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公开(公告)号：WO2012086986A2
公开(公告)日：2012-06-28
申请号：PCT/KR2011/009804
申请日：2011-12-19
CPC classification number: B32B3/30 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F7/165
Abstract: 미세 패턴을 가지는 세라믹 템플릿의 제조 방법이 개시된다. 세라믹 템플릿의 제조 방법은 돌출부를 포함하는 유연 몰드를 제조하는 단계와, 기판 상에 금속-유기물 전구체 용액을 도포하여 코팅층을 형성하고, 유연 몰드로 코팅층을 가압한 상태에서 코팅층을 경화시킨 후 유연 몰드를 제거하여 제1 오목부를 포함하는 금속산화물 패턴을 형성하는 단계와, 적어도 2개의 반복 단위로 이루어진 블록 공중합체를 포함하는 블록 공중합체 코팅층을 제1 오목부에 채우는 단계와, 블록 공중합체 코팅층을 소결하여 반복 단위들을 미세 상 분리시킴으로써 복수의 고분자 블록으로 이루어진 자기 조립 구조를 형성하는 단계와, 복수의 고분자 블록 중 일부의 고분자 블록을 제거하여 제2 오목부를 포함하는 미세 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.
Abstract translation: 本发明提供一种具有微图案的陶瓷模板的制造方法。 制造陶瓷模板的方法包括以下步骤：制造包括突起的柔性模具; 在基材上涂布金属有机前体以形成涂层，在涂层被柔性模具压制的状态下固化涂层，以及去除柔性模具以形成具有第一凹部的金属氧化物图案; 将由至少两个重复单元构成的聚合物块形成的聚合物嵌段涂层填充到所述第一凹部中; 烧结聚合物嵌段涂层以将重复的单元相互分离，从而形成由多个聚合物嵌段构成的自组装结构; 并且去除所述多个聚合物嵌段的一部分以形成具有第二凹部的微图案。
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公开(公告)号：KR101827814B1
公开(公告)日：2018-02-12
申请号：KR1020160046280
申请日：2016-04-15
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본발명은나노임프린트방식으로수 나노미터내지수십나노미터크기로패터닝된기능층을다수적층시킴으로써, 고강도이고, 초경량이며, 고기능성인 3차원구조체를쉽고용이하게형성할수 있는나노임프린트방식을이용한 3차원구조체의제조방법에관한것이다. 이를위해나노임프린트방식을이용한 3차원구조체의제조방법은요철부가가공된스탬프를준비하는스탬프준비단계와, 요철부를포함한스탬프에이형층을형성하는이형층형성단계와, 이형층형성단계를거친요철부에기능층을형성하기위해하나이상의재료를수십나노미터내지수백나노미터의크기로형성하는재료형성단계와, 기판상에요철부에형성된재료를적층하는재료적층단계및 재료에압력, 열과압력, 빛과압력중 어느하나를가하여재료를하단의재료에접합시키는기능층고정단계를포함하고, 상술한단계를순차적으로반복실시하여내부에다수의기공이형성되는 3차원구조체를제조할수 있다.
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公开(公告)号：KR1020170119022A
公开(公告)日：2017-10-26
申请号：KR1020160046280
申请日：2016-04-15
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: G03F7/00 , G03F7/20 , G03F9/00 , G03F7/0002 , G03F7/0037 , G03F7/70 , G03F9/7042
Abstract: 본발명은나노임프린트방식으로수 나노미터내지수십나노미터크기로패터닝된기능층을다수적층시킴으로써, 고강도이고, 초경량이며, 고기능성인 3차원구조체를쉽고용이하게형성할수 있는나노임프린트방식을이용한 3차원구조체의제조방법에관한것이다. 이를위해나노임프린트방식을이용한 3차원구조체의제조방법은요철부가가공된스탬프를준비하는스탬프준비단계와, 요철부를포함한스탬프에이형층을형성하는이형층형성단계와, 이형층형성단계를거친요철부에기능층을형성하기위해하나이상의재료를수십나노미터내지수백나노미터의크기로형성하는재료형성단계와, 기판상에요철부에형성된재료를적층하는재료적층단계및 재료에압력, 열과압력, 빛과압력중 어느하나를가하여재료를하단의재료에접합시키는기능층고정단계를포함하고, 상술한단계를순차적으로반복실시하여내부에다수의기공이형성되는 3차원구조체를제조할수 있다.
Abstract translation: 通过本发明的一些使用纳米压印法层压用的银纳米压印法图案化，几纳米到几十在尺寸，强度高，重量轻纳米的功能层，和所述三维结构，其能够容易地且容易地形成一个高性能的成人的三维结构 及其制造方法。 使用纳米压印方法来完成这一任务的三维结构的制造方法进行盖章准备阶段，释放层形成工序中，形成含有凹凸的部分的印模eyihyeong层的剥离层形成工序制备冲压凹凸部加工的凹凸 为了形成层叠形成于一种或多种材料数十个方纳米的凸部材料形成工序的材料在材料中，热和压力，光功能层材料层叠工序，和在基板至几百尺寸纳米，并且所述压力 并且它可通过上升到所述三维结构，其包括所述材料结合到底的材料中，通过重复序列中的压力的一个步骤的上述实施方式在其中形成的多个孔中的一个功能层设置步骤来制备。
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公开(公告)号：KR101703952B1
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：KR1020140119083
申请日：2014-09-05
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L21/027
Abstract: 금속나노패턴제조방법에서기판의상면에금속층을형성한다. 개구부가형성된템플릿(template)을상기기판상에고온, 고압으로합착시킨다. 상기템플릿이상기기판의금속층에고온, 고압으로합착함에따라, 상기금속층의금속을클러스터링(clustering)시킨다. 상기개구부에대응되는위치의금속이클러스터링되며상기기판상에잔류하여, 금속패턴을형성한다.
Abstract translation: 本发明涉及金属纳米图案的制造方法。 金属层形成在基板的上表面上; 具有形成在其上的开口部的模板在高温高压下紧固在基板上; 允许金属层的金属聚集，同时模板在高温高压下紧固在基板的金属层上; 并且在与开口部分对应的位置处的金属聚集并保留在基板上以形成金属图案。 根据本发明的一个实施例，模板的开口部分可以以各种方式布置，从而容易地形成金属图案的布置和点结构。
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公开(公告)号：KR1020160099995A
公开(公告)日：2016-08-23
申请号：KR1020150022402
申请日：2015-02-13
Applicant: 한국기계연구원
IPC: G01J1/42
Abstract: 본발명의한 실시예에따른자외선검출기는자외선이입사되는광 필터부, 광필터부를통과한자외선을가시광으로변환시키는파장변환부, 가시광의광량을측정하기위한광전변환부를포함하고, 광필터부는복수의나노홀을가지는금속층으로이루어진다.
Abstract translation: 根据本发明的一个实施例，一种紫外线检测器包括：照射紫外线的滤光单元; 波长转换单元，其将通过所述滤光单元的紫外线转换为可见光; 以及光电转换单元，其测量可见光的辐射强度。 滤光单元由具有多个纳米孔的金属层构成。 因此，本发明能够提高紫外线测定的分辨率，能够定量地测定紫外线。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101471089B1
公开(公告)日：2014-12-12
申请号：KR1020120137154
申请日：2012-11-29
Applicant: 한국기계연구원
Abstract: 본발명의일 실시예에따른발광소자제조방법은, 기판상에나노구조물패턴의광결정구조를갖는제1 광결정층을형성하는단계와, 상기제1 광결정층상에나노구조물패턴의광결정구조를갖는제2 광결정층을형성하는단계, 및상기제2 광결정층상에제1 전극층, 발광층, 제2 전극층을순차적으로형성하는단계를포함한다.
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公开(公告)号：KR100995897B1
公开(公告)日：2010-11-22
申请号：KR1020100009904
申请日：2010-02-03
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: H01L51/56 , B01J19/123 , B82Y20/00 , C08L101/00
Abstract: PURPOSE: A gap filling method of a nanostructure and a manufacturing method of an organic light-emitting device(OLED) using thereof are provided to form an oxide thin film with a flat surface by pressing a gap of the nanostructure with a mold. CONSTITUTION: A gap filling method of a nanostructure comprises the following steps: supplying a substrate with the nanostructure including a gap on the upper side(S1); spreading a coating composition to fill the gap(S2); pressing the layer of the coating composition with a mold(S3); irradiation ultraviolet rays to the coating composition layer(S4); heating the layer to form a metal oxide thin film; and separating the mold from the metal oxide thin film(S5).
Abstract translation: 目的：提供纳米结构的间隙填充方法和使用其的有机发光器件（OLED）的制造方法，以通过用模具压制纳米结构的间隙来形成具有平坦表面的氧化物薄膜。 构成：纳米结构的间隙填充方法包括以下步骤：向衬底提供包括在上侧的间隙的纳米结构（S1）; 铺展涂料组合物以填补间隙（S2）; 用模具挤压涂层组合物层（S3）; 向涂料组合物层照射紫外线（S4）; 加热层以形成金属氧化物薄膜; 并将模具与金属氧化物薄膜分离（S5）。
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公开(公告)号：KR100965904B1
公开(公告)日：2010-06-24
申请号：KR1020090082592
申请日：2009-09-02
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L21/027 , B82Y40/00
CPC classification number: H01L33/44 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L2933/0083 , B29C59/022
Abstract: PURPOSE: A patterning method of a metal oxide thin film using nano-imprint and manufacturing method of a light emitting diode are provided to reduce a pattern process by removing a process of covering an ultraviolet resin additionally. CONSTITUTION: A photosensitivity metal-organic precursor solution is coated on a substrate(S1). A photosensitivity metal-organic precursor coating layer is pressurized into a patterned mold(S2). Ultraviolet ray is radiated on the pressured metal-organic precursor coating layer to form a hardened metal oxide film pattern(S3). The patterned mold is removed from the metal oxide thin film pattern(S4). A plastic process of processing the metal oxide thin film pattern with a thermal process is performed.
Abstract translation: 目的：提供使用纳米压印的金属氧化物薄膜的图案化方法和发光二极管的制造方法，以通过除去另外掩盖紫外线树脂的工艺来减少图案处理。 构成：将光敏金属 - 有机前体溶液涂覆在基材上（S1）。 将光敏金属 - 有机前体涂层加压成图案化模具（S2）。 将紫外线照射在加压的金属 - 有机前体涂层上以形成硬化的金属氧化物膜图案（S3）。 从金属氧化物薄膜图案去除图案化的模具（S4）。 进行利用热处理来处理金属氧化物薄膜图案的塑性工艺。
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公开(公告)号：KR100866600B1
公开(公告)日：2008-11-03
申请号：KR1020080085905
申请日：2008-09-01
Applicant: 한국기계연구원
CPC classification number: H01L21/6715 , H01L21/02118 , H01L21/31604 , H01L39/2435 , H01L39/2438 , H01L41/318 , H01L2224/80874
Abstract: A method for manufacturing an organic light emitting device is provided to improve photonic efficiency by including a photonic crystal structure. A photonic crystal layer is formed on a substrate(10). An intermediate layer(60) having the high refractive index in comparison with the photonic crystal layer(50) is formed on the photonic crystal layer. A first electrode layer(20), a light-emitting layer(30), and a second electrode layer(40) are successively formed on the intermediate layer. The photonic crystal layer material is coated on the substrate. The photonic crystal is formed by imprinting the photonic crystal layer material with a mask having an reverse surface shape.
Abstract translation: 提供一种用于制造有机发光器件的方法，以通过包括光子晶体结构来提高光子效率。 在基板（10）上形成光子晶体层。 与光子晶体层（50）相比，具有高折射率的中间层（60）形成在光子晶体层上。 第一电极层（20），发光层（30）和第二电极层（40）依次形成在中间层上。 将光子晶体层材料涂覆在基板上。 通过用具有反面形状的掩模印刷光子晶体层材料来形成光子晶体。
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公开(公告)号：KR102098324B1
公开(公告)日：2020-04-08
申请号：KR1020180088491
申请日：2018-07-30
Applicant: 한국기계연구원
IPC: H01L31/0352 , H01L31/0224 , H01L31/0328 , G02B5/02
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