公开(公告)号：CN1662977A

公开(公告)日：2005-08-31

申请号：CN03814362.3

申请日：2003-06-16

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 越川政人 ,  渡边英昭

IPC: G11B7/26 ,  C23C14/04 ,  C23C14/50

CPC classification number: C23C14/042 ,  C23C14/50 ,  G11B7/265 ,  G11B7/266

Abstract: 本发明提供一种基片传递方法，利用该方法可将一没有中心孔的盘形基片或类似物保持在空气中以便容易地输送给一溅射装置。在一盘形基片的任何一侧的中心部分处设有一突起部，并且通过使该基片与一外掩膜、一内掩膜和一内掩膜固定磁体成为一个整体来进行基片的输送等操作，其中该外掩膜覆盖该基片的外周向端部和中心部分，该内掩膜和内掩膜固定磁体固定在该基片上同时在它们之间保持该基片的中心。一传递机构利用磁力保持该外掩膜，然后在要将基片传递于其上的基片托架一侧上同时利用磁力保持该外掩膜，在基片传递过程中该传递机构一侧的磁力减小。

公开(公告)号：CN100349223C

公开(公告)日：2007-11-14

申请号：CN03814362.3

申请日：2003-06-16

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 越川政人 ,  渡边英昭

IPC: G11B7/26 ,  C23C14/04 ,  C23C14/50

CPC classification number: C23C14/042 ,  C23C14/50 ,  G11B7/265 ,  G11B7/266

Abstract: 本发明提供一种基片传递方法，利用该方法可将一没有中心孔的盘形基片或类似物保持在空气中以便容易地输送给一溅射装置。在一盘形基片的任何一侧的中心部分处设有一突起部，并且通过使该基片与一外掩膜、一内掩膜和一内掩膜固定磁体成为一个整体来进行基片的输送等操作，其中该外掩膜覆盖该基片的外周向端部和中心部分，该内掩膜和内掩膜固定磁体固定在该基片上同时在它们之间保持该基片的中心。一传递机构利用磁力保持该外掩膜，然后在要将基片传递于其上的基片托架一侧上同时利用磁力保持该外掩膜，在基片传递过程中该传递机构一侧的磁力减小。

公开(公告)号：CN1646724A

公开(公告)日：2005-07-27

申请号：CN03807866.X

申请日：2003-04-01

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 越川政人 ,  渡边英昭 ,  石崎秀树 ,  宇佐美守

IPC: C23C14/56 ,  G11B7/26 ,  H01L21/68

CPC classification number: G11B5/8404 ,  C23C14/56 ,  G11B7/265 ,  G11B7/266 ,  G11B11/10582

Abstract: 本发明提供一种接收来自基片交换头部的与运载器在一起的已涂敷薄膜基片基片交换单元，该基片交换头部接收来自薄膜形成装置的基片和运载器，基片在基片交换头部和待安置有基片的工位台之间被传送；在保持运载器时，仅将基片传送至工位台并在保持该运载器时，冷却运载器；然后，由保持的运载器接收安置在工位台上的未涂敷基片；并且由基板交换头部将基片和运载器传送至薄膜形成装置。该结构可防止正在涂敷薄膜的基片的温度上升，从而控制了采用运载器夹持基片的薄膜形成过程中的运载器的温度。

公开(公告)号：CN1662978A

公开(公告)日：2005-08-31

申请号：CN03814363.1

申请日：2003-06-16

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 越川政人 ,  渡边英昭

IPC: G11B7/26 ,  C23C14/04 ,  C23C14/50

CPC classification number: G11B7/266 ,  C23C14/042 ,  C23C14/50 ,  G11B7/265

Abstract: 本发明提供一种基片传递方法，利用该方法可将一没有中心孔的盘形基片或类似物保持在空气中以便容易地输送给一溅射装置。在一盘形基片的任何一侧的中心部分处设有一突起部，并且通过使该基片与覆盖该基片的外周向端部和中心部分的一外掩膜和一内掩膜成为一个整体来进行基片的输送等操作。一传递机构利用磁力保持该内掩膜和该外掩膜，然后在要将基片传递于其上的基片托架一侧上同时利用磁力保持该内掩膜和该外掩膜，在基片传递过程中该传递机构一侧的磁力减小。

公开(公告)号：CN1646723A

公开(公告)日：2005-07-27

申请号：CN03807718.3

申请日：2003-04-01

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 越川政人 ,  石崎秀树 ,  渡边英昭 ,  松井敏

IPC: C23C14/34 ,  G11B7/26

CPC classification number: C23C14/042 ,  G11B7/266 ,  G11B11/10582

Abstract: 在一种溅射装置中，一覆盖基片的中心部分的内掩模由一支承件支承，该支承件设置在一靶的后表面上的一垫板上，并且该内掩模通过一弹簧以一预定负荷紧靠该基片。通过这种结构，当进行薄膜的沉积时，该紧靠基片的内掩模可与该基片一起旋转，并且能可靠地形成该基片的中心部分的无膜形成区域，并改善膜形成区域中的薄膜厚度等。