公开(公告)号：DE3062187D1

公开(公告)日：1983-04-07

申请号：DE3062187

申请日：1980-06-03

Applicant: IBM

Inventor： BAKOS PETER ,  BENDZ GERALD ANDREI ,  DARROW RUSSELL ELWOOD ,  RIVENBURGH DENNIS LOUIS

IPC: C09D9/00 ,  C11D7/00 ,  C11D7/22 ,  C11D7/24 ,  C11D7/32 ,  C11D7/50 ,  G03F7/42 ,  H01L21/306 ,  H05K3/26

公开(公告)号：FR2325078A1

公开(公告)日：1977-04-15

申请号：FR7623636

申请日：1976-07-27

Applicant: IBM

Inventor： BAKOS PETER ,  RASILE JOHN

IPC: G03C1/72 ,  G03F7/022 ,  G03F7/039 ,  G03C1/52

Abstract: A positive photoresist having increased sensitivity to light and formed by the addition of an acidic compound to a 1,2-quinone-diazide sulphonic acid ester sensitizer.

公开(公告)号：DE1795207A1

公开(公告)日：1972-01-20

申请号：DE1795207

申请日：1968-08-23

Applicant: IBM

Inventor： BAKOS PETER ,  STEVEN KOZAK GARY

IPC: G03F7/038 ,  C08D5/02

公开(公告)号：IT1151031B

公开(公告)日：1986-12-17

申请号：IT2199480

申请日：1980-05-13

Applicant: IBM

Inventor： BAKOS PETER ,  BENDZ GERALD ANDREI ,  DARROW RUSSELL ELWOOD ,  RIVENBURGH DENNIS LOUIS

IPC: C09D9/00 ,  C11D7/00 ,  C11D7/22 ,  C11D7/24 ,  C11D7/32 ,  C11D7/50 ,  G03F7/42 ,  H01L21/306 ,  H05K3/26 ,  B23K

公开(公告)号：DE3071731D1

公开(公告)日：1986-10-02

申请号：DE3071731

申请日：1980-05-14

Applicant: IBM

Inventor： BAKOS PETER ,  DARROW RUSSELL ELWOOD ,  RIVENBURGH DENNIS LOUIS ,  WILLIAMS WILLIAM FRANCIS

IPC: C08L77/10 ,  C08L83/04 ,  G03F7/26 ,  H01L21/56 ,  H05K3/28

公开(公告)号：DE2862413D1

公开(公告)日：1984-07-05

申请号：DE2862413

申请日：1978-12-13

Applicant: IBM

Inventor： BAKOS PETER ,  HAGGETT ROGER EUGENE ,  POLIAK RICHARD MARTIN

IPC: H05K3/34 ,  B23K35/36 ,  C09D5/20 ,  C09D171/02 ,  H01B3/42 ,  H01L23/29 ,  H01L23/488 ,  H05K3/28 ,  C09D3/49 ,  C08L71/02

Abstract: A film-forming composition comprising an organic flux base material; and a carboxylic acid anhydride and/or aldehyde; and a process for using are provided.

公开(公告)号：CA1124610A

公开(公告)日：1982-06-01

申请号：CA349768

申请日：1980-04-14

Applicant: IBM

Inventor： BAKOS PETER ,  BENDZ GERALD A ,  DARROW RUSSELL E ,  RIVENBURGH DENNIS L

IPC: C09D9/00 ,  C11D7/00 ,  C11D7/22 ,  C11D7/24 ,  C11D7/32 ,  C11D7/50 ,  G03F7/42 ,  H01L21/306 ,  H05K3/26

Abstract: CLEANING COMPOSITION AND USE THEREOF A cleaning composition which includes N-methyl-2-pyrrolidone and an alkanolamine, and use thereof for cleaning substrates. EN9-79-003

公开(公告)号：IT8021994D0

公开(公告)日：1980-05-13

申请号：IT2199480

申请日：1980-05-13

Applicant: IBM

Inventor： BAKOS PETER ,  BENDZ GERALD ANDREI ,  DARROW RUSSELL ELWOOD ,  RIVENBURGH DENNIS LOUIS

IPC: C09D9/00 ,  C11D7/00 ,  C11D7/22 ,  C11D7/24 ,  C11D7/32 ,  C11D7/50 ,  G03F7/42 ,  H01L21/306 ,  H05K3/26 ,  B23K

公开(公告)号：DE2656139A1

公开(公告)日：1977-06-23

申请号：DE2656139

申请日：1976-12-10

Applicant: IBM

Inventor： BAKOS PETER ,  MEMIS IRVING ,  RASILE JOHN

IPC: H05K5/00 ,  C09D4/00 ,  H01L21/312 ,  H01L21/56 ,  H01L23/29 ,  H01L23/31 ,  H05K3/28 ,  H05K5/06

Abstract: A hermetic topsealant for metal electrodes on components and other microelectronic circuitry is formed by polymerizing a mixture of an unsaturated silane monomer, a bifunctional silane adhesion promoter, a polymeric plasticizer and a stabilizer.

公开(公告)号：CA941665A

公开(公告)日：1974-02-12

申请号：CA100030

申请日：1970-12-08

Applicant: IBM

Inventor： BAKOS PETER

IPC: C08L7/00 ,  C08J3/02 ,  C08L21/00 ,  C08L21/02 ,  C08L33/00 ,  C08L33/02 ,  C23F1/02 ,  G03F7/038 ,  G03F7/16 ,  H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  H01L23/29 ,  H05K3/00