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公开(公告)号：WO2021020603A1
公开(公告)日：2021-02-04
申请号：PCT/KR2019/009392
申请日：2019-07-29
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본 발명은 복합 패턴을 이용한 초고속 편향 측정법을 이용한 형상측정시스템 및 측정방법에 대한 것이다. 보다 상세하게는 형상측정시스템에 있어서, 서로 주파수가 다른 패턴을 합성한 복합패턴을 측정대상물에 투영하는 복합패턴발생부; 상기 측정대상물로부터 반사되는 변형된 복합패턴의 영상을 획득하는 디텍터; 및 상기 복합패턴으로부터 각 주파수별 접힌(wrapped) 위상을 획득하고, 각 접힌 위상으로부터 펼친(unwrapped) 위상을 획득하는 위상획득부; 및 획득된 상기 위상으로부터 상기 측정대상물의 3D 형상을 측정, 분석하는 분석수단;을 포함하는 것을 특징으로 하는 복합 패턴을 이용한 초고속 편향 측정법을 이용한 형상측정시스템에 관한 것이다.
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公开(公告)号：WO2009113765A1
公开(公告)日：2009-09-17
申请号：PCT/KR2009/000312
申请日：2009-01-21
IPC: G01B11/03
CPC classification number: G01B11/03 , G01B5/008 , G01B21/045
Abstract: 본 발명은 피대상물에 대한 기계적 오차를 실시간으로 보정하면서 피대상물의 표면 좌표를 정밀하게 측정할 수 있는 구조의 기준판을 이용한 좌표 측정기에 관한 것으로, 상기 피대상물의 상부에 구비되고, 좌/우로 이동될 수 있도록 X축스테이지 축상에 결합된 측정부 및 상기 측정부의 상부에 고정되는 기준판를 포함하여 이루어지되, 상기 측정부는 측정부와 기준판 사이의 거리와, 측정부와 피대상물과의 사이 거리를 실시간으로 측정하여 X축스테이지의 기계적 오차를 보정하여 정밀측정하는 것이다.
Abstract translation: 本发明涉及一种使用参考面板的坐标测量机，其能够实时地校正物体的机械误差并精确地测量物体的表面坐标。 坐标测量机包括：测量单元，布置在物体上并固定在X轴平台的轴线上，使得测量单元可沿水平方向移动;以及参考面板固定在测量单元上。 测量单元通过实时测量测量单元和参考面板之间的距离以及测量单元与物体之间的距离进行精确测量，并校正X轴平台中的机械误差。
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公开(公告)号：WO2021033860A1
公开(公告)日：2021-02-25
申请号：PCT/KR2020/002816
申请日：2020-02-27
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본 발명의 실시예에 따르면, 단 한번의 측정으로도 다양한 편광 상태에 따라 넓은 분광 범위와 넓은 입사각에서 측정대상물의 절대 반사율 및 위상 데이터를 동시에 얻을 수 있는 단일 샷 각도분해 분광 반사광 측정법을 이용한 다층박막 두께 측정장치 및 측정방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
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公开(公告)号：WO2019031667A1
公开(公告)日：2019-02-14
申请号：PCT/KR2018/001183
申请日：2018-01-26
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: G01B9/02044 , G01B11/0616 , G01J3/02 , G02B27/14 , G02B27/28 , G06T7/60
Abstract: 본 발명은 빛의 편광에 따른 각도분해 분광 반사율을 측정하여 다층 박막의 두께 및 굴절률 측정장치 및 측정방법에 대한 것이다. 본 발명의 일실시예에 따르면, 각도분해 분광영상획득부를 통해 대물렌즈의 후초점면(back focal plane)에 위치한 반사광의 s-편광영상과 p-편광영상을 통해 다층 박막을 갖는 구조물의 각층의 두께 및 굴절률을 측정, 분석할 수 있는 각도분해 분광 반사광측정법을 이용한 다층막 구조물 두께 및 굴절률 측정장치 및 측정방법을 제공하는 데 그 목적이 있다.
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公开(公告)号：WO2018084377A1
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：PCT/KR2017/000326
申请日：2017-01-10
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본 발명은 변형 거울 보상 장치에 관한 것이다. 본 발명의 변형 거울 보상 장치는 서로 대향된 제1 면과 제2 면을 갖는 고정 판; 상기 제1 면 상에 이격 배치되는 변형 거울; 상기 변형 거울과 상기 고정 판를 연결하고, 서로 이격된 복수의 구동 소자들; 상기 고정 판과 연결되어, 상기 고정 판을 변형시키는 고정 판 변형부를 포함하고, 상기 고정 판 변형부는: 상기 제2 면에 연결되고, 서로 이격된 복수의 지지 부재들; 및 상기 지지 부재들 중 서로 인접한 제1 및 제2 지지 부재들을 연결하는 적어도 하나의 길이 조절 유닛을 포함하고, 상기 고정 판 변형부는, 서로 인접한 상기 지지 부재들 중 적어도 어느 하나를 밀거나 당기길 수 있다.
Abstract translation: 本发明涉及一种变形的镜像补偿器。 本发明的变形镜补偿装置包括：固定板，具有彼此相对的第一表面和第二表面; 与第一表面间隔开的变形镜; 多个驱动元件，连接变形镜和固定板并彼此间隔开; 固定板和连接到所述固定板包括应变，并且固定板变换单元变换所述固定板：在耦合到所述第二表面，多个支撑构件彼此间隔开; 和至少一个长度，其包括调整单元，并且所述固定板变形部分，所述相邻的支撑构件彼此的至少一方的道路推的数目或拉连接第一和第二支承构件是彼此相邻的所述支撑部件的
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101829684B1
公开(公告)日：2018-02-20
申请号：KR1020160147740
申请日：2016-11-07
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본발명은변형거울보상장치에관한것이다. 본발명의변형거울보상장치는서로대향된제1 면과제2 면을갖는고정판; 상기제1 면상에이격배치되는변형거울; 상기변형거울과상기고정판를연결하고, 서로이격된복수의구동소자들; 상기고정판과연결되어, 상기고정판을변형시키는고정판 변형부를포함하고, 상기고정판 변형부는: 상기제2 면에연결되고, 서로이격된복수의지지부재들; 및상기지지부재들중 서로인접한제1 및제2 지지부재들을연결하는적어도하나의길이조절유닛을포함하고, 상기고정판 변형부는, 서로인접한상기지지부재들중 적어도어느하나를밀거나당기길수 있다.
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17.发明授权듀얼라인 생성이 가능한 레이저 노광법, 노광장치, 그 레이저 노광법을 이용한 듀얼 라인을 갖는 미세패턴 제조방법 및 제조장치 有权一种能够产生双线的激光曝光方法和曝光装置，使用激光曝光方法制造具有双线的精细图案的方法和装置
公开(公告)号：KR101755158B1
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：KR1020160069284
申请日：2016-06-03
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: G03F1/80 , G03F7/20 , G03F7/2053 , G03F7/70025 , G03F7/70275 , G03F7/70625
Abstract: 본발명은듀얼라인생성이가능한레이저노광법, 노광장치, 그레이저노광법을이용한듀얼라인을갖는미세패턴제조방법및 제조장치에대한것이다. 보다상세하게는레이저노광법에있어서, 특정폭과, 특정광량을갖는레이저빔이기판상에코팅된감광막으로조사되는단계; 상기레이저빔이조사된부분의감광막이제거되는단계; 제거된감광막의주변양단부에상부로돌출된돌출단이형성되는단계; 양측의상기돌출단상부면각각에산화막이생성되는단계; 및상기감광막을에칭하여듀얼라인이생성되는단계를포함하는것을특징으로하는듀얼라인생성이가능한레이저노광법에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及能够产生双线的激光曝光方法，曝光装置，使用该激光曝光方法的具有双线的精细图案的制造方法以及制造装置。 更具体地说，本发明涉及一种激光束曝光方法，包括：用具有特定宽度和特定光量的激光束照射涂覆在板上的光敏膜; 去除激光束照射部分的光刻胶层; 形成从去除的光刻胶周边的两个周边部分向上突出的突出端; 在两侧的每个突出的单侧面上形成氧化膜; 并且通过蚀刻光刻胶层形成双线。本发明涉及一种能够产生双线的激光曝光方法。
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18.发明授权광학계 가공에서의 툴 영향함수 모델링 방법, 그 모델링 방법을 적용한 광학계 가공장치, 가공방법 및 그 기록매체 有权光学处理的工具影响函数建模方法，根据建模方法，该处理方法的光学处理装置和记录介质
公开(公告)号：KR101748084B1
公开(公告)日：2017-06-19
申请号：KR1020160067652
申请日：2016-05-31
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: G06F17/5009 , B24B7/24 , B24B49/00
Abstract: 본발명은광학계가공에서, 다양한형상에대한툴 영향함수모델링방법, 그모델링방법을적용한광학계가공장치, 가공방법및 그기록매체에대한것이다. 보다상세하게는광학계를가공할연마툴의단면형성을결정하는단계; 광학계가공에있어서, 상기연마툴이회전될공전반경과공전속도및 자전반경과자전속도를결정하는단계; 상기연마툴의단면형상내를다수의미소영역으로분할하고, 상기연마툴이공전되면서시간순서에따른복수의연마영역을지정하는단계; 상기미소영역각각에대한압력값을입력하고, 각각의미소영역에서의선속도를연산하는단계; 및상기압력값과, 상기선속도를기반으로연마량에대한툴 영향함수를모델링하는단계;를포함하는것을특징으로하는광학계가공에서의툴 영향함수모델링방법에관한것이다.
Abstract translation: 本发明涉及在过程中的光学系统，该工具影响函数建模方法，根据该建模方法，该处理方法和记录介质，用于各种形状的光学处理设备。 更具体地说，本发明涉及一种制造光学系统的方法， 确定所述抛光工具旋转的轨道半径，怠速，旋转半径和旋转速度; 作为抛光工具的步骤是在多个所述微小区域的磨削工具的分割时间的截面形状内，并分配多个研磨区的按照时间顺序; 输入每个微小区域的压力值，并计算每个微小区域中的线性速度; 并根据压力值和线速度对抛光量进行工具影响函数建模。
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公开(公告)号：KR101554205B1
公开(公告)日：2015-09-18
申请号：KR1020140049111
申请日：2014-04-24
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본 발명은 3차원 프로파일 측정 방법 및 3차원 프로파일 측정 장치를 제공한다. 이 3차원 프로파일 측정 방법은 측정 대상이 제공하는 측정파를 분할하여 형성된 기준파와 상기 기준파와 소정의 층밀림(lateral shear)을 가지는 층밀림파(lateral shear wave)의 간섭신호를 파장에 따라 생성하는 단계; 및 파장에 따른 상기 간섭 신호를 위치별로 처리하여 상기 기준파와 상기 층밀림파의 광경로 차이(optical path difference)를 산출하는 단계;를 포함한다.
Abstract translation: 本发明提供了一种用于测量3D轮廓的装置及其方法。 用于测量3D轮廓的方法包括以下步骤：产生具有来自参考波的预定横向剪切的横向剪切波的参考波和干涉信号，其中参考波通过将测量对象 提供; 并通过处理由于根据位置的波而引起的干扰信号来测量横向剪切波和参考波之间的光程差。
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公开(公告)号：KR1020150061158A
公开(公告)日：2015-06-04
申请号：KR1020130144618
申请日：2013-11-26
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: G01J9/0215 , G01J2009/002 , G01B9/02 , G06F17/13
Abstract: 본발명의실시예에따른대상의파면을측정하는측정기의동작방법은대상의파면을기반으로측정파면을측정하는단계; 측정파면을기반으로기준방향및 제 1 내지제 3 방향들각각에대응하는기준기울기정보및 제 1 내지제 3 기울기정보를측정하는단계; 측정된기준기울기정보및 제 1 내지제 3 기울기정보를기반으로제 1 내지제 3 회전각들을획득하는단계; 및획득된제 1 내지제 3 회전각들을기반으로회전오차에의해발생한오류가보정된파면을출력하는단계를포함하고, 제 1 내지제 3 회전각들은각각기준방향및 제 1 방향의각도차이, 각각기준방향및 제 2 방향의각도차이, 및각각기준방향및 제 3 방향의각도차이이다.
Abstract translation: 根据本发明的实施例，用于测量目标的波前的测量装置的操作方法包括以下步骤：基于目标的波前测量测量波阵面; 基于测量波阵面测量参考斜率信息和分别对应于参考方向的第一至第三参考斜率信息和第一至第三方向; 基于所测量的参考斜率信息和第一至第三参考斜率信息获取第一至第三旋转角度; 并输出波前，其中基于所获取的第一和第三旋转角度校正由旋转误差引起的误差。 参考方向和第一方向之间的角度差，参考方向和第二方向之间的角度差以及基准方向和第三方向之间的角度差分别被分配给第一至第三旋转角度。
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