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公开(公告)号：KR1020090030384A
公开(公告)日：2009-03-25
申请号：KR1020070095639
申请日：2007-09-20
Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단 , 중앙대학교 산학협력단
IPC: C07C47/54 , C07C49/213
Abstract: A method of preparing benzaldehyde group or benzyl ketone is provided to oxidize benzylalcohols to benzaldehyde group or benzyl ketone, and to suppress the generation of by-products. A method of preparing benzaldehyde group or benzyl ketone by the oxidation reaction of benzylalcohols or benzyl ketone, comprises a step for obtaining benzaldehyde group or benzyl ketone by the oxidation reaction of benzylalcohols of the chemical formula 1 by using ionic liquid which is ionic salt existing as the liquid state at a temperature of 300°C or less. In the chemical formula 1, R1 is selected from the group consisting of H, alkyl, benzyl, aryl and CN; and R2 is selected from the group consisting of H, alkyl, halogen, benzyl, aryl, cyclic ether, ester and methoxy.
Abstract translation: 提供制备苯甲醛基或苄基酮的方法，将苄醇氧化成苯甲醛基或苄基酮，并抑制副产物的产生。 通过苄醇或苄基酮的氧化反应制备苯甲醛基或苄基酮的方法包括通过使用作为离子盐存在的离子液体的化学式1的苄醇的氧化反应获得苯甲醛基或苄基酮的步骤 在300℃以下的温度下的液体状态。 在化学式1中，R 1选自H，烷基，苄基，芳基和CN; 并且R 2选自H，烷基，卤素，苄基，芳基，环醚，酯和甲氧基。
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公开(公告)号：KR100703007B1
公开(公告)日：2007-04-06
申请号：KR1020050110044
申请日：2005-11-17
Applicant: 삼성전자주식회사 , 재단법인서울대학교산학협력재단
IPC: G03F7/027
Abstract: 감광성 유기 반사 방지막 형성용 조성물 및 이를 이용한 패턴 형성방법에서, 폴리머막 형성용 조성물은 에폭시기와 산 발생제(PGA)에 의해 분해가 일어나는 산 분해형 열 가교제 0.5 내지 5중량%와 안트라센을 함유하는 아크릴레이트 단량체 또는 안트라센을 함유하는 메타 아크릴레이트 단량체를 포함하는 공중합체 수지 10 내지 22중량%와 광산 발생제 0.1 내지 1중량% 및 여분의 용매를 포함하는 조성을 갖는다. 상기 폴리머막을 식각하여 폴리머막 패턴을 형성한다. 상기한 조성물은 포토레지스트 패턴을 형성하기 위한 현상공정을 수행할 때 함께 현상되는 감광성 유기 반사 방지막을 형성할 수 있다.
Abstract translation: 在组合物中的光敏有机防反射膜，并使用相同的用于形成聚合物层的形成，它包含0.5％至5％的酸可分解的热交联剂（重量）蒽的发生通过与环氧基如权利要求所产生的酸分解的丙烯酸类的组合物的图案形成方法（PGA） 它具有包括单体或甲基丙烯酸酯单体的共聚物树脂10〜22％（重量），0.1至1％（重量）的光酸产生剂和包含含有蒽多余的溶剂的组合物。 聚合物膜被蚀刻以形成聚合物膜图案。 上述组合物可形成光敏有机防反射膜，当进行形成光致抗蚀剂图案的显影工艺时，光敏有机防反射膜与光致抗蚀剂图案一起显影。
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公开(公告)号：KR1020060038858A
公开(公告)日：2006-05-04
申请号：KR1020040088030
申请日：2004-11-01
Applicant: 주식회사 동진쎄미켐 , 재단법인서울대학교산학협력재단
IPC: G03F7/027
Abstract: 고집적 반도체 소자의 미세회로패턴 형성 공정에 사용되며, 원자외선 영역의 광원을 이용한 리소그래피 공정에 적합한 에틸렌 옥사이드 단량체 및 이를 포함하는 포토레지스트용 중합체가 개시된다. 상기 포토레지스트용 중합체의 바람직한 예는 하기 화학식으로 표시된다.
상기 화학식에서, POSS는 치환되거나 치환되지 않은 폴리헤드럴올리고실세스퀴옥세인기이고, R
1 은 수소 또는 말단에 하이드록시 작용기를 가지는 탄소수 1 내지 8의 알킬기이고, R
2 는 터셔리부틸, 터셔리부톡시카보닐, 또는 트리메틸실릴이며, a, b, c 및 d는 상기 중합체의 전체 반복단위에 대한, 각 반복단위의 몰%로서, 각각 독립적으로 0.1 내지 99.7몰%이다.
에틸렌 옥사이드, 포토레지스트, 단량체, 원자외선, 노광.-
公开(公告)号：KR1020090030371A
公开(公告)日：2009-03-25
申请号：KR1020070095620
申请日：2007-09-20
Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단 , 중앙대학교 산학협력단
IPC: C07C67/36
Abstract: A method for preparing formate esters is provided to obtain various formate esters at a fast reaction speed in the mild condition by using microwaves without side reactions. A method for preparing formate esters comprises a step for obtaining formate esters by the following formula (1) of an alcohol, formate and p-toluenesulfonic acid monohydrate under microwave irradiation. The microwave irradiation is carried out in 700-900 W. The formate is selected from the group consisting of sodium formate, lithium formate, potassium formate and cesium formate.
Abstract translation: 提供一种制备甲酸酯的方法，通过使用无副反应的微波，在温和条件下以快速反应速度获得各种甲酸酯。 制备甲酸酯的方法包括在微波照射下通过下列式（1）的醇，甲酸和对甲苯磺酸一水合物获得甲酸酯的步骤。 微波照射在700-900W下进行。甲酸盐选自甲酸钠，甲酸锂，甲酸钾和甲酸铯。
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公开(公告)号：KR1020090011979A
公开(公告)日：2009-02-02
申请号：KR1020070076079
申请日：2007-07-27
Applicant: 주식회사 엘지화학 , 재단법인서울대학교산학협력재단
Abstract: A polybenzimidazole copolymer is provided to increase the solubility to an organic solvent by reducing the crystalline and to ensure high hydrogen ion conductivity while maintaining thermal stability. A polybenzimidazole copolymer has a structure indicated as the chemical formula 1, In the chemical formula 1, Ar and Ar' are independently arylene group; n and m are independently 1-10,000; and the rate of n and m is 9~1:1~9.
Abstract translation: 提供聚苯并咪唑共聚物以通过降低晶体来提高对有机溶剂的溶解度，并确保高的氢离子传导性，同时保持热稳定性。 聚苯并咪唑共聚物具有化学式1所示的结构。在化学式1中，Ar和Ar'分别是亚芳基; n和m独立地为1-10,000; n和m的比率为9〜1：1〜9。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101139143B1
公开(公告)日：2012-04-26
申请号：KR1020070095620
申请日：2007-09-20
Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단 , 중앙대학교 산학협력단
IPC: C07C67/36
Abstract: A method for preparing formate esters is provided to obtain various formate esters at a fast reaction speed in the mild condition by using microwaves without side reactions. A method for preparing formate esters comprises a step for obtaining formate esters by the following formula (1) of an alcohol, formate and p-toluenesulfonic acid monohydrate under microwave irradiation. The microwave irradiation is carried out in 700-900 W. The formate is selected from the group consisting of sodium formate, lithium formate, potassium formate and cesium formate.
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公开(公告)号：KR101113141B1
公开(公告)日：2012-02-15
申请号：KR1020040088030
申请日：2004-11-01
Applicant: 주식회사 동진쎄미켐 , 재단법인서울대학교산학협력재단
IPC: G03F7/027
Abstract: 고집적 반도체 소자의 미세회로패턴 형성 공정에 사용되며, 원자외선 영역의 광원을 이용한 리소그래피 공정에 적합한 에틸렌 옥사이드 단량체 및 이를 포함하는 포토레지스트용 중합체가 개시된다. 상기 포토레지스트용 중합체의 바람직한 예는 하기 화학식으로 표시된다.
상기 화학식에서, POSS는 치환되거나 치환되지 않은 폴리헤드럴올리고실세스퀴옥세인기이고, R
1 은 수소 또는 말단에 하이드록시 작용기를 가지는 탄소수 1 내지 8의 알킬기이고, R
2 는 터셔리부틸, 터셔리부톡시카보닐, 또는 트리메틸실릴이며, a, b, c 및 d는 상기 중합체의 전체 반복단위에 대한, 각 반복단위의 몰%로서, 각각 독립적으로 0.1 내지 99.7몰%이다.
에틸렌 옥사이드, 포토레지스트, 단량체, 원자외선, 노광.-
公开(公告)号：KR100960287B1
公开(公告)日：2010-06-07
申请号：KR1020070137500
申请日：2007-12-26
Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단
Abstract: 본 발명은 금 마이크로 입자의 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따르면 금 전구체와 폴리옥시에틸렌계 고분자의 혼합물에 할로겐 이온을 첨가한 후 광화학적 방법으로 금 전구체를 환원시킴으로써 마이크로 크기의 금 입자를 균일하게 제조할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020090069731A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：KR1020070137500
申请日：2007-12-26
Applicant: 재단법인서울대학교산학협력재단
Abstract: A method for photochemically preparing gold microparticles using halide ions is provided to manufacture gold microparticles uniformly through simple processes by using a photochemical method. A method for photochemically preparing gold microparticles using halide ions comprises: a step of mixing gold precursor and polyoxyethylene series polymer with the organic solvent; a step of adding the halogen ion in the solution formed in the said step; a step of removing solvent from the solution in which the halogen ion is added; and a step of forming the gold microparticles by optical-chemically processing mixture in which solvent is removed and reducing the gold precursor. The photochemical process is performed by applying the light having the wave length of 200~800nm.
Abstract translation: 提供使用卤离子光学制备金微粒的方法，通过使用光化学方法通过简单的方法均匀地制造金微粒。 使用卤离子光学制备金微粒的方法包括：将金前体和聚氧乙烯系聚合物与有机溶剂混合的步骤; 在所述步骤中形成的溶液中加入卤素离子的步骤; 从其中加入卤素离子的溶液中除去溶剂的步骤; 以及通过光学化学处理混合物形成金微粒的步骤，其中除去溶剂并还原金前体。 通过应用波长为200〜800nm的光进行光化学处理。
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公开(公告)号：KR1020060038857A
公开(公告)日：2006-05-04
申请号：KR1020040088029
申请日：2004-11-01
Applicant: 주식회사 동진쎄미켐 , 재단법인서울대학교산학협력재단
IPC: G03F7/075
Abstract: 고집적 반도체 소자의 미세회로패턴 형성 공정에 사용되며, 원자외선 영역의 광원을 이용한 리소그래피 공정에 적합한 실록산 단량체 및 이를 포함하는 포토레지스트용 중합체가 개시된다. 상기 포토레지스트용 중합체를 형성하기 위한 실록산 단량체는 하기 화학식으로 표시되며, 상기 포토레지스트용 중합체는 폴리메틸하이드로실록산 및 하기 실록산 단량체를 반응시켜 제조된다.
상기 화학식에서, R은 각각 독립적으로 탄소수 2 내지 8의 알킬기, 탄소수 5 또는 6의 사이클로알킬기, 또는 페닐기이며, n은 0 내지 5의 정수이다.
포토레지스트, 노광
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