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公开(公告)号：CN1646723A
公开(公告)日：2005-07-27
申请号：CN03807718.3
申请日：2003-04-01
Applicant: TDK株式会社
CPC classification number: C23C14/042 , G11B7/266 , G11B11/10582
Abstract: 在一种溅射装置中，一覆盖基片的中心部分的内掩模由一支承件支承，该支承件设置在一靶的后表面上的一垫板上，并且该内掩模通过一弹簧以一预定负荷紧靠该基片。通过这种结构，当进行薄膜的沉积时，该紧靠基片的内掩模可与该基片一起旋转，并且能可靠地形成该基片的中心部分的无膜形成区域，并改善膜形成区域中的薄膜厚度等。
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