公开(公告)号：TWI679491B

公开(公告)日：2019-12-11

申请号：TW104137749

申请日：2015-11-16

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V. ,  荷蘭商ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N. V.

Inventor： 可魯依寧嘉 馬提亞斯 ,  KRUIZINGA, MATTHIAS ,  詹森 馬騰 馬吉斯 馬利努斯 ,  JANSEN, MAARTEN MATHIJS MARINUS ,  阿瑟瑞多 喬治 瑪紐爾 ,  AZEREDO LIMA, JORGE MANUEL ,  寶賈特 艾瑞克 威廉 ,  BOGAART, ERIK WILLEM ,  布朗司 德克 瑟華提思 傑卓達 ,  BROUNS, DERK SERVATIUS GERTRUDA ,  布魯吉 馬克 ,  BRUIJN, MARC ,  布魯斯 理查 喬瑟夫 ,  BRULS, RICHARD JOSEPH ,  戴克斯 傑洛恩 ,  DEKKERS, JEROEN ,  簡森 保羅 ,  JANSSEN, PAUL ,  卡馬利 莫哈瑪德 瑞莎 ,  KAMALI, MOHAMMAD REZA ,  卡默 羅納 哈莫 剛瑟 ,  KRAMER, RONALD HARM GUNTHER ,  蘭博根 羅博特 嘉博爾 瑪利亞 ,  里恩德斯 馬汀斯 漢德利克斯 安東尼斯 ,  LEENDERS, MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS ,  里普森 馬修 ,  LIPSON, MATTHEW ,  洛卜史塔 艾瑞克 羅勒夫 ,  LOOPSTRA, ERIK ROELOF ,  黎昂斯 喬瑟夫H ,  LYONS, JOSEPH H ,  露克司 史蒂芬 ,  ROUX, STEPHEN ,  凡 登 波許 吉瑞特 ,  VAN DEN BOSCH, GERRIT ,  凡 登 海吉坎特 山德 ,  VAN DEN HEIJKANT, SANDER ,  凡 得 葛絡夫 珊卓拉 ,  VAN DER GRAAF, SANDRA ,  凡 丹 慕蘭 佛利茲 ,  VAN DER MEULEN, FRITS ,  凡 路 吉羅美 法蘭西歐斯 斯洛凡 凡吉兒 ,  凡布魯吉 畢兒翠斯 路意斯 瑪莉 喬瑟夫 凱翠恩 ,  VERBRUGGE, BEATRIJS LOUISE MARIE-JOSEPH K

IPC: G03F1/62

公开(公告)号：TWI698715B

公开(公告)日：2020-07-11

申请号：TW105106205

申请日：2016-03-01

Applicant: 荷蘭商ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 尼恩休斯 漢 冠 ,  NIENHUYS, HAN-KWANG ,  寶賈特 艾瑞克 威廉 ,  BOGAART, ERIK WILLEM ,  東克 瑞佛 路多維哥司 ,  DONKER, RILPHO LUDOVICUS ,  昆吉拉 博格特 ,  KRUIZINGA, BORGERT ,  洛卜史塔 艾瑞克 羅勒夫 ,  LOOPSTRA, ERIK ROELOF ,  布特馬 哈寇 ,  BOTMA, HAKO ,  德 弗瑞斯 高斯 查爾斯 ,  DE VRIES, GOSSE CHARLES ,  佛利恩斯 歐勒夫 華德瑪 佛勒迪米爾 ,  FRIJNS, OLAV WALDEMAR VLADIMIR ,  巴賽曼 喬納斯 喬可巴斯 麥修斯 ,  BASELMANS, JOHANNES JACOBUS MATHEUS

IPC: G03F7/20

公开(公告)号：TW201633014A

公开(公告)日：2016-09-16

申请号：TW105117449

申请日：2012-02-23

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 凡 德 派希 英格伯特斯 安東尼斯 法蘭西斯寇斯 ,  VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS ,  澳坦斯 喬斯特 傑洛恩 ,  OTTENS, JOOST JEROEN ,  屋森 艾蜜爾 喬瑟夫 米蘭尼 ,  EUSSEN, EMIEL JOZEF MELANIE ,  賈庫博 喬漢斯 亨利哈斯 威廉瑪斯 ,  JACOBS, JOHANNES HENRICUS WILHELMUS ,  凡 德仁特 威廉 彼得 ,  VAN DRENT, WILLIAM PETER ,  史達爾 法蘭克 ,  STAALS, FRANK ,  馬屈特 拉卡茲 傑西 ,  MACHT, LUKASZ JERZY ,  寶賈特 艾瑞克 威廉 ,  BOGAART, ERIK WILLEM

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70716 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/709

Abstract: 本發明揭示一種微影裝置，該微影裝置包括一基板台位置量測系統及一投影系統位置量測系統，該基板台位置量測系統及該投影系統位置量測系統分別用以量測基板台及投影系統之一位置。該基板台位置量測系統包括安裝於該基板台上之一基板台參考元件，及一第一感測器頭。該基板台參考元件在實質上平行於基板台上之一基板之固持平面的一量測平面中延伸。該固持平面配置於該量測平面之一個側處，且該第一感測器頭配置於該量測平面之一對置側處。該投影系統位置量測系統包括一或多個投影系統參考元件及一感測器總成。該感測器頭及該感測器總成或關聯投影系統量測元件安裝於一感測器框架上。

Abstract in simplified Chinese: 本发明揭示一种微影设备，该微影设备包括一基板台位置量测系统及一投影系统位置量测系统，该基板台位置量测系统及该投影系统位置量测系统分别用以量测基板台及投影系统之一位置。该基板台位置量测系统包括安装于该基板台上之一基板台参考组件，及一第一传感器头。该基板台参考组件在实质上平行于基板台上之一基板之固持平面的一量测平面中延伸。该固持平面配置于该量测平面之一个侧处，且该第一传感器头配置于该量测平面之一对置侧处。该投影系统位置量测系统包括一或多个投影系统参考组件及一传感器总成。该传感器头及该传感器总成或关联投影系统量测组件安装于一传感器框架上。

公开(公告)号：TW201619692A

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：TW104137749

申请日：2015-11-16

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V. ,  ASML控股公司 ,  ASML HOLDING N. V.

Inventor： 可魯依寧嘉 馬提亞斯 ,  KRUIZINGA, MATTHIAS ,  詹森 馬騰 馬吉斯 馬利努斯 ,  JANSEN, MAARTEN MATHIJS MARINUS ,  阿瑟瑞多 喬治 瑪紐爾 ,  AZEREDO LIMA, JORGE MANUEL ,  寶賈特 艾瑞克 威廉 ,  BOGAART, ERIK WILLEM ,  布朗司 德克 瑟華提思 傑卓達 ,  BROUNS, DERK SERVATIUS GERTRUDA ,  布魯吉 馬克 ,  BRUIJN, MARC ,  布魯斯 理查 喬瑟夫 ,  BRULS, RICHARD JOSEPH ,  戴克斯 傑洛恩 ,  DEKKERS, JEROEN ,  簡森 保羅 ,  JANSSEN, PAUL ,  卡馬利 莫哈瑪德 瑞莎 ,  KAMALI, MOHAMMAD REZA ,  卡默 羅納 哈莫 剛瑟 ,  KRAMER, RONALD HARM GUNTHER ,  蘭博根 羅博特 嘉博爾 瑪利亞 ,  里恩德斯 馬汀斯 漢德利克斯 安東尼斯 ,  LEENDERS, MARTINUS HENDRIKUS ANTONIUS ,  里普森 馬修 ,  LIPSON, MATTHEW ,  洛卜史塔 艾瑞克 羅勒夫 ,  LOOPSTRA, ERIK ROELOF ,  黎昂斯 喬瑟夫H ,  LYONS, JOSEPH H ,  露克司 史蒂芬 ,  ROUX, STEPHEN ,  凡 登 波許 吉瑞特 ,  VAN DEN BOSCH, GERRIT ,  凡 登 海吉坎特 山德 ,  VAN DEN HEIJKANT, SANDER ,  凡 得 葛絡夫 珊卓拉 ,  VAN DER GRAAF, SANDRA ,  凡 丹 慕蘭 佛利茲 ,  VAN DER MEULEN, FRITS ,  凡 路 吉羅美 法蘭西歐斯 斯洛凡 凡吉兒 ,  凡布魯吉 畢兒翠斯 路意斯 瑪莉 喬瑟夫 凱翠恩 ,  VERBRUGGE, BEATRIJS LOUISE MARIE-JOSEPH K

IPC: G03F1/62

CPC classification number: G03F7/70983 ,  G03F1/64 ,  G03F7/70825

Abstract: 本發明係關於一種適合用於一微影製程中之遮罩總成，該遮罩總成包含：一圖案化器件；及一表膜框架，其經組態以支撐一表膜且藉由一安裝台安裝在該圖案化器件上；其中該安裝台經組態以相對於該圖案化器件懸置該表膜框架，使得該表膜框架與該圖案化器件之間存在一間隙；且其中該安裝台在該圖案化器件與該表膜框架之間提供一可釋放式可嚙合附著。

Abstract in simplified Chinese: 本发明系关于一种适合用于一微影制程中之遮罩总成，该遮罩总成包含：一图案化器件；及一表膜框架，其经组态以支撑一表膜且借由一安装台安装在该图案化器件上；其中该安装台经组态以相对于该图案化器件悬置该表膜框架，使得该表膜框架与该图案化器件之间存在一间隙；且其中该安装台在该图案化器件与该表膜框架之间提供一可释放式可啮合附着。

公开(公告)号：TWI583917B

公开(公告)日：2017-05-21

申请号：TW103117390

申请日：2014-05-16

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 寶賈特 艾瑞克 威廉 ,  BOGAART, ERIK WILLEM ,  班捷恩 法蘭西斯科 哥登法蘭德斯 凱司柏 ,  BIJNEN, FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER ,  丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 ,  DEN BOEF, ARIE JEFFREY ,  麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 ,  MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS

IPC: G01B11/24 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70483 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G01N2021/656 ,  G03F7/70625

公开(公告)号：TWI542956B

公开(公告)日：2016-07-21

申请号：TW103129100

申请日：2012-02-23

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 凡 德 派希 英格伯特斯 安東尼斯 法蘭西斯寇斯 ,  VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS ,  澳坦斯 喬斯特 傑洛恩 ,  OTTENS, JOOST JEROEN ,  屋森 艾蜜爾 喬瑟夫 米蘭尼 ,  EUSSEN, EMIEL JOZEF MELANIE ,  賈庫博 喬漢斯 亨利哈斯 威廉瑪斯 ,  JACOBS, JOHANNES HENRICUS WILHELMUS ,  凡 德仁特 威廉 彼得 ,  VAN DRENT, WILLIAM PETER ,  史達爾 法蘭克 ,  STAALS, FRANK ,  馬屈特 拉卡茲 傑西 ,  MACHT, LUKASZ JERZY ,  寶賈特 艾瑞克 威廉 ,  BOGAART, ERIK WILLEM

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70716 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/709

公开(公告)号：TW201502467A

公开(公告)日：2015-01-16

申请号：TW103117390

申请日：2014-05-16

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 寶賈特 艾瑞克 威廉 ,  BOGAART, ERIK WILLEM ,  班捷恩 法蘭西斯科 哥登法蘭德斯 凱司柏 ,  BIJNEN, FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER ,  丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 ,  DEN BOEF, ARIE JEFFREY ,  麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 ,  MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS

IPC: G01B11/24 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70483 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G01N2021/656 ,  G03F7/70625

Abstract: 一種基板，其具備元件結構及度量衡結構(800)。該等元件結構包括展現一或多個波長之激發輻射之非彈性散射的材料。該等元件結構包括在一或多個尺寸方面足夠小而使得該非彈性散射之特性受到量子侷限顯著地影響的結構。該等度量衡結構(800)包括在組成物及尺寸方面相似於該等元件特徵之似元件結構(800b)，及校準結構(800a)。該等校準結構在組成物方面相似於該等元件特徵，但在至少一個尺寸方面不同。在使用實施拉曼光譜法之一檢測裝置及方法的情況下，可藉由比較自該似元件結構及該校準結構非彈性地散射之輻射的光譜特徵來量測該等似元件結構之該等尺寸。

Abstract in simplified Chinese: 一种基板，其具备组件结构及度量衡结构(800)。该等组件结构包括展现一或多个波长之激发辐射之非弹性散射的材料。该等组件结构包括在一或多个尺寸方面足够小而使得该非弹性散射之特性受到量子局限显着地影响的结构。该等度量衡结构(800)包括在组成物及尺寸方面相似于该等组件特征之似组件结构(800b)，及校准结构(800a)。该等校准结构在组成物方面相似于该等组件特征，但在至少一个尺寸方面不同。在使用实施拉曼光谱法之一检测设备及方法的情况下，可借由比较自该似组件结构及该校准结构非弹性地散射之辐射的光谱特征来量测该等似组件结构之该等尺寸。

公开(公告)号：TWI454856B

公开(公告)日：2014-10-01

申请号：TW101106089

申请日：2012-02-23

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 凡 德 派希 英格伯特斯 安東尼斯 法蘭西斯寇斯 ,  VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS ,  澳坦斯 喬斯特 傑洛恩 ,  OTTENS, JOOST JEROEN ,  屋森 艾蜜爾 喬瑟夫 米蘭尼 ,  EUSSEN, EMIEL JOZEF MELANIE ,  賈庫博 喬漢斯 亨利哈斯 威廉瑪斯 ,  JACOBS, JOHANNES HENRICUS WILHELMUS ,  凡 德仁特 威廉 彼得 ,  VAN DRENT, WILLIAM PETER ,  史達爾 法蘭克 ,  STAALS, FRANK ,  馬屈特 拉卡茲 傑西 ,  MACHT, LUKASZ JERZY ,  寶賈特 艾瑞克 威廉 ,  BOGAART, ERIK WILLEM

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70716 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/709

公开(公告)号：TWI612394B

公开(公告)日：2018-01-21

申请号：TW105117449

申请日：2012-02-23

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 凡 德 派希 英格伯特斯 安東尼斯 法蘭西斯寇斯 ,  VAN DER PASCH, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS ,  澳坦斯 喬斯特 傑洛恩 ,  OTTENS, JOOST JEROEN ,  屋森 艾蜜爾 喬瑟夫 米蘭尼 ,  EUSSEN, EMIEL JOZEF MELANIE ,  賈庫博 喬漢斯 亨利哈斯 威廉瑪斯 ,  JACOBS, JOHANNES HENRICUS WILHELMUS ,  凡 德仁特 威廉 彼得 ,  VAN DRENT, WILLIAM PETER ,  史達爾 法蘭克 ,  STAALS, FRANK ,  馬屈特 拉卡茲 傑西 ,  MACHT, LUKASZ JERZY ,  寶賈特 艾瑞克 威廉 ,  BOGAART, ERIK WILLEM

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70716 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70833 ,  G03F7/709

公开(公告)号：TW201708984A

公开(公告)日：2017-03-01

申请号：TW105109907

申请日：2016-03-29

Applicant: ASML荷蘭公司 ,  ASML NETHERLANDS B. V.

Inventor： 麥提森 賽門 吉司伯 喬瑟佛思 ,  MATHIJSSEN, SIMON GIJSBERT JOSEPHUS ,  丹 包伊夫 亞歷 傑福瑞 ,  DEN BOEF, ARIE JEFFREY ,  保羅 亞歷山卓 ,  POLO, ALESSANDRO ,  提那曼斯 派翠西斯 阿若瑟斯 約克伯 ,  TINNEMANS, PATRICIUS ALOYSIUS JACOBUS ,  謝萊肯思 安卓那斯 裘漢斯 漢德利克斯 ,  SCHELLEKENS, ADRIANUS JOHANNES HENDRIKUS ,  亞甘尼基 達斯特蓋瑞迪 艾歐兒 ,  YEGANEGI DASTGERDI, ELAHE ,  蔻妮 威樂 馬力 朱立亞 麻索 ,  COENE, WILLEM MARIE JULIA MARCEL ,  寶賈特 艾瑞克 威廉 ,  BOGAART, ERIK WILLEM ,  休斯曼 賽門 雷納德 ,  HUISMAN, SIMON REINALD

IPC: G03F9/00

CPC classification number: G03F9/7088 ,  G03F7/70141

Abstract: 本發明提供一種用於判定一對準標記之位置之對準系統、方法及微影裝置，該對準系統包含：一第一系統，其經組態以產生該對準標記之相對於彼此旋轉大約180度的兩個重疊影像；及一第二系統，其經組態以自該兩個重疊影像之一強度之一空間分佈判定該對準標記之該位置。

Abstract in simplified Chinese: 本发明提供一种用于判定一对准标记之位置之对准系统、方法及微影设备，该对准系统包含：一第一系统，其经组态以产生该对准标记之相对于彼此旋转大约180度的两个重叠影像；及一第二系统，其经组态以自该两个重叠影像之一强度之一空间分布判定该对准标记之该位置。