公开(公告)号：TW201716877A

公开(公告)日：2017-05-16

申请号：TW105118631

申请日：2016-06-14

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 泰爾 溫 提波 ,  TEL, WIM TJIBBO ,  史達爾 法蘭克 ,  STAALS, FRANK ,  莫斯羅 馬克 約翰 ,  MASLOW, MARK JOHN

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70525 ,  G03F7/70891

Abstract: 本文中揭示一種用於調整一微影製程之電腦實施方法，該微影製程之處理參數包含處理參數之一第一群組及處理參數之一第二群組，該方法包含：獲得處理參數之該第二群組之一改變；判定由處理參數之該第二群組之該改變引起的一子製程窗(PW)之一改變，其中該子PW係僅由處理參數之該第一群組展成；基於該子PW之該改變而調整處理參數之該第一群組。

Abstract in simplified Chinese: 本文中揭示一种用于调整一微影制程之电脑实施方法，该微影制程之处理参数包含处理参数之一第一群组及处理参数之一第二群组，该方法包含：获得处理参数之该第二群组之一改变；判定由处理参数之该第二群组之该改变引起的一子制程窗(PW)之一改变，其中该子PW系仅由处理参数之该第一群组展成；基于该子PW之该改变而调整处理参数之该第一群组。

公开(公告)号：TW201708934A

公开(公告)日：2017-03-01

申请号：TW105119220

申请日：2016-06-17

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 沃爾登尼爾 彼得 韓森 ,  WARDENIER, PETER HANZEN ,  史達爾 法蘭克 ,  STAALS, FRANK ,  維森 尚 皮耶 雅格尼司 亨利克司 瑪利 ,  VAESSEN, JEAN-PIERRE AGNES HENRICUS MAR ,  文 德 蘭恩 漢斯 ,  VAN DER LAAN, HANS

IPC: G03F1/42 ,  G03F7/20 ,  G02B5/18

CPC classification number: G03F7/70591 ,  G01B11/03 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633

Abstract: 本發明揭示一種在使用界定一量測場之量測輻射來量測一目標之後判定對自該目標繞射之輻射之經量測值之一校正的方法，該目標包含複數個週期性結構。該校正用以校正該等經量測值中之量測場部位相依性。該方法包含：執行該等週期性結構之一第一量測及一第二量測；及自該第一量測及該第二量測判定一校正。該第一量測係在該目標處於相對於該量測場之一正常量測部位的情況下執行。該第二量測係在該週期性結構處於相對於該量測場之一經移位部位的情況下執行，該經移位部位包含在該目標處於相對於該量測場之該正常量測部位時的該等週期性結構中之另一者之部位。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种在使用界定一量测场之量测辐射来量测一目标之后判定对自该目标绕射之辐射之经量测值之一校正的方法，该目标包含复数个周期性结构。该校正用以校正该等经量测值中之量测场部位相依性。该方法包含：运行该等周期性结构之一第一量测及一第二量测；及自该第一量测及该第二量测判定一校正。该第一量测系在该目标处于相对于该量测场之一正常量测部位的情况下运行。该第二量测系在该周期性结构处于相对于该量测场之一经移位部位的情况下运行，该经移位部位包含在该目标处于相对于该量测场之该正常量测部位时的该等周期性结构中之另一者之部位。

公开(公告)号：TW201445263A

公开(公告)日：2014-12-01

申请号：TW103129100

申请日：2012-02-23

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 凡 德 派希 英格伯特斯 安東尼斯 法蘭西斯寇斯 ,  VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS ,  澳坦斯 喬斯特 傑洛恩 ,  OTTENS, JOOST JEROEN ,  屋森 艾蜜爾 喬瑟夫 米蘭尼 ,  EUSSEN, EMIEL JOZEF MELANIE ,  賈庫博 喬漢斯 亨利哈斯 威廉瑪斯 ,  JACOBS, JOHANNES HENRICUS WILHELMUS ,  凡 德仁特 威廉 彼得 ,  VAN DRENT, WILLIAM PETER ,  史達爾 法蘭克 ,  STAALS, FRANK ,  馬屈特 拉卡茲 傑西 ,  MACHT, LUKASZ JERZY ,  寶賈特 艾瑞克 威廉 ,  BOGAART, ERIK WILLEM

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70716 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/709

Abstract: 本發明揭示一種微影裝置，該微影裝置包括一基板台位置量測系統及一投影系統位置量測系統，該基板台位置量測系統及該投影系統位置量測系統分別用以量測基板台及投影系統之一位置。該基板台位置量測系統包括安裝於該基板台上之一基板台參考元件，及一第一感測器頭。該基板台參考元件在實質上平行於基板台上之一基板之固持平面的一量測平面中延伸。該固持平面配置於該量測平面之一個側處，且該第一感測器頭配置於該量測平面之一對置側處。該投影系統位置量測系統包括一或多個投影系統參考元件及一感測器總成。該感測器頭及該感測器總成或關聯投影系統量測元件安裝於一感測器框架上。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种微影设备，该微影设备包括一基板台位置量测系统及一投影系统位置量测系统，该基板台位置量测系统及该投影系统位置量测系统分别用以量测基板台及投影系统之一位置。该基板台位置量测系统包括安装于该基板台上之一基板台参考组件，及一第一传感器头。该基板台参考组件在实质上平行于基板台上之一基板之固持平面的一量测平面中延伸。该固持平面配置于该量测平面之一个侧处，且该第一传感器头配置于该量测平面之一对置侧处。该投影系统位置量测系统包括一或多个投影系统参考组件及一传感器总成。该传感器头及该传感器总成或关联投影系统量测组件安装于一传感器框架上。

公开(公告)号：TWI645256B

公开(公告)日：2018-12-21

申请号：TW105118631

申请日：2016-06-14

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 泰爾 溫 提波 ,  TEL, WIM TJIBBO ,  史達爾 法蘭克 ,  STAALS, FRANK ,  莫斯羅 馬克 約翰 ,  MASLOW, MARK JOHN

IPC: G03F7/20

公开(公告)号：TWI620978B

公开(公告)日：2018-04-11

申请号：TW105138642

申请日：2016-11-24

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 泰爾 溫 提波 ,  TEL, WIM TJIBBO ,  史達爾 法蘭克 ,  STAALS, FRANK

IPC: G03F1/44 ,  G03F7/20 ,  H01L21/66 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70683 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70641 ,  G03F9/7026

公开(公告)号：TW201712440A

公开(公告)日：2017-04-01

申请号：TW105123320

申请日：2016-07-22

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 史達爾 法蘭克 ,  STAALS, FRANK ,  魯吉坦 卡羅 康妮斯 瑪里亞 ,  LUIJTEN, CARLO CORNELIS MARIA ,  希尼 保羅 克利絲丁安 ,  HINNEN, PAUL CHRISTIAAN ,  凡 巫斯登 安東 伯恩哈得 ,  VAN OOSTEN, ANTON BERNHARD

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70633 ,  G01B11/02 ,  G01B11/272 ,  G01B2210/56 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70641

Abstract: 本發明揭示一種監測一微影程序之一微影程序參數(諸如焦點及/或劑量)之方法。該方法包含分別使用一第一量測組態及一第二量測組態來獲取一第一目標量測及一第二目標量測，及根據自該第一目標量測及該第二目標量測導出之一第一度量來判定該微影程序參數。該第一度量可為差。本發明亦揭示對應量測設備及微影設備、一種電腦程式及一種製造器件之方法。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种监测一微影进程之一微影进程参数(诸如焦点及/或剂量)之方法。该方法包含分别使用一第一量测组态及一第二量测组态来获取一第一目标量测及一第二目标量测，及根据自该第一目标量测及该第二目标量测导出之一第一度量来判定该微影进程参数。该第一度量可为差。本发明亦揭示对应量测设备及微影设备、一种电脑进程及一种制造器件之方法。

公开(公告)号：TWI572993B

公开(公告)日：2017-03-01

申请号：TW104123458

申请日：2015-07-20

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 泰爾 溫 提波 ,  TEL, WIM TJIBBO ,  史達爾 法蘭克 ,  STAALS, FRANK ,  希尼 保羅 克利絲丁安 ,  HINNEN, PAUL CHRISTIAAN ,  強布洛特 雷納 瑪麗亞 ,  JUNGBLUT, REINER MARIA

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70516 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70641

公开(公告)号：TWI542956B

公开(公告)日：2016-07-21

申请号：TW103129100

申请日：2012-02-23

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 凡 德 派希 英格伯特斯 安東尼斯 法蘭西斯寇斯 ,  VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS ,  澳坦斯 喬斯特 傑洛恩 ,  OTTENS, JOOST JEROEN ,  屋森 艾蜜爾 喬瑟夫 米蘭尼 ,  EUSSEN, EMIEL JOZEF MELANIE ,  賈庫博 喬漢斯 亨利哈斯 威廉瑪斯 ,  JACOBS, JOHANNES HENRICUS WILHELMUS ,  凡 德仁特 威廉 彼得 ,  VAN DRENT, WILLIAM PETER ,  史達爾 法蘭克 ,  STAALS, FRANK ,  馬屈特 拉卡茲 傑西 ,  MACHT, LUKASZ JERZY ,  寶賈特 艾瑞克 威廉 ,  BOGAART, ERIK WILLEM

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70716 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/709

公开(公告)号：TW201617740A

公开(公告)日：2016-05-16

申请号：TW104123458

申请日：2015-07-20

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 泰爾 溫 提波 ,  TEL, WIM TJIBBO ,  史達爾 法蘭克 ,  STAALS, FRANK ,  希尼 保羅 克利絲丁安 ,  HINNEN, PAUL CHRISTIAAN ,  強布洛特 雷納 瑪麗亞 ,  JUNGBLUT, REINER MARIA

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70516 ,  G03F7/705 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70641

Abstract: 本發明揭示一種判定用於一微影製程之一製程窗之方法，該製程窗描述在該微影製程期間之至少一個處理參數之一可接受變化程度。該方法包含獲得一輸出參數值集合及一對應實際處理參數值集合，該輸出參數值集合係自在使用一微影製程進行一基板之曝光之後自該基板上之複數個部位處執行之量測導出，該對應實際處理參數值集合包含在該複數個部位中之每一者處的該曝光期間之該微影製程之一處理參數的實際值。自該等輸出參數值及該等實際處理參數值判定該製程窗。此製程窗可用以改良供執行一後續微影製程之該處理參數之選擇。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种判定用于一微影制程之一制程窗之方法，该制程窗描述在该微影制程期间之至少一个处理参数之一可接受变化程度。该方法包含获得一输出参数值集合及一对应实际处理参数值集合，该输出参数值集合系自在使用一微影制程进行一基板之曝光之后自该基板上之复数个部位处运行之量测导出，该对应实际处理参数值集合包含在该复数个部位中之每一者处的该曝光期间之该微影制程之一处理参数的实际值。自该等输出参数值及该等实际处理参数值判定该制程窗。此制程窗可用以改良供运行一后续微影制程之该处理参数之选择。

公开(公告)号：TWI454856B

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：TW101106089

申请日：2012-02-23

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 凡 德 派希 英格伯特斯 安東尼斯 法蘭西斯寇斯 ,  VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS ,  澳坦斯 喬斯特 傑洛恩 ,  OTTENS, JOOST JEROEN ,  屋森 艾蜜爾 喬瑟夫 米蘭尼 ,  EUSSEN, EMIEL JOZEF MELANIE ,  賈庫博 喬漢斯 亨利哈斯 威廉瑪斯 ,  JACOBS, JOHANNES HENRICUS WILHELMUS ,  凡 德仁特 威廉 彼得 ,  VAN DRENT, WILLIAM PETER ,  史達爾 法蘭克 ,  STAALS, FRANK ,  馬屈特 拉卡茲 傑西 ,  MACHT, LUKASZ JERZY ,  寶賈特 艾瑞克 威廉 ,  BOGAART, ERIK WILLEM

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70716 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/709