Abstract:
PURPOSE: A chip lamination method, a chip laminated with the same, an insulating film, and a manufacturing method thereof are provided to widen a range of application of a process by forming electrical interconnection to a lamination chip. CONSTITUTION: A plurality of metal patterns(120) is included inside an insulating layer(110). An insulating film is inserted into a separate space between chips as predetermined length. A chip pad is welded at the upper side of the chips. A metal pattern is composed of a metal line. One or more chip pads are commonly welded in the metal pattern with thermo-compression bonding method, an ultrasonic wave welding method, or a thermal ultrasonic wave welding method.
Abstract:
이 발명은 표면에 일정한 각도로 경사진 전도성 범프를 갖는 칩에 관한 것이다. 이 발명은 경사진 전도성 범프가 접합 과정에서 압력에 의해 일정한 방향으로 변형됨에 따라 전도성 범프 간의 전기적 단락을 방지하고, 변형된 전도성 범프의 탄성 복원력에 의해 전기적인 접촉을 유지하며, 경사진 전도성 범프를 웨이퍼 레벨(상태)에서 가공함에 따라 생산성이 높은 장점이 있다.
Abstract:
PURPOSE: A welding simulation method, device, and system for simulating bead shapes in real time and a recording medium for the same are provided to maximize the performance of welding training by allowing trainees to monitor bead shapes in real time. CONSTITUTION: A welding simulation method comprises the steps of: receiving sample input data and simulating the sample input data using numerical analysis technique to obtain a sample bead shape(S21), training a neural circuit network using the sample input data and the sample bead shape(S22), and obtaining a shape approximation function(S24).
Abstract:
이 발명의 적층용 단위 기판은, 금속판의 상면에 다수의 홈을 가공하는 단계와, 다수의 홈이 형성된 표면에 절연성을 갖는 감광성 물질을 도포하되 다수의 홈 내에 채워 절연부를 형성하고 금속판의 표면을 코팅해 감광층을 형성하는 단계와, 감광층에 다수의 구멍을 가공한 후, 다수의 구멍에 금속판과 접촉하는 다수의 금속 범프를 형성하는 단계와, 다수의 금속 범프의 높이를 평탄화하는 단계, 및 감광층의 일부 또는 전체를 제거해 다수의 금속 범프를 금속판의 상면으로 돌출시키는 단계를 통해 제조한다. 또한, 이 발명의 다층 기판은, 기재의 상면에 적층용 단위 기판을 순차적으로 적층하되, 적층과정에서 금속판의 일부분을 제거하여 회로선을 노출시키면서 적층하거나 적층 전에 회로선을 노출시킨 상태에서 적층하여 제조하므로, 생산성을 향상시키고 적층된 기판의 평편도를 높여 정밀도와 집적도를 향상시키는 장점이 있다. 단위 기판, 다층 기판, 비아, 금속 범프, 회로선
Abstract:
PURPOSE: A chip comprising conductive bump and its fabrication method and an electronic application having the same and its fabrication method are provided to reduce process costs by manufacturing a conductive pump through one time of lithography and a mechanical processing. CONSTITUTION: In a chip comprising conductive bump and its fabrication method and an electronic application having the same and its fabrication method, a plurality of first conductive bumps(220) are formed on the top of a pad. A plurality of second conductive pumps(230) are formed on the surface of a chip adjacent to the pad. The first and second conductive pump is comprised of a metal bump(270), an outer polymer(280), and an inner polymer(240). The inner polymer is filled inside the metal pump. The outer polymer surrounds the external periphery of a metal pump.
Abstract:
이 발명의 전도성 폴리머 범프를 갖는 칩은, 표면에 1개 이상의 전극을 갖는 칩과, 전극의 상면에 1개 이상씩 형성되는 제1 전도성 폴리머 범프, 및 전극에 인접한 칩의 표면에 형성되는 다수의 제2 전도성 폴리머 범프를 포함하며, 제1, 제2 전도성 폴리머 범프는 내부에 채워지는 코어 폴리머와, 코어 폴리머의 표면에 코팅되어 하면이 전극 또는 칩에 접촉 고정되고 그 이외의 부분이 외부로 노출되는 금속층으로 구성된다. 이 발명은 웨이퍼 레벨(상태)에서 웨이퍼의 상면에 전도성 폴리머 범프를 형성한 후 절단하여 제조하므로 전기 전도도가 균일하고 생산성이 높은 장점이 있다. 전도성 폴리머 범프, 웨이퍼, 코어 폴리머, 전자부품
Abstract:
PURPOSE: A chip, a manufacturing method thereof, and an electronic part thereof are provided to prevent an electrical short-circuit by attaching a chip having a conductive polymer bump to a substrate. CONSTITUTION: A first metal layer is coated onto the surface of a plurality of holes and a photosensitive layer. A core polymer(240) is formed by solidifying a liquid polymer. A second metal layer is coated onto the surface of the core polymer and the first metal layer. A plurality of conductive polymer bumps, which are electrically insulated on the upper side of a wafer, are formed. A plurality of conductive polymers are projected to the upper side of the wafer. A chip having the conductive polymer bump is manufactured by cutting the wafer along a cutting line.
Abstract:
칩 접합을 위한 실리콘 기판 관통 비아, 이를 포함하는 칩, 적층 칩 및 전기도금을 이용한 적층 칩 접합방법이 제공된다. 본 발명에 따른 칩 접합을 위한 실리콘 기판 관통 비아는 상기 칩을 관통하는 실리콘 관통 비아 홀 내부를 채우는 금속부; 상기 금속부와 연결되며, 상기 실리콘 관통 비아 홀 위로 적층된 금속패드; 및 상기 금속부와 연결되며, 상기 실리콘 관통 비아 홀 아래로 소정 높이만큼 상기 칩으로부터 돌출하는 금속범프를 포함하며, 여기에서 상기 금속패드 또는 금속범프는 다른 칩의 금속범프 또는 금속패드와 접촉된 후, 전기도금되며, 본 발명은 전기도금을 이용, TSV가 형성된 복수 적층 칩의 접촉부위를 동시에 접합할 수 있기 때문에 가공 공정이 단순하고 생산성이 높은 장점이 있다.
Abstract:
이 발명은 전기도금 공정을 이용하여 TSV(Through-Silicon Via)가 가공된 복수의 칩이 적층된 적층 칩을 접합하는 방법에 관한 것으로서, 복수의 칩을 정렬한 상태에서 전기도금 공정을 이용하여 TSV 주위를 도금하여 금속 접합부를 형성함으로써, 복수의 칩을 서로 접합한다. 이 발명은 전기도금을 이용하여 TSV가 형성된 적층 칩의 금속 범프를 동시에 접합할 수 있으므로 가공 공정이 단순하고 생산성이 높은 장점이 있다. 또한, 이 발명은 저온에서 도금에 의해 접합부를 형성함에 따라 잔류응력과 변형이 발생하지 않으므로 신뢰성이 높은 접합부를 형성할 수 있고, 전기도금으로 금속 접합부를 형성하므로 전기 전도도와 접합 강도가 우수한 장점이 있다.
Abstract:
PURPOSE: A method for bonding a stack chip using electroless plating is provided to improve bonding strength and electric conductivity by forming a metal junction unit with electroless plating. CONSTITUTION: A plurality of chips with a plurality of TSV(Through-Silicon Via)s are arranged to contact a metal pad with a metal bump(115). Arranged chips are immersed in a plating bath with electroless plating solutions. The plurality of chips are bonded by forming a metal junction unit(210) by plating a metal layer around the metal pad and the metal bump.