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    보호된 안트라퀴논 유도체와, 이를 이용한 형광 화상 형성 방법
    11.
    发明公开
    보호된 안트라퀴논 유도체와, 이를 이용한 형광 화상 형성 방법 失效
    具有保护性羟基的蒽醌和萘醌衍生物及其使用形成荧光图像的方法

    公开(公告)号：KR1020010038525A

    公开(公告)日：2001-05-15

    申请号：KR1019990046512

    申请日：1999-10-26

    Applicant: 한국과학기술연구원

    Inventor： 안광덕 ,  김종만 ,  한동근 ,  강종희

    IPC: C07C50/18

    CPC classification number: Y02P20/55

    Abstract: PURPOSE: A method for forming a fine fluorescent image by using protected hydroxy group-containing anthraquinone derivatives or naphthacenequinone derivatives is provided. Thereby the obtained protected hydroxy group-containing compound can be applied to recording material and censor material because it can easily form a fine fluorescent image of micrometer units under the condition of a chemically amplified fine image forming process. CONSTITUTION: This method comprises the steps of: preparing a transparent solution by dissolving protected hydroxy group-containing anthraquinone derivatives of formula 1 or naphthacenequinone derivatives of formula 2 and a soluble polymer in an organic solvent; forming a thin film by coating the solution on a substrate; prebaking the thin film coated substrate; and removing a hydroxy protecting group of the anthraquinone derivatives or naphthacenequinone derivatives by treating under the condition of a chemically amplified fine image forming process.

    Abstract translation: 目的：提供通过使用保护的含羟基蒽醌衍生物或并四苯醌衍生物形成精细荧光图像的方法。 由此，可以在化学放大精细图像形成工序的条件下容易地形成微米单位的微细荧光图像，将得到的保护的含羟基化合物施加到记录材料和检查材料上。 构成：该方法包括以下步骤：通过将保护的含羟基的式1的蒽醌衍生物或式2的并四苯醌衍生物和可溶性聚合物溶解在有机溶剂中来制备透明溶液; 通过将溶液涂布在基材上形成薄膜; 预烘烤薄膜涂布基材; 并通过在化学放大的精细成像方法的条件下处理除去蒽醌衍生物或萘并醌衍生物的羟基保护基。

    보호 포스파젠 화합물을 용해억제제로 사용한 삼성분계 감광성 수지조성물
    12.
    发明授权
    보호 포스파젠 화합물을 용해억제제로 사용한 삼성분계 감광성 수지조성물 失效
    三元光敏树脂组合物，使用保护性磷腈化合物作为溶解抑制剂

    公开(公告)号：KR1019950004198B1

    公开(公告)日：1995-04-27

    申请号：KR1019920015242

    申请日：1992-08-25

    Applicant: 한국과학기술연구원

    Inventor： 안광덕 ,  강종희 ,  박영철 ,  김성주 ,  김상태

    IPC: G03F7/004

    Abstract: The three component photosensitive resin compsn. used in the formation of a micropattern for the mfr of semiconductor devices is composed of 100 wt. pts. of an alkali-soluble resin i.e. novolac resin contg. an aromatic ring, 5˜40 wt. pts. of a phosphagen cpd. of formula (I) [R=-COO(CCH3)3; x=3 or 4 protected with a t-butoxy carbonyl (t-BOC) gp. as a disslution inhibitor, and 1˜20 wt. pts. of an onium salt of formula ArnX+Y- [Ar=aromatic hydrocarbon gp.; n=1˜3; X=halogen or S; Y=BF4, PF6, AsF6, SbF6, CF3 or SO3 , an organic sulfonic ester or a pyrogallol sulfonic ester cpd. as a photoacid generator.

    Abstract translation: 三组分感光树脂组合物。 用于半导体器件制造的微图案的形成由100重量％ 点。 的碱溶性树脂，即酚醛清漆树脂。 芳香环，5〜40重量％ 点。 的磷酸酯cpd。 的式（I）[R = -COO（CCH 3）3; x = 3或4用叔丁氧基羰基（t-BOC）gp保护。 作为消毒抑制剂，和1〜20重量％ 点。 的式ArnX + Y- [Ar =芳烃gp; N = 1〜3; X =卤素或S; Y = BF 4，PF 6，AsF 6，SbF 6，CF 3或SO 3，有机磺酸酯或连苯三酚磺酸酯cpd。 作为光致酸发生器。

    개질된 생분해성 고분자의 제조 방법, 그에 의해 제조된 개질된 생분해성 고분자 및 이를 이용한 생분해성 스텐트
    14.
    发明授权
    개질된 생분해성 고분자의 제조 방법, 그에 의해 제조된 개질된 생분해성 고분자 및 이를 이용한 생분해성 스텐트 有权
    一种制备改性生物可降解聚合物的方法和通过其制备的可生物降解聚合物和可生物降解聚合物

    公开(公告)号：KR101709628B1

    公开(公告)日：2017-02-24

    申请号：KR1020150128584

    申请日：2015-09-10

    Applicant: 한국과학기술연구원

    Inventor： 한동근 ,  정윤기 ,  강종희 ,  강은영

    IPC: C08J7/14 ,  C08J5/00 ,  C08L101/16 ,  C08K5/09 ,  A61L33/06

    CPC classification number: C08G63/912 ,  A61L31/048 ,  A61L31/148 ,  C08G2230/00 ,  C08K5/1535 ,  C08L2201/06 ,  C08L2203/02 ,  C08L67/04

    Abstract: 본발명은인체무독성의생분해성고분자에다양한첨가제및 가소제를사용하여개질된생분해성고분자를제조하는방법과그에의해제조된생분해성고분자, 그리고이 생분해성고분자를이용하여만들어진생분해성스텐트에관한것이다. 구체적으로, 생분해성고분자의개질시 다양한첨가제를용해시킨용액을코팅하여상기하이드록실기말단을카르복실기나다른종류의하이드록실기의작용기로전환함으로써생분해성고분자의고상성형가공시에발생하는열분해에따른중량평균분자량감소를줄이며가공온도를조절함으로써생분해성고분자의기계적물성을대폭향상시킬수 있다.

    Abstract translation: 公开了一种通过在对人体无毒性的可生物降解的聚合物中使用各种添加剂和增塑剂，由其制备的可生物降解的聚合物和通过使用可生物降解的聚合物制备的可生物降解的支架来制备改性的可生物降解的聚合物的方法。 具体地说，可降低在可生物降解的聚合物的固相成型加工过程中发生的热降解引起的分子量的降低，通过在可生物降解的聚合物的改性中涂布溶解有各种添加剂的溶液以转化羟基 端基变成羧基或不同种类的羟基的官能团。

    약물 방출 스텐트 표면의 나노 코팅 방법
    18.
    发明授权
    약물 방출 스텐트 표면의 나노 코팅 방법 有权
    用于药物治疗的表面纳米技术的方法

    公开(公告)号：KR101146558B1

    公开(公告)日：2012-05-25

    申请号：KR1020100041078

    申请日：2010-04-30

    Applicant: 한국과학기술연구원

    Inventor： 한동근 ,  박귀덕 ,  강종희 ,  이봉수 ,  장부남

    IPC: A61L27/28 ,  A61L27/34 ,  A61L27/04 ,  A61F2/82

    Abstract: 본 발명은 혈관 및 비혈관계 약물 방출 스텐트의 정밀제어 나노코팅 방법에 관한 것이다. 본 발명은 기존 금속 스텐트에 재협착 및 혈액 응고를 막는 약물을 생분해성 고분자에 혼합하여 초음파 분사기기를 사용하여 코팅하는 방법이다. 나노코팅 조건으로 초음파 분사기기의 분사거리, 스텐트의 회전속도, 고분자의 방출량, 고분자의 농도, 고분자의 분사압력을 조절하고 다양한 생분해성 고분자, 분산 용매 및 약물을 사용하여 최적화하였다. 본 발명은 스텐트에 약물 함유 고분자를 초음파 나노코팅 시 여러 가지 코팅 조건을 정밀 제어함으로서 코팅 두께를 얇게 하고 코팅 시간을 단축시킬 수 있을 뿐만 아니라 스텐트의 코팅 표면을 평활하게 하고 약물 방출을 용이하게 조절할 수 있어서 모든 약물 방출 스텐트에 적용이 가능하다.

    Ｎ-히드록시페닐말레이미드 함유 내열성 고분자, 및 이를 포함하는 반사 방지막 조성물과 반사 방지막
    20.
    发明授权
    Ｎ-히드록시페닐말레이미드 함유 내열성 고분자, 및 이를 포함하는 반사 방지막 조성물과 반사 방지막 失效
    含有γ-羟基苯甲酰亚胺的热稳定聚合物和包含它们的光刻胶的抗反射涂料组合物

    公开(公告)号：KR100479686B1

    公开(公告)日：2005-03-30

    申请号：KR1020020009950

    申请日：2002-02-25

    Applicant: 한국과학기술연구원

    Inventor： 안광덕 ,  강종희 ,  김준우

    IPC: C08F220/52

    Abstract: 본 발명은 반도체 제조에서 미세 패턴 가공 시 노광된 빛의 난반사 억제를 위하여 사용될 수 있으며, 193nm 파장의 원자외선 영역에서 높은 광흡수도를 갖는
    N -하이드록시페닐말레이미드 반복 단위 함유 유기 고분자, 이를 포함하는 반사 방지막용 조성물 및 이들의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 유기 고분자를 포함하는 바닥 반사 방지막은 기가 비트급 디램(Giga-bit DRAM)의 고집적 반도체 소자 제조에 사용되어 회로의 층간 난반사 및 정재파 현상을 대폭 억제할 수 있으므로, 70nm - 120nm 급의 초고해상도 미세회로를 안정적으로 형성하여 반도체 제품의 생산 수율을 증대시킬 수 있다.

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