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    MOULDED BODY MADE OF QUARTZ GLASS AND PROCESS FOR THE MANUFACTURE THEREOF
    15.
    发明申请
    MOULDED BODY MADE OF QUARTZ GLASS AND PROCESS FOR THE MANUFACTURE THEREOF 审中-公开
    状体由石英玻璃及其制造方法成型体由石英玻璃

    公开(公告)号：WO1995013248A1

    公开(公告)日：1995-05-18

    申请号：PCT/EP1994003722

    申请日：1994-11-10

    Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH ,  ENGLISCH, Wolfgang ,  MORITZ, Stephan ,  HELLMANN, Dietmar

    Inventor： HERAEUS QUARZGLAS GMBH

    IPC: C03B19/06

    CPC classification number: C03C17/02 ,  B22C9/12 ,  C03B19/06 ,  C03B19/066 ,  C03B20/00 ,  C03B2201/23 ,  C03C3/06 ,  C03C11/00 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/52 ,  C30B35/002 ,  G01J1/429 ,  Y10T428/131 ,  Y10T428/1317

    Abstract: Moulded bodies made of quartz glass with at least one surface region of tranparent quartz glass, whose free surfaces are smooth and which have a superficial microroughness of less than 8 mu m, are already known. To facilitate production of such a body having a simple structure, cost-effectively and without the need for the stocking or separate production of auxiliary components, it will consist of a core body, the base material of which is at least 99.9 % chemically pure and has a cristobalite content of no more than 1 %; is impermeable to gases, opaque, and porous, has a virtually constant direct spectral transmission in the wavelength range lambda = 190 nm - lambda = 2.650 nm of below 10 % for 1 mm of thickness, and has a density of at least 2.15 g/cm . The transparent surface region is formed from the base material which is heat treated at a temperature in excess of 1.650 DEG C, is at least 0.5 mm thick and has a direct spectral transmission of at least 60 % in the wavelength range lambda = 600 nm - lambda = 2.650 nm for 1 mm of thickness. The invention also relates to process for manufacturing a moulded body of this type from quartz glass.

    Abstract translation: 有由石英玻璃制成的模制品，其具有由透明的石英玻璃的至少一个表面部分，所述自由表面是平滑的并具有小于8微米一个Oberflächenmikrorauhigkeit，是已知的。 为了提供这种类型的，其具有简单的结构和它的生产是便宜的，并且避免了存储或独立的生产附加部件的成型体，它包括一个基体，其基体材料具有至少99.9％的化学纯度和至多一个方石英含量的 1％已，是不透气的和不透明的，包含孔，其特征在于，壁厚为1mm，在10％以下几乎恒定躺在的波长范围内的λ= 190nm至拉姆达的直接光谱透射=具有2650纳米，至少2.15的密度 克/厘米<3>，和所述透明表面部分的波长范围内的λ的热处理在高于1650℃的基底材料的温度时，它的厚度为至少0.5毫米，它的直接光谱透射在1mm的层厚度形成 = 600nm至2650纳米的λ=具有至少60％的值。 此外，本发明涉及一种用于制造石英玻璃这样的模塑制品的方法。

    不透明石英ガラスおよびその製造方法
    16.
    发明申请
    不透明石英ガラスおよびその製造方法 审中-公开
    OPAQUE QUARTZ玻璃及其生产方法

    公开(公告)号：WO2015122517A1

    公开(公告)日：2015-08-20

    申请号：PCT/JP2015/054129

    申请日：2015-02-16

    Applicant: 東ソー株式会社

    Inventor： 平井聡里 ,  山田修輔 ,  新井一喜

    IPC: C03B20/00 ,  C03C11/00

    CPC classification number: C03C11/00 ,  C03B19/066 ,  C03B19/08 ,  C03B2201/03 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/02 ,  C03C2201/80 ,  C03C2204/06

    Abstract: 　吸水性がなく、かつ赤外光の遮光性に優れる不透明石英ガラス及びその製造方法を提供する。　本発明は、不透明石英ガラスにおいて、微細な非晶質シリカ粉末と造孔剤を混合ののち成形し、所定の温度で加熱することによって、含まれる気孔が閉気孔であると共に、気孔の平均径が５～２０μｍであり、気孔の含有密度が高く、よって熱遮断性に優れた不透明石英ガラスとなる。

    Abstract translation: 提供：一种不透光石英玻璃，对于红外光具有优异的遮光性能，并且不具有吸水性; 及其制造方法。 通过混合微细的无定形二氧化硅粉末和成孔剂，然后将结果成型并在预定温度下加热，得到不透明的石英玻璃，其中包含的空气腔是封闭的空气腔，平均直径 的空气腔是5-20μm，并且包含的​​空气腔的密度高，导致优异的隔热性能。

    QUARTZ GLASS BODY AND A METHOD AND GEL BODY FOR PRODUCING A QUARTZ GLASS BODY
    19.
    发明申请
    QUARTZ GLASS BODY AND A METHOD AND GEL BODY FOR PRODUCING A QUARTZ GLASS BODY 审中-公开
    QUARTZ玻璃体和用于生产QUARTZ玻璃体的方法和凝胶体

    公开(公告)号：US20130085056A1

    公开(公告)日：2013-04-04

    申请号：US13687337

    申请日：2012-11-28

    Applicant: QSIL GmbH Quarzschmelze Ilmenau

    Inventor： Thomas KREUZBERGER

    IPC: C03B20/00 ,  C03C3/00 ,  C03C1/00

    CPC classification number: C03B20/00 ,  C03B19/12 ,  C03C1/006 ,  C03C3/00 ,  C03C11/00 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/22

    Abstract: A method for producing a quartz glass body from a get body is provided, wherein the gel body generated from a colloidal suspension is at least formed and compressed into the quartz glass body Displacement bodies are added to the colloidal suspension prior to gelating into the gel body, and are completely removed from the gel body after gelating, wherein hollow spaces are generated at the positions of the removed displacement bodies, so that a translucent or opaque quartz glass body is generated. Further, a gel body for producing a quartz glass body is provided, wherein displacement bodies are introduced into the gel body that can be completely removed from the gel body, so that hollow spaces arise at the positions of the displacement bodies. A quartz glass body is also provided that includes vacuoles or hollow spaces filled with gas.

    Abstract translation: 提供了一种从吸收体制造石英玻璃体的方法，其中由胶体悬浮体产生的凝胶体至少形成并压缩成石英玻璃体在将凝胶体凝胶化之前，向胶态悬浮体中加入位移体 并且在凝胶化之后从凝胶体完全除去，其中在去除的位移体的位置处产生中空空间，从而产生半透明或不透明的石英玻璃体。 此外，提供了一种用于制造石英玻璃体的凝胶体，其中将位移体引入凝胶体中，其可以从凝胶体完全除去，使得在位移体的位置处产生中空空间。 还提供了一种石英玻璃体，其包括充满气体的空泡或中空空间。

    VITREOUS SILICA CRUCIBLE FOR PULLING SINGLE-CRYSTAL SILICON AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
    20.
    发明申请
    VITREOUS SILICA CRUCIBLE FOR PULLING SINGLE-CRYSTAL SILICON AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME 有权
    用于拉伸单晶硅的紫外可溶性硅及其制造方法

    公开(公告)号：US20100236473A1

    公开(公告)日：2010-09-23

    申请号：US12303147

    申请日：2008-09-29

    Applicant: Hiroshi Kishi

    Inventor： Hiroshi Kishi

    IPC: C30B15/10 ,  C03C10/00

    CPC classification number: C30B15/10 ,  C03C3/06 ,  C03C19/00 ,  C03C2201/80 ,  C03C2203/10 ,  C03C2204/08 ,  C30B35/002 ,  Y10T117/10 ,  Y10T117/1024 ,  Y10T117/1032

    Abstract: In order to provide a vitreous silica crucible which does not employ a crystallization accelerator but is difficult to deform during its use even under high temperature, and is easily manufactured, there is provided a vitreous silica crucible for pulling single-crystal silicon wherein the outer surface layer is formed of a bubble-containing vitreous silica layer, the inner surface layer is formed of a vitreous silica layer whose bubbles are invisible to the naked eye, a surface of the outer surface layer includes an unmelted or half-melted silica layer (abbreviated as a half-melted silica layer), and the center line average roughness (Ra) of the half-melted silica layer is 50 to 200 μm, also preferably, and the thickness of the half-melted silica layer is 0.5 to 2.0 mm.

    Abstract translation: 为了提供即使在高温下使用结晶促进剂也难以变形的石英玻璃坩埚，容易制造，提供了一种用于拉拔单晶硅的玻璃状石英坩埚，其中外表面 层由含气泡的玻璃状二氧化硅层形成，内表面层由气泡对肉眼不可见的玻璃状二氧化硅层形成，外表面层的表面包含未熔融或半熔融的二氧化硅层（缩写为 作为半熔融二氧化硅层），半熔融二氧化硅层的中心线平均粗糙度（Ra）优选为50〜200μm，半熔融二氧化硅层的厚度为0.5〜2.0mm。

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