公开(公告)号：US3899313A

公开(公告)日：1975-08-12

申请号：US37401773

申请日：1973-06-27

Applicant: SIEMENS AG

Inventor： GRABMAIER JOSEF ,  PLAETTNER ROLF

IPC: C03B37/014 ,  C03B37/012 ,  C03B37/018 ,  G02B6/00 ,  C03C25/02

CPC classification number: C03B37/01265 ,  C03B37/01277 ,  C03B37/018 ,  C03B2201/02 ,  C03B2201/42

Abstract: A glass fiber having a central core formed of material having a relatively high index of refraction and an outer casing formed of material having a relatively low index of refraction is formed with perfect contact between the core and casing by forming a coating of casing material on the core and permitting the coating to harden. The coating may be applied by immersing the core material in a bath of casing material, by drawing the core material vertically through a bath of the casing material, or by drawing the core material in a horizontal direction under a vertical column of casing material while twisting said core material.

公开(公告)号：US3791714A

公开(公告)日：1974-02-12

申请号：US3791714D

申请日：1972-03-30

Applicant: CORNING GLASS WORKS

Inventor： MAURER R

IPC: C03B37/018 ,  C03B19/14 ,  C03B32/00 ,  C03B37/014 ,  C03C3/00 ,  C03C13/04 ,  G02B6/00 ,  G02B6/10 ,  G02B5/14 ,  C03C15/00 ,  C03C25/02

CPC classification number: G02B6/102 ,  C03B19/1415 ,  C03B32/00 ,  C03B37/01413 ,  C03B2201/22 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/86 ,  C03C3/00 ,  C03C13/047 ,  Y10S65/90

Abstract: Deuterium is used instead of hydrogen in a process for producing glass having low hydroxyl ion content. In a flame hydrolysis process deuterium gas, or a deuterium compound gas, is passed through a liquid containing a silicon compound such as silicon tetrachloride. The resulting vapor is burned to deposit a film of silicon dioxide on a rotating mandrel. Glass produced in this manner is particularly suitable for use as optical waveguides. The hydroxyl ion normally present in glass produced in the presence of hydrogen is replaced by the deuterium containing ion OD . Absorption peaks normally caused by the presence of the hydroxyl ions are shifted to longer wavelengths at which the absorptions are not troublesome when the waveguide is used to transmit light in the band of approximately 7,000A.

Abstract translation: 在制造具有低羟基离子含量的玻璃的方法中，使用氘代替氢。 在火焰水解过程中，氘气或氘化合物气体通过含有硅化合物如四氯化硅的液体。 所形成的蒸汽被燃烧以在旋转的心轴上沉积二氧化硅膜。 以这种方式制造的玻璃特别适用于光波导。 通常存在于在氢存在下生产的玻璃中的羟基离子被含有氘的离子OD - 代替。 通常由羟基离子的存在引起的吸收峰被转移到更长的波长，在该波长处，当波导用于在约7,000A的频带中透射光时，吸收不是麻烦的。

公开(公告)号：US3486913A

公开(公告)日：1969-12-30

申请号：US3486913D

申请日：1968-04-11

Applicant: BAYER AG

Inventor： ZIRNGIBL HANS ,  GUTSCHE WALTER ,  BRANDLE KARL

IPC: C01B13/22 ,  C01B33/18 ,  C01B33/12 ,  C01F7/02 ,  C08H17/24 ,  C09C1/00

CPC classification number: C01B33/183 ,  C01B13/22 ,  C01P2004/62 ,  C01P2006/60 ,  C01P2006/80 ,  C03B19/106 ,  C03B2201/30 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/42 ,  C03B2201/54

公开(公告)号：US2326059A

公开(公告)日：1943-08-03

申请号：US26949739

申请日：1939-04-22

Applicant: CORNING GLASS WORKS

Inventor： NORDBERG MARTIN E

IPC: C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03C3/083 ,  C03C4/00

CPC classification number: C03B19/1453 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1492 ,  C03B2201/42 ,  C03B2207/87 ,  C03B2207/90 ,  C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03C3/083 ,  C03C4/005 ,  Y10S425/121

公开(公告)号：WO2016154190A1

公开(公告)日：2016-09-29

申请号：PCT/US2016/023557

申请日：2016-03-22

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： ANNAMALAI, Sezhian

IPC: C03C10/00 ,  B32B17/00 ,  B32B19/00 ,  C03C27/06 ,  C03B23/20 ,  C03B23/203 ,  G02B5/08 ,  C03C3/06

CPC classification number: C03C10/0009 ,  B32B3/28 ,  B32B5/16 ,  B32B5/30 ,  B32B7/04 ,  B32B17/06 ,  B32B37/04 ,  B32B2260/025 ,  B32B2260/04 ,  B32B2264/101 ,  B32B2264/102 ,  B32B2264/12 ,  B32B2307/30 ,  B32B2307/416 ,  B32B2307/704 ,  B32B2307/732 ,  B32B2551/00 ,  C03B19/066 ,  C03B23/203 ,  C03B32/02 ,  C03B2201/06 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C3/076 ,  C03C27/06 ,  C03C2201/10 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/28 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/50 ,  C03C2203/52 ,  C03C2204/00 ,  G02B1/00 ,  G02B5/0891 ,  G03F1/60

Abstract: A glass composite for use in Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) is provided. The glass composite includes a first silica-titania glass section. The glass composite further includes a second doped silica-titania glass section mechanically bonded to a surface of the first silica-titania glass section, wherein the second doped silica-titania glass section has a thickness of greater than about 1.0 inch.

Abstract translation: 提供了一种用于极光紫外光刻（EUVL）的玻璃复合材料。 玻璃复合材料包括第一二氧化硅 - 二氧化钛玻璃部分。 所述玻璃复合物还包括机械地结合到所述第一二氧化硅 - 二氧化钛玻璃部分的表面的第二掺杂二氧化硅 - 二氧化钛玻璃部分，其中所述第二掺杂二氧化硅 - 二氧化钛玻璃部分具有大于约1.0英寸的厚度。

公开(公告)号：WO2016130604A1

公开(公告)日：2016-08-18

申请号：PCT/US2016/017230

申请日：2016-02-10

Applicant: CORNING INCORPORATED

Inventor： ANNAMALAI, Sezhian ,  DURAN, Carlos Alberto ,  HRDINA, Kenneth Edward ,  ROSCH, William Rogers

IPC: C03C23/00 ,  C03C4/00 ,  C03C3/076 ,  C03C3/089 ,  C03C3/115

CPC classification number: C03C3/076 ,  C03B19/12 ,  C03B19/1453 ,  C03B25/00 ,  C03B25/02 ,  C03B2201/10 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C3/089 ,  C03C3/112 ,  C03C23/007 ,  C03C2201/10 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/14 ,  C03C2203/52

Abstract: Annealing treatments for modified titania-silica glasses and the glasses produced by the annealing treatments. The annealing treatments include an isothermal hold that facilitates equalization of non-uniformities in fictive temperature caused by non-uniformities in modifier concentration in the glasses. The annealing treatments may also include heating the glass to a higher temperature following the isothermal hold and holding the glass at that temperature for several hours. Glasses produced by the annealing treatments exhibit high spatial uniformity of CTE, CTE slope, and fictive temperature, including in the presence of a spatially non-uniform concentration of modifier.

Abstract translation: 改性二氧化钛 - 二氧化硅玻璃和通过退火处理制备的玻璃的退火处理。 退火处理包括促进由玻璃中改性剂浓度不均匀引起的虚构温度不均匀性均衡的等温保持。 退火处理还可以包括在等温保持之后将玻璃加热到更高的温度，并将玻璃保持在该温度下几个小时。 通过退火处理生产的玻璃表现出CTE，CTE斜率和假想温度的高空间均匀性，包括在存在空间不均匀的改性剂浓度的情况下。

公开(公告)号：WO2015043957A1

公开(公告)日：2015-04-02

申请号：PCT/EP2014/069302

申请日：2014-09-10

Applicant: HERAEUS QUARZGLAS GMBH & CO. KG

Inventor： BECKER, Klaus ,  THOMAS, Stephan

IPC: C03C3/06 ,  C03B19/14 ,  G02B5/08 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70958 ,  C03B19/1415 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/00 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/42 ,  G02B5/0891 ,  G02B7/008

Abstract: Die vorliegende Erfindung betrifft ein Substrat für einen EUV-Spiegel, das einen von der statistischen Verteilung abweichenden Verlauf der Nulldurchgangstemperatur aufweist. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines Substrates für einen EUV-Spiegel und dessen Verwendung, wobei der Verlauf der Nulldurchgangstemperatur im Substrat der Betriebstemperatur des Spiegels angepasst ist sowie ein Lithographieverfahren unter Verwendung eines solchen Substrates.

Abstract translation: 本发明涉及一种基板的EUV反射镜，其具有从过零温度具有当然的统计分布的偏差。 此外，本发明涉及一种用于EUV反射镜的制造衬底的方法，它的使用，其中，所述过零温度的过程中的反射镜的操作温度的基板，以及使用这样的衬底上的光刻工艺被调节。

公开(公告)号：WO2015022966A1

公开(公告)日：2015-02-19

申请号：PCT/JP2014/071329

申请日：2014-08-12

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 小野　円佳 ,  伊藤　節郎 ,  本間　脩 ,  網野　陽介

IPC: C03B37/15 ,  C03B20/00 ,  C03B37/10

CPC classification number: C03B25/02 ,  C03B19/1453 ,  C03B32/005 ,  C03B37/02727 ,  C03B2201/04 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/42 ,  C03B2205/56 ,  C03C3/06 ,  Y02P40/57

Abstract: 　光通信用ファイバの材料に好適な低散乱シリカガラスを提供する。　仮想温度が１０００℃以上であって、陽電子消滅寿命法によって観測される空隙半径が０．２４０ｎｍ以下であるシリカガラス。熱処理されるシリカガラスを１２００℃以上２０００℃以下の温度、かつ３０ＭＰａ以上の圧力の雰囲気下に保持し、ついで冷却する際に、１２００℃から９００℃までの温度範囲を、４０℃／分以上の平均降温速度で冷却するシリカガラスの熱処理方法。熱処理されるシリカガラスを１２００℃以上２０００℃以下の温度、かつ１４０ＭＰａ以上の圧力の雰囲気下に保持し、ついで冷却する際に、１２００℃から９００℃までの温度範囲を、１４０ＭＰａ以上の圧力の雰囲気下に冷却するシリカガラスの熱処理方法。

Abstract translation: 提供了适合作为光通信光纤的材料的低散射二氧化硅玻璃。 通过正电子湮没寿命法观察到的具有1000℃以上的假想温度并且具有0.240nm以下的孔半径的石英玻璃。 一种用于热处理石英玻璃的方法，所述方法包括在温度范围为1200〜2000℃，压力为30MPa以上的气氛下保持待热处理的石英玻璃，然后冷却石英玻璃，其中， 将石英玻璃从1200℃冷却至900℃的工序以40℃/分钟以上的平均降温速度进行。 一种用于热处理石英玻璃的方法，所述方法包括在温度范围为1200至2000℃，压力为140MPa或更高的气氛下保持待热处理的石英玻璃，然后冷却石英玻璃，其中 将二氧化硅玻璃从1200℃冷却至900℃的工序在140MPa以上的气氛下进行。

公开(公告)号：WO2014099645A1

公开(公告)日：2014-06-26

申请号：PCT/US2013/074902

申请日：2013-12-13

Applicant: CORNING INCORPORATED ,  BILLINGS, Amanda Lee ,  DEPAOR, Liam Ruan de Paor ,  DESORCIE, Robert Brett ,  KNOWLTON, Robert Arnold ,  TANDON, Pushkar

Inventor： BILLINGS, Amanda Lee ,  DEPAOR, Liam Ruan de Paor ,  DESORCIE, Robert Brett ,  KNOWLTON, Robert Arnold ,  TANDON, Pushkar

IPC: C03B37/014

CPC classification number: C03B37/01446 ,  C03B37/014 ,  C03B37/01413 ,  C03B37/01453 ,  C03B2201/08 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/28 ,  C03B2201/31 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/42 ,  C03B2203/22 ,  C03B2207/36 ,  G02B6/036

Abstract: Methods for forming optical fiber preforms are disclosed. According to one embodiment, a method for forming an optical fiber preform includes forming a preform core portion from silica-based glass soot. The silica-based glass soot may include at least one dopant species for altering an index of refraction of the preform core portion. A selective diffusion layer of silica-based glass soot may be formed around the preform core portion to form a soot preform. The selective diffusion layer may have an as-formed density greater than the density of the preform core portion. A diffusing species may be diffused through the selective diffusion layer into the preform core portion. The soot preform may be sintered such that the selective diffusion layer has a barrier density which is greater than the as-formed density and the selective diffusion layer prevents diffusion of the at least one dopant species through the selective diffusion layer.

Abstract translation: 公开了形成光纤预制棒的方法。 根据一个实施例，用于形成光纤预制棒的方法包括从二氧化硅基玻璃烟炱形成预制芯部分。 二氧化硅基玻璃烟炱可以包括至少一种用于改变预制核心部分的折射率的掺杂物种类。 二氧化硅基玻璃烟炱的选择性扩散层可以在预制核心部分周围形成，以形成烟炱预制件。 选择性扩散层可以具有大于预制核心部分的密度的形成密度。 扩散物质可以通过选择性扩散层扩散到预制核心部分中。 烟炱预制件可以烧结，使得选择性扩散层具有大于形成密度的势垒密度，并且选择性扩散层防止至少一种掺杂剂物质通过选择性扩散层的扩散。

公开(公告)号：WO2014085529A1

公开(公告)日：2014-06-05

申请号：PCT/US2013/072146

申请日：2013-11-27

Applicant: CORNING INCORPORATED ,  ANNAMALAI, Sezhian ,  DURAN, Carlos, Alberto ,  HRDINA, Kenneth, Edward

Inventor： ANNAMALAI, Sezhian ,  DURAN, Carlos, Alberto ,  HRDINA, Kenneth, Edward

IPC: C03C3/06 ,  C03B19/14 ,  C03C4/00

CPC classification number: G03F1/22 ,  C03B19/12 ,  C03B19/1461 ,  C03B2201/075 ,  C03B2201/12 ,  C03B2201/20 ,  C03B2201/23 ,  C03B2201/32 ,  C03B2201/40 ,  C03B2201/42 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2201/32 ,  C03C2201/40 ,  C03C2201/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/54

Abstract: The present disclosure is directed to a doped silica-titania glass, DST glass, consisting essentially of 0.1 wt.% to 5 wt.% halogen, 50 ppm-wt. to 6 wt.% of one or more oxides of Al, Ta and Nb, 3 wt.% to 10 wt.% TiO 2 and the remainder SiO 2 . In an embodiment the halogen content can be in the range of 0.2 wt.% to 3 wt.% along with 50 ppm-wt. to 6 wt.% one or more oxides of Al, Ta and Nb, 3 wt.% to 10 wt.% TiO 2 and the remainder SiO 2 . In an embodiment the DST glass has an OH concentration of less than 100 ppm. In another embodiment the OH concentration is less than 50 ppm. The DST glass has a Active temperature T f of less than 875°C. In an embodiment T f is less than 825°C. In another embodiment T f is less than 775°C.

Abstract translation: 本公开涉及掺杂的二氧化硅 - 二氧化钛玻璃DST玻璃，其基本上由0.1重量％至5重量％的卤素组成，50重量ppm。 至6重量％的一种或多种Al，Ta和Nb的氧化物，3重量％至10重量％的TiO 2，余量为SiO 2。 在一个实施方案中，卤素含量可以在0.2重量％至3重量％的范围内以及50ppm重量的范围内。 至6重量％的一种或多种Al，Ta和Nb的氧化物，3重量％至10重量％的TiO 2，余量为SiO 2。 在一个实施方案中，DST玻璃的OH浓度小于100ppm。 在另一个实施方案中，OH浓度小于50ppm。 DST玻璃的活性温度Tf小于875℃。 在一个实施方案中，Tf小于825℃。 在另一个实施方案中，Tf小于775℃。