公开(公告)号：KR1020140021754A

公开(公告)日：2014-02-20

申请号：KR1020120087421

申请日：2012-08-09

Applicant: 한국표준과학연구원

Inventor： 이혁교 ,  양호순 ,  김영식 ,  이윤우

IPC: G02B1/04 ,  G02B3/00 ,  G02B7/04 ,  H01S3/10 ,  B29D11/02

CPC classification number: G02B1/041 ,  B29D11/026 ,  G02B3/0012 ,  G02B7/04 ,  H01S3/10

Abstract: The present invention relates to a lens having a phase diffraction device coating layer, method and apparatus for manufacturing the lens having a phase diffraction device coating layer and more specifically, to an apparatus for manufacturing a phase diffraction hybrid lens using a photocurable resin comprising: a laser generation part which generates laser beam having a constant width; an exposure lens which penetrates the laser beam generated in the laser generation part; a lens which is coated with a photocurable resin which is installed the focus part of the exposure lens and is changed in a refractive index by the laser beam by being irradiated with the laser beam; and a driving part which moves the lens or exposure lens in a plane direction.

Abstract translation: 本发明涉及一种具有相位衍射装置涂层的透镜，具有相位衍射装置涂层的透镜的制造方法和装置，更具体地说，涉及一种使用光固化树脂制造相位衍射混合透镜的装置，包括： 产生具有恒定宽度的激光束的激光产生部件; 透射激光产生部产生的激光束的曝光透镜; 涂覆有光固化树脂的透镜，其安装曝光透镜的焦点部分，并且通过照射激光束被激光束改变为折射率; 以及在平面方向上移动透镜或曝光透镜的驱动部。

公开(公告)号：KR1020110052955A

公开(公告)日：2011-05-19

申请号：KR1020090109711

申请日：2009-11-13

Applicant: 한국표준과학연구원

Inventor： 이혁교 ,  양호순 ,  이재협 ,  전병혁 ,  이윤우

IPC: B24B13/00 ,  B24B49/04 ,  B24B9/14

CPC classification number: B24B13/00 ,  B24B47/10 ,  B24B49/04 ,  B24B49/12

Abstract: PURPOSE: A large optical lens grinding apparatus having a measurement tower is provided to precisely grind a work piece into a large optical lens by automatically controlling a turn table and a grinding tool based on measurement data. CONSTITUTION: A large optical lens grinding apparatus comprises a turn table(20), a tool transfer body, a tool transfer body rotating unit, a measurement tower(130), a CPU(Central Processing Unit), and a data input unit. The turn table, on which a work piece is fixed, is installed in a base frame(10). One end of the tool transfer body is coupled to a rotary shaft(14) of a first upper frame(11) while the other end is connected to a second upper frame, so that the tool transfer body is horizontally rotated around the rotary shaft. The tool transfer body rotating unit transfers the other end of the tool transfer body along a second upper frame and rotates the tool transfer body around the rotary shaft. The measurement tower comprises a measuring unit(131) which measures the ground state of the work piece. The CPU operates a turn table rotating unit(60), the tool transfer body rotating unit, and a tool transfer unit(90) based on input data. The data input unit inputs data about the operations of the turn table rotating unit, the tool transfer body rotating unit, and the tool transfer unit to the CPU.

Abstract translation: 目的：提供一种具有测量塔的大型光学透镜研磨设备，通过基于测量数据自动控制转台和磨削工具，将工件精确研磨成大型光学透镜。 构成：大型光学透镜研磨装置包括转台（20），工具传送体，工具传送体旋转单元，测量塔（130），CPU（中央处理单元）和数据输入单元。 固定有工件的转台安装在基架（10）中。 工具传送体的一端与第一上部框架（11）的旋转轴（14）连接，而另一端连接到第二上部框架，使得工具传送体围绕旋转轴水平旋转。 工具传送体旋转单元沿着第二上框架传送工具传送体的另一端，并使工具传送体围绕旋转轴旋转。 测量塔包括测量工件的基态的测量单元（131）。 CPU基于输入数据来操作转台旋转单元（60），工具传送体旋转单元和工具传送单元（90）。 数据输入单元将关于转台旋转单元，工具传送体旋转单元和工具传送单元的操作的数据输入到CPU。

公开(公告)号：KR1020110052828A

公开(公告)日：2011-05-19

申请号：KR1020090109511

申请日：2009-11-13

Applicant: 한국표준과학연구원

Inventor： 이현수 ,  양호순 ,  이윤우

IPC: B24B13/00 ,  B24D99/00

CPC classification number: B24B13/00 ,  B24B41/002

Abstract: PURPOSE: An active polishing tool is provided to reduce machining time and prevent uneven contact on a contact surface because a central shaft is allowed to rotate. CONSTITUTION: An active polishing tool(1) comprises a central shaft(10) which is moved to a machining position, a sliding member(20) which is moved up and down along the central shaft, a base plate(30) which is formed on an end of the central shaft, a polishing pad which is formed on the base plate, and a tension band(40) which connects the sliding member and the base plate and controls the surface shape of the base plate by interlocking with the up and down motion of the sliding member.

Abstract translation: 目的：提供一种主动抛光工具，以减少加工时间，并防止接触表面上的不均匀接触，因为允许中心轴旋转。 构成：活性抛光工具（1）包括移动到加工位置的中心轴（10），沿着中心轴上下移动的滑动构件（20），形成的基板（30） 在中心轴的一端上形成有形成在基板上的抛光垫，以及张紧带（40），其连接滑动构件和基板，并且通过与上部和下部的联动来控制基板的表面形状 滑动构件的向下运动。

公开(公告)号：KR1020070082290A

公开(公告)日：2007-08-21

申请号：KR1020060014931

申请日：2006-02-16

Applicant: 한국표준과학연구원

Inventor： 한상윤 ,  양호순 ,  문대원

IPC: G01N27/62 ,  G01N27/64

CPC classification number: H01J49/16 ,  H01J49/40

Abstract: An apparatus for a high spatial resolution laser desorption ionization mass analysis is provided to easily using the sample without any particular processing progress by mass analyzing the sample being ionized in atmospheric pressure status. An apparatus for a high spatial resolution laser desorption ionization mass analysis includes a body(20), a reflecting unit(30), a sub mirror(40), a main mirror(50), and a capillary(60). The body is installed on the ion introducing unit of the mass spectrometer. The reflecting unit is installed on the inside or the front or the rear, and reflects the laser beam to the front. The sub mirror is installed in front of the reflecting unit, and diffuses the laser beam which is reflected by the reflecting unit to the body. The main mirror is on the front-end unit, and ionizes the sample by concentrating the laser beam which is diffused by the sub mirror, to the outside of the front. The capillary has an edge of one side which is separated from the concentrated focus of the laser beam by the main mirror to the rear side, and passes through the sub mirror, the main mirror and the reflecting unit, and the edge of the other side is installed to the mass spectrometer, and introduces the ion which is generated by concentrating the main mirror, to the mass spectrometer, and its inside is hollow.

Abstract translation: 提供了用于高空间分辨率激光解吸电离质量分析的装置，通过质量分析在大气压状态下电离的样品，容易地使用样品而没有任何特定的处理进程。 用于高空间分辨率激光解吸电离质量分析的装置包括主体（20），反射单元（30），副反射镜（40），主反射镜（50）和毛细管（60）。 身体安装在质谱仪的离子导入单元上。 反射单元安装在内部或前面或后面，并将激光束反射到前面。 子反射镜安装在反射单元的前面，并将由反射单元反射的激光束漫射到主体。 主镜在前端单元上，并将通过副镜漫射的激光束聚焦到前面的外部，使样品离子化。 毛细管具有一侧的边缘，其通过主反射镜与后侧从激光束的集中焦点分离，并且通过副反射镜，主反射镜和反射单元以及另一侧的边缘 安装在质谱仪上，并将通过将主反射镜聚焦而产生的离子引入质谱仪，其内部是空心的。

公开(公告)号：KR101829684B1

公开(公告)日：2018-02-20

申请号：KR1020160147740

申请日：2016-11-07

Applicant: 한국표준과학연구원

Inventor： 안교훈 ,  김학용 ,  양호순 ,  이혁교 ,  이회윤 ,  전병혁

IPC: H01S3/034 ,  G02B5/08 ,  H01S3/123

CPC classification number: G02B5/08 ,  H01S3/034 ,  H01S3/123

Abstract: 본발명은변형거울보상장치에관한것이다. 본발명의변형거울보상장치는서로대향된제1 면과제2 면을갖는고정판; 상기제1 면상에이격배치되는변형거울; 상기변형거울과상기고정판를연결하고, 서로이격된복수의구동소자들; 상기고정판과연결되어, 상기고정판을변형시키는고정판 변형부를포함하고, 상기고정판 변형부는: 상기제2 면에연결되고, 서로이격된복수의지지부재들; 및상기지지부재들중 서로인접한제1 및제2 지지부재들을연결하는적어도하나의길이조절유닛을포함하고, 상기고정판 변형부는, 서로인접한상기지지부재들중 적어도어느하나를밀거나당기길수 있다.

公开(公告)号：KR101812642B1

公开(公告)日：2017-12-28

申请号：KR1020170010020

申请日：2017-01-20

Applicant: 한국표준과학연구원

Inventor： 강혜은 ,  김학용 ,  양호순 ,  송재봉

IPC: G01N21/55 ,  G01N21/45

Abstract: 본발명은반사경측정시스템및 이를이용한반사경측정방법에관한것이다. 반사경측정시스템은광을제1 방향을향해조사하는간섭계; 상기간섭계로부터상기제1 방향으로이격된반사경; 상기반사경과상기간섭계사이에위치되고, 상기반사경의정점영역에상기간섭계에서조사된광의초점영역을형성하는홀로그램부재; 상기홀로그램부재로부터상기제1 방향으로이격된광 섬유; 상기광의초점영역상에상기광 섬유의일단을위치시키는광 섬유이동유닛; 및상기광 섬유의일단의위치를측정하는위치측정유닛을포함한다.

Abstract translation: 反射体测量系统和使用其的反射体测量方法技术领域本发明涉及一种反射体测量系统和使用该反射体测量系统的反射体测量方法。 反射镜测量系统包括用于朝向第一方向照射光的干涉仪; 在第一方向上与干涉仪隔开的反射器; 全息元件，其位于所述反射器与所述干涉仪之间，所述全息元件在所述反射器的顶点区域处形成由所述干涉仪所辐射的光的聚焦区域; 在第一方向上与全息元件间隔开的光纤; 光纤移动单元，用于将光纤的一端定位在光的聚焦区域上; 还有一个位置测量单元，用于测量光纤一端的位置。

公开(公告)号：KR101755158B1

公开(公告)日：2017-07-07

申请号：KR1020160069284

申请日：2016-06-03

Applicant: 한국표준과학연구원

Inventor： 이혁교 ,  김영광 ,  김영식 ,  양호순 ,  이윤우

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/80

CPC classification number: G03F1/80 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2053 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70625

Abstract: 본발명은듀얼라인생성이가능한레이저노광법, 노광장치, 그레이저노광법을이용한듀얼라인을갖는미세패턴제조방법및 제조장치에대한것이다. 보다상세하게는레이저노광법에있어서, 특정폭과, 특정광량을갖는레이저빔이기판상에코팅된감광막으로조사되는단계; 상기레이저빔이조사된부분의감광막이제거되는단계; 제거된감광막의주변양단부에상부로돌출된돌출단이형성되는단계; 양측의상기돌출단상부면각각에산화막이생성되는단계; 및상기감광막을에칭하여듀얼라인이생성되는단계를포함하는것을특징으로하는듀얼라인생성이가능한레이저노광법에관한것이다.

Abstract translation: 本发明涉及能够产生双线的激光曝光方法，曝光装置，使用该激光曝光方法的具有双线的精细图案的制造方法以及制造装置。 更具体地说，本发明涉及一种激光束曝光方法，包括：用具有特定宽度和特定光量的激光束照射涂覆在板上的光敏膜; 去除激光束照射部分的光刻胶层; 形成从去除的光刻胶周边的两个周边部分向上突出的突出端; 在两侧的每个突出的单侧面上形成氧化膜; 并且通过蚀刻光刻胶层形成双线。本发明涉及一种能够产生双线的激光曝光方法。

公开(公告)号：KR101748084B1

公开(公告)日：2017-06-19

申请号：KR1020160067652

申请日：2016-05-31

Applicant: 한국표준과학연구원

Inventor： 김영식 ,  김기철 ,  이혁교 ,  양호순 ,  이윤우

IPC: G06F17/50 ,  B24B7/24 ,  B24B49/00

CPC classification number: G06F17/5009 ,  B24B7/24 ,  B24B49/00

Abstract: 본발명은광학계가공에서, 다양한형상에대한툴 영향함수모델링방법, 그모델링방법을적용한광학계가공장치, 가공방법및 그기록매체에대한것이다. 보다상세하게는광학계를가공할연마툴의단면형성을결정하는단계; 광학계가공에있어서, 상기연마툴이회전될공전반경과공전속도및 자전반경과자전속도를결정하는단계; 상기연마툴의단면형상내를다수의미소영역으로분할하고, 상기연마툴이공전되면서시간순서에따른복수의연마영역을지정하는단계; 상기미소영역각각에대한압력값을입력하고, 각각의미소영역에서의선속도를연산하는단계; 및상기압력값과, 상기선속도를기반으로연마량에대한툴 영향함수를모델링하는단계;를포함하는것을특징으로하는광학계가공에서의툴 영향함수모델링방법에관한것이다.

Abstract translation: 本发明涉及在过程中的光学系统，该工具影响函数建模方法，根据该建模方法，该处理方法和记录介质，用于各种形状的光学处理设备。 更具体地说，本发明涉及一种制造光学系统的方法， 确定所述抛光工具旋转的轨道半径，怠速，旋转半径和旋转速度; 作为抛光工具的步骤是在多个所述微小区域的磨削工具的分割时间的截面形状内，并分配多个研磨区的按照时间顺序; 输入每个微小区域的压力值，并计算每个微小区域中的线性速度; 并根据压力值和线速度对抛光量进行工具影响函数建模。

公开(公告)号：KR1020150126119A

公开(公告)日：2015-11-11

申请号：KR1020140053189

申请日：2014-05-02

Applicant: 한국표준과학연구원

Inventor： 김윤종 ,  양호순 ,  이윤우

IPC: G02B27/62 ,  G02B26/08

CPC classification number: G02B27/62 ,  G02B27/08 ,  G06F17/00

Abstract: 본발명은광학계정렬방법및 광학계정렬장치를제공한다. 이광학계정렬방법은정렬광학계의민감도행렬을계산하는단계; 상기정렬광학계의보상자(compensator)를선정하는단계; 상기정렬광학계에서제르니케계수로표시된측정파면오차를간섭계를통하여측정하는단계; 상기민감도행렬과상기보상자의변동의곱(product)에상기측정파면오차를더하여예측파면오차를생성하는단계; 상기예측파면오차중에서상기간섭계의기울기와초점이동에관련한소정의제르니케계수를제외한고차예측파면오차를이용하여예측제곱평균제곱근파면오차(prediction root mean square wavefront error;prediction rms WEE)를시야(field)별로설정하는단계; 상기예측제곱평균제곱근파면오차를비축(off-axis)에서일정한설정값을가지도록초기설정제곱평균제곱근파면오차로설정하는단계; 및상기초기설정제곱평균제곱근파면오차를만족하는최적화된보상자의변동을산출하는단계;를포함한다. 상기보상자의변동은초기위치와예측위치의차이로주어진다.

Abstract translation: 本发明提供了一种用于对准光学系统和对准装置的方法。 用于对准光学系统的方法包括以下步骤：计算光学对准器系统的灵敏度矩阵; 选择光学校准器系统的补偿器; 通过使用干涉仪来测量在光学对准器系统中用Zernike系数表示的测量波前误差; 通过将测量波前误差添加到灵敏度矩阵的乘积和补偿器的变化来产生预测波前误差; 通过使用相对于预测波前误差中的干涉仪的斜率和聚焦移动的预定的泽尼克系数，通过使用高阶预测波阵面误差来设定基于场的预测均方根波前误差（预测均方根WEE） 将预测有效值WEE设置为初始设置均方根波前误差以使轴具有恒定的预定值; 并计算满足初始设置均方根波前误差的补偿器的优化变化。 补偿器的变化通过初始位置和预测位置之间的差来计算。

公开(公告)号：KR101554205B1

公开(公告)日：2015-09-18

申请号：KR1020140049111

申请日：2014-04-24

Applicant: 한국표준과학연구원

Inventor： 김영식 ,  이혁교 ,  이주형 ,  양호순 ,  이윤우

IPC: G01B11/24 ,  G01B9/02

CPC classification number: G01B11/24 ,  G01B9/02 ,  G01B11/00

Abstract: 본 발명은 3차원 프로파일 측정 방법 및 3차원 프로파일 측정 장치를 제공한다. 이 3차원 프로파일 측정 방법은 측정 대상이 제공하는 측정파를 분할하여 형성된 기준파와 상기 기준파와 소정의 층밀림(lateral shear)을 가지는 층밀림파(lateral shear wave)의 간섭신호를 파장에 따라 생성하는 단계; 및 파장에 따른 상기 간섭 신호를 위치별로 처리하여 상기 기준파와 상기 층밀림파의 광경로 차이(optical path difference)를 산출하는 단계;를 포함한다.

Abstract translation: 本发明提供了一种用于测量3D轮廓的装置及其方法。 用于测量3D轮廓的方法包括以下步骤：产生具有来自参考波的预定横向剪切的横向剪切波的参考波和干涉信号，其中参考波通过将测量对象 提供; 并通过处理由于根据位置的波而引起的干扰信号来测量横向剪切波和参考波之间的光程差。