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    Quartz glass body for optical component and process for manufacture thereof
    16.
    发明授权
    Quartz glass body for optical component and process for manufacture thereof 有权
    用于光学部件的石英玻璃体及其制造方法

    公开(公告)号：US06550277B1

    公开(公告)日：2003-04-22

    申请号：US09709168

    申请日：2000-11-10

    Applicant: Bruno Uebbing ,  Jan Vydra

    Inventor： Bruno Uebbing ,  Jan Vydra

    IPC: C03B1906

    CPC classification number: C03C4/0085 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/075 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/06 ,  C03C2201/08 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  Y10S65/08 ,  Y10S65/16 ,  Y10S501/905

    Abstract: The invention concerns a quartz glass body for an optical component for the transmission of UV radiation with a wavelength of 250 nm and less, especially for a wavelength of 157 nm, as well as a process for the manufacture of the quartz glass body where fine quartz glass particles are formed by flame hydrolysis of a silicon compound, deposited and vitrified. Suitability of a quartz glass as represented by high base transmission and radiation resistance depends on structural properties caused by local stoichiometric deviations, and on the chemical composition. The quartz glass body according to the inventions is distinguished by a uniform base transmission (relative change of base transmission ≦1%) in the wavelength range from 155 nm to 250 nm (radiation penetration depth of 10 mm) of at least 80%, a low OH content (less than 10 ppm by weight) and a glass structure substantially free from oxygen defect centers. A quartz glass body of this kind is manufactured by a process which allows bulk embedding of hydrogen or oxygen into the glass network in that at least a two stage heat treatment takes place at temperatures ranging from 850° C. to 1600° C. before the vitrification, the last stage comprising sintering at a temperature between 1300° C. and 1600° C. in an atmosphere containing hydrogen or oxygen, or a nonflammable mixture of these substances.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于传输波长为250nm以下，特别是波长为157nm的紫外线的光学部件的石英玻璃体，以及用于制造石英玻璃体的方法，其中精细的石英 通过硅化合物的火焰水解形成玻璃颗粒，沉积并玻璃化。 由高碱性透射和耐辐射性表示的石英玻璃的适用性取决于由局部化学计量偏差引起的结构特性以及化学成分。 根据本发明的石英玻璃体的特征在于在155nm至250nm（辐射穿透深度为10mm）的波长范围内的均匀的基底透射率（基底透射率的相对变化<= 1％）为至少80％ 低OH含量（小于10ppm重量）和基本上不含氧缺陷中心的玻璃结构。 这种石英玻璃体是通过允许将氢气或氧气大量嵌入玻璃网络的方法来制造的，因为至少在两个阶段之间的热处理在850℃至1600℃之间的温度下进行 玻璃化，最后阶段包括在含有氢气或氧气的气氛中在1300℃和1600℃之间的温度下烧结，或这些物质的不可燃混合物。

    Nonlinear optical silica material and nonlinear optical device
    17.
    发明授权
    Nonlinear optical silica material and nonlinear optical device 有权
    非线性光学二氧化硅材料和非线性光学器件

    公开(公告)号：US06376086B1

    公开(公告)日：2002-04-23

    申请号：US09362547

    申请日：1999-07-28

    Applicant: Tomonori Nagashima ,  Naoki Nakamura

    Inventor： Tomonori Nagashima ,  Naoki Nakamura

    IPC: B32B900

    CPC classification number: G02F1/3555 ,  C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03C3/11 ,  C03C2201/08 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21

    Abstract: A nonlinear optical silica material mainly consisting of SiO2—GeO2 to which hydrogen or halogen element X is added. Oxygen bonded to Ge contained in the nonlinear optical silica material is replaced by H or X, and one Ge has two Ge—O bonds and one Ge—H (or Ge—X) bond at Ge· points where nonlinearity is exhibited in the silica material. The Ge—H (or Ge—X) bond does not relate to a crystal network, so that when the polarity is oriented in order to exhibit nonlinearity at Ge·, an electric field to be applied can be lowered, and when a optical semiconductor hybrid element or the like is produced, other portions of the semiconductor elements can be prevented from being broken or degraded in performance. An insulating film can be interposed between the semiconductor substrate and the nonlinear optical silica film to prevent undesired impurities from dispersing into the semiconductor substrate and other elements and preventing a defect from being caused in the crystal of the substrate due to the silica film.

    Abstract translation: 主要由添加有氢或卤素元素X的SiO 2 -GOO组成的非线性光学二氧化硅材料。 在非线性光学二氧化硅材料中包含的与Ge结合的氧被H或X替代，并且一个Ge在Ge处具有两个Ge-O键和一个Ge-H（或Ge-X）键。 在二氧化硅材料中显示出非线性的点。 Ge-H（或Ge-X）键与晶体网络无关，因此当极性取向为在Ge表现出非线性时，可以降低要施加的电场，而当光半导体 制造混合元件等，可以防止半导体元件的其他部分的性能破坏或劣化。 可以在半导体衬底和非线性光学二氧化硅膜之间插入绝缘膜，以防止不期望的杂质分散到半导体衬底和其它元件中，并防止由于二氧化硅膜而在衬底的晶体中引起缺陷。

    Quarzglaskörper für ein optisches Bauteil und Verfahren zu seiner Herstellung
    18.
    发明公开
    Quarzglaskörper für ein optisches Bauteil und Verfahren zu seiner Herstellung 有权
    用于光学元件的石英玻璃体及其制造方法

    公开(公告)号：EP1101741A3

    公开(公告)日：2001-10-31

    申请号：EP00123504.3

    申请日：2000-10-27

    Applicant: Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG

    Inventor： Uebbing, Bruno, Dr. ,  Vydra, Jan, Dr.

    IPC: C03C3/06 ,  C03B19/14 ,  C03C4/00

    CPC classification number: C03C4/0085 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/075 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/06 ,  C03C2201/08 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  Y10S65/08 ,  Y10S65/16 ,  Y10S501/905

    Abstract: Die Erfindung betrifft einen Quarzglaskörper für ein optisches Bauteil für die Übertragung ultravioletter Strahlung einer Wellenlänge von 250 nm und kürzer, insbesondere für eine Wellenlänge von 157 nm, sowie ein Verfahren zur Herstellung des Quarzglaskörpers, wobei feine Quarzglasteilchen durch Flammenhydrolyse einer Siliziumverbindung gebildet, abgeschieden und verglast werden. Die Eignung eines Quarzglases im Sinne hoher Grundtransmission und Strahlenbeständigkeit hängt von seinen strukturellen Eigenschaften, die durch lokale Stöchiometrieabweichungen verursacht sind, und von seiner chemischen Zusammensetzung ab. Der erfindungsgemäße Quarzglaskörper zeichnet sich durch eine uniforme (relative Änderung der Grundtransmission ≤ 1%) Grundtransmission im Wellenlängenbereich zwischen 155 nm und 250 nm (Durchstrahlungslänge 10 mm) von mindestens 80 %, geringem OH-Gehalt (kleiner 10 Gew.-ppm) und eine im wesentlichen von Sauerstoffdefektstellen freie Glasstruktur aus. Ein derartiger Quarzglaskörper wird mit einem Verfahren hergestellt, das den volumenmäßigen Einbau von Sauerstoff oder Wasserstoff in das Glasnetzwerk ermöglicht, indem der noch vor dem Verglasen eine Heißbehandlung in mindestens 2 Teilschritten im Temperaturbereich von 850°C bis 1600°Cerfolgt, wobei der letzte Teilschritt eine Sinterung in einem Temperaturbereich zwischen 1300°C und 1600 °C unter einer Atmosphäre, die Wasserstoff oder Sauerstoff oder eine Kombination dieser Stoffe als nicht zündfähiges Gemisch enthält, umfasst.

    Abstract translation: 本发明涉及一种石英玻璃体的光学部件，用于发送为250nm和更短的波长的紫外辐射，特别是对于157纳米的波长，并且用于制造石英玻璃体，其特征在于，石英玻璃的微粒形成的，沉积并通过硅化合物的火焰水解玻璃化的方法 是。 在高的基站传输和耐辐射性的意义上的石英玻璃的适用性取决于由本地Stöchiometrieabweichungen引起的，其化学成分及其结构特性。 根据本发明的石英玻璃体的特征在于均匀的（在基本传输相对变化≤1％）在155纳米和250纳米（传输长度10mm）的至少80％，低OH含量（小于10重量ppm）之间的波长范围基本透射和 基本上不含氧缺陷位点的玻璃结构。 这样的石英玻璃体由一种能够在玻璃网络中的氧气或氢气的体积掺入由釜之前的温度范围内的850℃内至少2个分步骤至玻璃化的热处理至1600℃Cerfolgt，最后一个子步骤中的制备 烧结包括：在1300℃和1600℃之间的温度范围内含有氢或氧或作为包含非可燃混合物，这些物质的组合的气氛下进行。

    Quarzglaskörper für ein optisches Bauteil und Verfahren zu seiner Herstellung
    19.
    发明公开
    Quarzglaskörper für ein optisches Bauteil und Verfahren zu seiner Herstellung 有权
    石英玻璃体用于其制备的光学元件和方法

    公开(公告)号：EP1101741A2

    公开(公告)日：2001-05-23

    申请号：EP00123504.3

    申请日：2000-10-27

    Applicant: Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG

    Inventor： Uebbing, Bruno, Dr. ,  Vydra, Jan, Dr.

    IPC: C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00

    CPC classification number: C03C4/0085 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/03 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/075 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/06 ,  C03C2201/08 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  Y10S65/08 ,  Y10S65/16 ,  Y10S501/905

    Abstract: Die Erfindung betrifft einen Quarzglaskörper für ein optisches Bauteil für die Übertragung ultravioletter Strahlung einer Wellenlänge von 250 nm und kürzer, insbesondere für eine Wellenlänge von 157 nm, sowie ein Verfahren zur Herstellung des Quarzglaskörpers, wobei feine Quarzglasteilchen durch Flammenhydrolyse einer Siliziumverbindung gebildet, abgeschieden und verglast werden. Die Eignung eines Quarzglases im Sinne hoher Grundtransmission und Strahlenbeständigkeit hängt von seinen strukturellen Eigenschaften, die durch lokale Stöchiometrieabweichungen verursacht sind, und von seiner chemischen Zusammensetzung ab. Der erfindungsgemäße Quarzglaskörper zeichnet sich durch eine uniforme (relative Änderung der Grundtransmission ≤ 1%) Grundtransmission im Wellenlängenbereich zwischen 155 nm und 250 nm (Durchstrahlungslänge 10 mm) von mindestens 80 %, geringem OH-Gehalt (kleiner 10 Gew.-ppm) und eine im wesentlichen von Sauerstoffdefektstellen freie Glasstruktur aus. Ein derartiger Quarzglaskörper wird mit einem Verfahren hergestellt, das den volumenmäßigen Einbau von Sauerstoff oder Wasserstoff in das Glasnetzwerk ermöglicht, indem der noch vor dem Verglasen eine Heißbehandlung in mindestens 2 Teilschritten im Temperaturbereich von 850°C bis 1600°Cerfolgt, wobei der letzte Teilschritt eine Sinterung in einem Temperaturbereich zwischen 1300°C und 1600 °C unter einer Atmosphäre, die Wasserstoff oder Sauerstoff oder eine Kombination dieser Stoffe als nicht zündfähiges Gemisch enthält, umfasst.

    Abstract translation: 石英玻璃体的玻璃结构基本上没有氧缺陷位点和至少80％的在155至250nm的波长区域中的基站传输在通过辐射的10毫米的长度。 基地传输的相对变化在于在遍布全身的可利用表面的最大的百分之一。 因此独立claimsoft包括用于生产石英玻璃主体，其包括水解在一种产生火焰的细石英玻璃颗粒的硅化合物的工序; 沉积所述颗粒在载体上形成多孔体; 和热在850-1600度治疗身体在两个步骤C，所述负载的步骤包括在气氛含有氢气或氧气作为非可燃混合物在1300-1600摄氏度烧结。

    FASEROPTISCHE STREUEINRICHTUNG UND HERSTELLUNGSVERFAHREN DAFÜR
    20.
    发明公开
    FASEROPTISCHE STREUEINRICHTUNG UND HERSTELLUNGSVERFAHREN DAFÜR 审中-公开
    光纤扩散装置及其制造方法

    公开(公告)号：EP3184885A1

    公开(公告)日：2017-06-28

    申请号：EP15201956.8

    申请日：2015-12-22

    Applicant: Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG

    Inventor： SCHENK, Christian ,  SCHEICH, Gerrit ,  TSCHOLITSCH, Nadine

    IPC: F21V8/00 ,  G02B6/26 ,  G02B5/02

    CPC classification number: G02B6/0008 ,  A61B2018/2261 ,  C03C3/06 ,  C03C13/045 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/08 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/10 ,  G02B5/0247 ,  G02B5/0268 ,  G02B6/00 ,  G02B6/262

    Abstract: Bei faseroptischen Streueinrichtungen wird über eine Lichtleitfaser aus Quarzglas Licht zu einem an einem distalen Endbereich der Lichtleitfaser vorgesehenen Diffusor übertragen. Der Diffusor enthält Streuzentren. Zur Erzeugung des Diffusors ist es bekannt, auf dem distalen Faserende der Lichtleitfaser eine Streumasse aufzubringen und diese zu dem Diffusor zu verfestigen. Um davon ausgehend ein Verfahren zur kostengünstigen und zuverlässigen Herstellung einer derartigen faseroptischen Streueinrichtung anzugeben, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass das Aufbringen der Streumasse folgende Verfahrensschritte umfasst
    (a) Bereitstellen einer SiO 2 -Körnung, die amorphe SiO 2 -Teilchen enthält und die zu mindestens 90 Gew.-% aus SiO 2 besteht,
    (b) Bereitstellen eines Hohlkörpers aus Glas mit einer Hohlraumwandung, die einen nach außen offenen Hohlraum umgibt,
    (c) Bilden einer Schüttung der SiO 2 -Körnung in dem Hohlraum und Einbringen des Faserendes in den Hohlraum, so dass mindestens ein Teil des Faserendes in die Schüttung hineinragt,
    (d) thermisches Verdichten der Schüttung unter Ausbildung einer porenhaltigen und zu mindestens 90 Gew.-% aus SiO 2 bestehenden Sintermasse, die mindestens teilweise von einer Glashülle umgeben ist.

    Abstract translation: 在光纤散射体中，光通过石英玻璃光纤传输到设置在光纤远端部分的扩散器。 扩散器包含散射中心。 为了制造漫射器，已知将散射质量施加到光纤的远端光纤端并固化它以形成漫射器。 为了此基础上提供廉价和可靠的生产这样的光纤散射装置的方法，本发明提出的是，分散体的质量的沉积方法包括以下步骤（a）提供含有无定形的SiO 2颗粒和至少90重量％的SiO 2系的谷物。 （b）提供具有围绕向外敞开的空腔的空腔壁的玻璃空心体;（c）在空腔中形成SiO 2颗粒床并将光纤端插入空腔中，使得至少 光纤端部的一部分突出到床，（d）热压缩所述填料，以形成多孔的，并且包括至少90重量的SiO 2的烧结质量％，其至少部分地由玻璃外壳包围。

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