公开(公告)号：KR1019920004961B1

公开(公告)日：1992-06-22

申请号：KR1019880017987

申请日：1988-12-30

Applicant: 한국전자통신연구원 ,  주식회사 케이티

Inventor： 최영규 ,  양전욱 ,  이진희 ,  이재신 ,  심규환

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H05G2/003 ,  G03F7/70033

Abstract: The X-ray generation system for an ultra fine lithography includes a center electrode having an adjusting member, a peripheral electrode having gas flow holes and a metal disc having gas flow holes for generating the X-ray from a plasma. A large capacitor, a transparent cylinder, a discharge member, discharge and observing windows, a cylindrical insulator, exhaust holes, a metal container, large electric power spatial gap switches, a current returning wire are also provided. An exhaust pump, and gas feeding members continuously operate increasing stability, controlling, and discharging the quentity.

Abstract translation: 用于超细光刻的X射线产生系统包括具有调节构件的中心电极，具有气体流通孔的外围电极和具有用于从等离子体产生X射线的气体流通孔的金属盘。 还提供了大电容器，透明圆筒，放电构件，放电观察窗，圆柱形绝缘体，排气孔，金属容器，大电力空间间隙开关，回流电线。 排气泵和气体供给构件连续运行增加的稳定性，控制和排出量。

公开(公告)号：KR100046402B1

公开(公告)日：1991-11-26

申请号：KR1019880009547

申请日：1988-07-28

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이재신 ,  강진영

IPC: H01L21/31

公开(公告)号：KR1019900017139A

公开(公告)日：1990-11-15

申请号：KR1019890004487

申请日：1989-04-04

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 심규환 ,  양전욱 ,  이진희 ,  이재신 ,  최영규 ,  강진영

IPC: H01L21/304

Abstract: 내용 없음.

公开(公告)号：KR1019900005624A

公开(公告)日：1990-04-14

申请号：KR1019880011472

申请日：1988-09-05

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 심규환 ,  이재신 ,  박성호 ,  강진영

IPC: H01L29/76 ,  H01L29/78

Abstract: 내용 없음

公开(公告)号：KR1019960026914A

公开(公告)日：1996-07-22

申请号：KR1019940036026

申请日：1994-12-22

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이재신 ,  박철순

IPC: H01L29/06

Abstract: 본 발명은 반고체 MMIC의 고용량 커패시터를 제조하는 방법에 관한 것으로서, 한정된 면적에 고용량 커패시터를 제조하기 위하여 전극층과 유전체 박막층을 교대로 5층 이상 적층하여 커패시터를 형성한다. 반도체 기판위에 복수의 금속전극층과 복수의 유전체 박막층을 차례로 적층함으로써 커패시터가 반도체 칩상에서 차지하는 면적을 종래보다 늘이지 않고 정전용량을 거의 2배로 증가시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR100101717B1

公开(公告)日：1996-07-05

申请号：KR1019920014235

申请日：1992-08-07

Applicant: 한국전자통신연구원 ,  주식회사 케이티

Inventor： 성희경 ,  이재신 ,  김태홍 ,  최태구

IPC: B24B5/18

公开(公告)号：KR100083688B1

公开(公告)日：1995-04-03

申请号：KR1019920016692

申请日：1992-09-14

Applicant: 한국전자통신연구원 ,  주식회사 케이티

Inventor： 이재신 ,  김태홍 ,  성희경 ,  최태구

IPC: B23B41/00

公开(公告)号：KR100083321B1

公开(公告)日：1995-03-21

申请号：KR1019910024026

申请日：1991-12-23

Applicant: 한국전자통신연구원 ,  주식회사 케이티

Inventor： 김태홍 ,  성희경 ,  이재신 ,  최태구

IPC: H01G9/00

公开(公告)号：KR1019940003971B1

公开(公告)日：1994-05-09

申请号：KR1019910024035

申请日：1991-12-23

Applicant: 한국전자통신연구원 ,  주식회사 케이티

Inventor： 이재신 ,  김태홍 ,  성희경 ,  최태구

IPC: H01G9/00

Abstract: This relates to a BaTiO3 base high dielectric magnetic composition. Its dielectic constant is little dependant on temp. and it satisfies the Z5U standard of EIA. The composition comprises : A) 87-92 mol% of barium titanate; B) 8-13 mol% of calcium stannate; C) 0.05-3.0 wt.% of potassium silicate and D) 0.1-1.2 wt.% of oxides, relative to 100 % of (A)+(B). Dielectricity of this composition is 5000-9000.

Abstract translation: 这涉及一种BaTiO3基高介电磁性组合物。 其介电常数几乎不依赖于温度。 符合Z5U环境影响评估标准。 组合物包含：A）87-92mol％的钛酸钡; B）8-13摩尔％的锡酸钙; C）0.05-3.0重量％的硅酸钾和D）相对于（A）+（B）的100％，为0.1-1.2重量％的氧化物。 该组合物的电介质为5000-9000。

公开(公告)号：KR1019940006705A

公开(公告)日：1994-04-25

申请号：KR1019920016694

申请日：1992-09-14

Applicant: 한국전자통신연구원 ,  주식회사 케이티

Inventor： 이재신 ,  김태홍 ,  성희경 ,  최태구

IPC: B24B5/04

Abstract: 본 발명은 가공하기 어려운 소형 원통형 구조물의 외경을 정밀하게 가공하는 장치 및 방법에 관한 것으로, 회전 하는 연마원판(7)과, 상기 연마원판(7)상에 부착되는 연마지(9)와, 상기 연마지 상부에 설치되는 원형의 피가공물 고정틀(4)과, 상기 원형의 피가공물 고정틀(4)의 내.외측원틀 양쪽에 하나의 세산단 각각 한쪽씩 배치되는 다수의 세선 조임쇠(6)와 상기 피가공물 고정틀(4) 내의 다수의 피가공물(1)을 한꺼번에 위에서 덮어눌러주는 원형의 덮개판(10)을 구비하고 있는 원통형 구조물의 외경가공장치와, 이를 이용한 외경가공방법으로서 여러개의 피가공물(1)을 상기 세선(5)에 꿴후, 세선 조임쇠(6)를 이용해 상기 원형의 피가공물 고정틀(4)을 올려놓고, 원형의 덮개판(10)을 덮는 제2단계, 상기 거친 연마지가 부착된 연마원판(70을 일정시간 동안 회 시켜 조연마하는 제3단계, 상기 미세한 입자의 연마지가 부착된 연마원판(7)을 일정시간 동안 회전시켜 미세연마하는 제4단계, 및 연마천을 회전원판위에 덮고 미립자의 연마제 분말을 물과 혼합하여 분사하면서 일정시간 동안 마무리 연마하는 제5단계를 포함하여 이루어지는 원통형 구조물의 외경을 가공하는 방법을 제공한다.