정장치 및 그 측정방법은 가스 이온화부가 이온화된 가스를 챔버에 주입하고 가습부가 챔버내에 수증기를 주입하고 파티클 발생부가 파티클을 챔버 내에 주입하고 파티클 카운팅부가 챔버 내에 주입된 파티클의 수를 카운팅하도록 구성되는 것을 특징으로 한다.
이와 같은 구성에 의하면, 챔버 내의 정전기가 이온화된 가스에 의해 제거되고 챔버 내의 습도가 청정실과 동일한 습도로 유지된 상태에서 파티클이 주입될 때, 시료를 통과하기 전, 후의 파티클의 수가 카운팅되고 시료의 여과효율이 연산된다. 따라서, 청정실 내에서 사용할 수 있는 방진복, 방진마스크, 방지장갑, 와이퍼(wiper) 등 방진제품의 방진원단이 개발 가능하고 방진원단의 사용기한 설정이 가능하므로 사용기한 내에서는 작업자 인체에서 발생한 파티클이 청정실로 방출하는 것이 차단되고 청정실의 고청정도가 유지되어 반도체소자의 수율이 향상된다.-
公开(公告)号：KR1019990053807A
公开(公告)日：1999-07-15
申请号：KR1019970073508
申请日：1997-12-24
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본 발명은 크린룸용 방진복의 파티클발생 분석장치 및 이를 이용한 파티클 분석방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 방진복 분석장치는, 방진복이 착용가능한 인체모형기, 상기 인체모형기에 부착되며, 상기 인체모형기에서 에어를 방출시킬 수 있는 에어공급수단 및 상기 인체모형기에 부착되며, 상기 인체모형기에서 파티클을 방출시킬 수 있는 파티클공급수단을 구비하여 이루어지며, 본 발명에 따른 방진복 분석방법은, 상기 방진복을 세정하는 단계, 상기 방진복에서 발생되는 파티클의 개수를 측정하는 단계, 상기 인체모형기에 상기 방진복을 착용시키는 단계, 상기 에어공급수단에 의해서 방진복 내부에 에어를 방출하고, 상기 파티클공급수단에 의해서 방진복 내부에 파티클을 소정개수 방출하는 단계 및 상기 방진복 외부에서 파티클의 개수를 측정하는 단계를 구비하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서, 방진복을 용이하게 분석할 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR100182167B1
公开(公告)日：1999-04-15
申请号：KR1019960007387
申请日：1996-03-19
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67028
Abstract: 본 발명은 반도체의 제조 라인에서 사용되는 웨이퍼 캐리어의 건식 세정 장치에 관한 것으로서, 외측 상면에 테이블을 갖는 함체와, 상기 함체의 테이블에 웨이퍼 캐리어 박스 및 덮개를 개방한 상태로 각 각 분할지지한 후 소정의 분사 가스의 분출력에 의하여 동시에 세정할 수 있도록 설치된 세정 수단과, 상기 함체 내부에 캐리어 박스 및 덮개로부터 탈락된 미세 입자를 진공력으로 수집한 후 배기관을 통하여 배출시킬 수 있도록 내장 설치된 배기 덕트와, 상기 세정 수단을 통하는 가스 유입관에 가스 공급 수단으로부터 유입되는 가스를 정화시킬 수 있도록 부설되는 가스 정화 수단과, 공급 가스의 공급량을 조절하고 세정 시간을 셋팅할 수 있는 제어수단으로 구비된 것을 특징으로 하여 일회의 세정 작동으로 웨이퍼 캐리어의 상, 하부를 동시에 세정할 수 있으므로 작업의효율성이 더욱 향상되는 등 반도체 생산 라인에서 웨이퍼의 이동이나 보관 등에 수반되는 파티클의 발생을 효율적으로 저지할 수 있으므로 제조 수율 및 신뢰성의 향상에 기여하는 바가 매우 큰 것이다.
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